DE3214369C2 - Verfahren zur Herstellung eines Gleichrichters; Vorzugsweise aus Titandioxid - Google Patents
Verfahren zur Herstellung eines Gleichrichters; Vorzugsweise aus TitandioxidInfo
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Gleichrichterschaltelementen aus Titandioxid. Der Hauptkörper aus Titandioxid wird mit einem Paar im Abstand befindlichen Flächen ausgebildet, von denen jede eine Platinelektrode aufweist. Eine Gleichstromspannung wird über diesen Aufbau angelegt und der Aufbau auf eine Temperatur von etwa 750 bis 850 ° C erhitzt. Innerhalb dieses Temperaturbereiches unterliegt der Titandioxidkörper einer cyclischen Reihenfolge an Aussetzungen an oxidierende und reduzierende Atmosphären. Die abschließende Stufe umfaßt die Abkühlung des Titandioxidkörpers in Gegenwart einer reduzierenden Atmosphäre mit einem angelegten elektrischen Gleichstromfeld.
Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung eines Gleichrichters mit den im Oberbegriff
des Patentanspruchs 1 erläuterten Verfahrensstufen.
Aus der GB-PS 7 33 267 ist ein Verfahren zur Herstellung
eines Gleichrichters dieser Art bekannt. Dieser Gleichrichter besteht aus einem Hauptkörper aus Titandioxid
mit zwei Im Abstand befindlichen Fäden, die ja
mit einer Kontaktelektrode versehen sind, von denen eine aus Platin besteht. Bei diesem Verfahren wird der
Titandioxidkörper unter Anwendung einer oxidierenden Atmosphäre bei einer Temperatur von 600 bis 800s C auf
einer Titanplatte;:erzeugt,;wlrd:-anschlleßend;einer reduzierenden
Atmosphäre ausgesetzt und nach einer Abkühlung wird dann die Platinkontaktelektrode aufgebracht.
Bei diesem bekannten Verfahren werden für die Behandlungsstufen In einer oxidierenden Atmosphäre
und In einer reduzierenden Atmosphäre Insgesamt etwa
zwei bis vier Stunden benötigt.
Die Aufgabe der Erfindung Ist es, ein Verfahren zur
Herstellung eines Gleichrichters der eingangs genannten Art, der für Anwendungen im Hochtemperaturbereich
geeignet Ist, derart zu verbessern, daß ein geringerer Zeltaufwand
für das Verfahren erzielt wird. Gemäß der Erfindung wird diese Aufgabe gelöst,
indem bei einem Verfahren zur Herstellung eines Gleichrichters gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1,
die im Kennzeichentefl des Patentanspruchs 1 genannten Verfahrensstufen durchgeführt werden.
Bei dem aus der GB-PS 7 33 267 bekannten Gleichrichter Hegt ein asymmetrischer Aufbau hlnslchtiich der
Wahl der Elektrodenmaterialien vor. Die Ursache der Gleichrichtung läßt sich in Form von Schottky-Grenzrichten
zwischen dem Halbleiterkeramikmaterial und einer unterschiedlichen Elektrode beschreiben.
Demgegenüber wird gemäß der Erfindung ein Gleichrichter mit symmetrischem Aufbau bezüglich des Elektrodenmaterials,
das am Hauptkörper aus Titandioxid befestigt Ist, erzielt. Ferner ist im Gegensatz zu der durch
Schottky-Grenzrichten verursachten Gleichrichtung die Ursache der Gleichrichtung bei dem gemäß der Erfindung
hergestellten Gleichrichter eine tvilkrostruktur, die
sich für den Fall eines Gleichrichter aus Titandloxid mit Platin-Elektroden aus einer Kombination der folgenden
Umstände ergibt:
(1) Anwesenheit ν-·η Platin, (2) Anwesenheit eines elektrischen
Ordnungsfeldes, (3) Anwesenheit einer krlstallographischen Schererscheinung Im Titandloxid, (4) einer
Wärmebehandlung, die die Diffusion des Platins in die Rutilkörner in wesentlichen Konzentrationen und dessen
Reaktion mit dem Titan unter Bildung mikroskopischer Schichtfehlstellen aus PtTh verursacht, die als Kernbilder
entlang der krlstallographlschen Scherebenen angeordnet sein können, jedoch in epltaxlaler Beziehung zu
dem Titandloxidsubstrat in der (lOO)-Richtung wachsen.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden anhand
der Zeichnung beschrieben. In der Zeichnung stellen Flg. 1 eine graphische Wiedergabe der Stromstärke
gegenüber der Spannung eines gemäß einem Ausführungsbelsplel der Erfindung hergeaellten Gleichrichters
die FI g. 2a, 2b, 2c und 2d schematische Wiedergaben der
Strukturen eines mit Platin dotierten Tltandloxldkeramlkkörpers
während des Aufwachses einer PtTl1-Mlkrostruktur und die Flg. 3a, 3b, 3c und 3d perspektlvlsche
Wiedergaben verschiedener Stufen der Herstellung eines Gleichrichters gemäß einem Ausbildungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung dar.
Die Herstellung eines Gleichrichters gemäß eines Ausführungsbeispiels der Erfindung umfaßt die Ausblldung
von porösen feinkörnigen polykristallinen Titandioxld-Keramlkkörpern
von etwa 3 mm Durchmesser und 1 mm Dicke mit 2 feinen (200 μίτι) eingebetteten Leitern
aus Platindraht. Der Keramikkörper In den Pellets besteht aus Titandioxid In Form von Rutil, das nach
einem Verfahren hergestellt 1st, bei dem ein Keramikkörper mit einer Dichte von etwa 60% des theoretischen
Wertes und einer Korngröße Im Bereich von 2 bis 10 μΐη
hergestellt wird. Rutil, als hochreiner stöchlometrlscher Einzelkristall, 1st ein Breitbandspalthalbleiter mit einer
60, Bandspaltenergie im Bereich von 3 bis 4 eV. Falls er
"•feinem reduzierenden Gas, z. B;,-:Kohlenmonoxld oder ,
- Wasserstoff, bei hohen Temperaturen, beispielsweise
größer als etwa 400° C1 ausgesetzt wird, zeigt das Rutllmaterlal,
wenn es auf Raumtemperatur zurückkehrt, eine erhöhte Leitfähigkeit. Auf die Formel TlOx bezogen,
variieren die Werte der Leitfähigkeit Innerhalb zahlreicher Größenordnungen, wenn χ zwischen 2,00 und 1,75
variiert.
Im Hinblick auf dieses Verhalten wird TlO1 als Fehlstellenhalbleiter
betrachtet. Das heißt. Mikrostrukturen oder Fehlstellen aufgrund von Sauerstoffleerstellen
innerhalb des Materials sind für dieses Verhalten verantwortlich. Die Fehlstellen zeigen eine Neigung, sich in
planare Fehlstellenstrukturen zu organisieren, und innerhalb bestimmter Temperaturbereiche bilden sich Phasen
mit Zwischenzusammenseuungen TInO2n., und sind
stabil. Ferner Ist eine Umwandlung von Fehlsteilenstrukturen, die als »kristallographlsche Scherung« bezeichnet
wird, bekannt, die in einem TlO^-Material stattfindet.
Die kristallographlsche Scherumwandlung überführt eine planare Reihe von Sauerstoffehlstellen in eine planare
Reihe von TltanzwischensteHenlonen. Quasi-ferroelektrische
Erscheinungen wurden in Proben von mit Platin dotiertem TiO1 beobachtet. Diese quasi-ferroelektrischen
Erscheinungen sind Indikatoren, daß im mikroskopischen Ntvoau ein ähnliches Verhalten, wie es für polare
Materialien beobachtet wird, in mit Platin dotiertem TiOx
stattfinden kann. Es wird angenommen, daß das polare Verhalter, sich aufgrund der Einführung von PtTi,-Planarschichten
in die kristalline Struktur einstellt. D h., die Grenzflächenschicht zwischen dem TiO2-Rutil und
dem PtTl1 dürfte die Ursache für das polare Verbalten
sein.
Sämtliche Tltandloxld-Keramikpellets haben Platin (Pt) In Irgendeiner Form vorliegen. Die Form des in dem
Material vorliegenden Platins ist wichtig, da die Reaktion, welche zwischen Pt und TI unter bestimmten
Bedingungen stattfindet, ein festes Halbleiterkeramikmaterlal
mit einer asymmetrischen Glelchstromleltfählgkeit bildet. Das Platin in den Ausgangspellets kann lediglich
in den Leitungsdrähten vorliegen. Alternativ kann das Platin am Anfang sowohl In den Leitungsdrähten als
auch In Form von feinen Teilchen (etwa 0,1 bis 0,5 μΐη
Durchmesser), die Innerhalb des Keramikkörpers disperglert
sind, vorhanden sein.
Die spezielle Behandlung gemäß eines Ausführungsbeispiels der Erfindung, die einen Titandioxid-Keramikkörper
mit elektrischen Gleichrichtungseigenschaften bildet, umfaßt die folgenden Stufen:
(1) Die Leiter der Probe werden mit einer Quelle einer
Gleichspannung von 1 Volt verbunden, und die angelegte Spannung wird während sämtlicher nachfolgend
beschriebenen Stufen angelegt belassen.
(2) Die Probe wird auf eine Temperatur zwischen 750
und 850° C erhitzt.
(3) V/ährend sich die Probe oberhalb 750" C befindet,
beginnt eine Krelslauführung der Probe zwischen einer oxidierenden Atmosphäre (4% O2 im N2) und
einer reduzierenden Atmosphäre il% CO Im N2 oder
2% H2 im N2). Die Gesamtzelt für den vollständigen
Oxldations-Reduktions-Krelslauf beträgt etwa 4 Minuten, und du Anzahl der Kreisläufe beträgt etwa
100.
(4) Die Temperatur wird erniedrigt und die Krelslaufführung
der Probe fortgesetzt, bis eine Temperatur von etwa 600° C erreicht ist.
(5) Bei etwa 600° C wird die Kreislaufführung abgebrochen
und eine reduzierende Atmosphäre über der Probe elngestellt.jDie'Probewlrd der Abkühlung auf ' ,
Räumtemperatür In Gegenwart der !reduzierenden Atmosphäre überlassen.
Bevor diese Behandlung begonnen wird, hat ein Pellet aus einem Tltandioxld-Keyamlkkörper normalerweise
einen Widerstand von etwa 50 M Ω oder mehr und zeigt keine Asymmetrie der Leitfähigkeit. Nachdem er der
beschriebenen Behandlung unterworfen wurde, 1st die Richtung des niedrigen Widerstandes (Vorwärtsrichtung)
des Stromflusses so niedrig wie etwa 5000 £2 bei einem Widerstand in Richtung des umgekehrten Stromflusses
bis zu dem 20fach größeren Wert als in der Vorwärtsrichtung. Somit hat nach der vorstehenden Behandlung das
Material Gleichrichtungseigenschaft und eine Leitfähigkeit bei Raumtemperatur in Vorwärtsrichtung, die etwa
vier Größenordnungen größer ist als diejenige im unbehandelten Material.
Infolge der Herstellung gemäß einem Ausführungsbeispiel der Erfindung hat der Gleichrichter einen
symmetrischen Aufbau mit Platin als beide Elektroden. Die Ursache der Gleichrichtung ist auf eine Fehlstellenmikrostruktur
zurückzuführen, die sich aufgrund einer Kombination der folgenden Fälle ergibt: (i) Anwesenheit
von Platin, (Ii) Anwesenheit eines elektrischen Ordnungsfeldes, (ill) Anwesenheit der kristallographischen
Schercrscheinungen Im Titandioxid, Ov) einer Wärmebehandlung, die die Diffusion ..<:s Platins in die
Rutilkörner In wesentlichen Konzentrationen und dessen
Umsetzung mit dem Ti unter Bildung mikroskopischer Schichtfehlstellen aus PtTi, verursacht, die als Kerne
entlang kristallographischer Scherebenen vorliegen können, ;-;doch in epitaxialer Beziehung zu dem Titandioxidsubstrat
in der (lOO)-Rlchtung wachsen. Die charakteristische Kurve von Stromstärke gegenüber
Spannung (/-K-Kurve) eines Gleichrichters, die In der vorstehenden Weise hergestellt wurde, ist aus Fig. 1
ersichtlich.
Die Ausbildung der für die asymmetrische Leitfähigkeit in Titandioxid verantwortlichen mikrostrukturellen
Fehlstellen hängt von der Anwesenheit von Platin ab. Proben mit einer starken Gleichrichtereigenschaft besaßen
etwa 2% Platin In der Rutllstruktur. Das cyclische Oxidations-Reduktions-Verfahrcn verursacht, daß das
Platin mit dem Titandioxid reagiert und eine Verkleinerung
der Teilchengröße und eine Dispersion, vermulich der Platinatome, in die Rutilkristallstruktur auftritt. Das
Platin reagiert mit dem Titandioxid und bildet einen intermetallischen Niederschlag PtTIi. Dieser Nlederscfilag
wird zunächst als Wolke von feinstelligen Fehlstellen in der Titandloxidmatrix ausgebildet. Bei fortgesetzter
Krelslaufführung agglomerieren sich die PtTh-Tellchen
und bilden planare Mikrostrukturen, vermutlich unter dem Einfluß des krlstallographlschen Scherverfahrens.
Die Mikrostrukturen lassen sich als Fehlstellen In der Rutllstruktur betrachten. Die einzelnen planaren
PtTii-Fehlstellenstrukturen sind an dieser Stelle epltaxiale
Schichten von rlner Dicke von etwa 3 Ohm und zwischen den Rutilkristallstrukturen sandwichartig
eingeschichtet. Die weitere Behandlung ergibt die Au^bll^ur^g mehrschichtiger planarer Mikrostrukturen.
Die Folge der Mikrostrukturen oder Fehlstellen, die durch die cyclische Oxidatlons-Reduktions-Warmebehandlung,
wie sie Im vorstehenden Absatz beschrieben wurde, ausgebildet wird, ist in den Zeichnungen der
Fig. 2a, 2b, 2c und 2d gezeigt. Die Flg. 2a zeigt eine Gesamtansicht einer Sammlung von Körnern, die
vermutlich Infolge,tvari!erender Verunrelnlgungskonzen-■
trationen anzeig't^daß. dle'Körner'lnjvarscHieengrigtufen
der Entwicklung der Mlkrdstrüktür Fehlh'teiien sind. Die
Flg. 2d zeigt, daß sich die epitaxlalen Schichten auf den (lOO)-Flächen mit eln^r Senkrechten zu diesen Ebenen
entsprechend der (OlO)-Rlchtüng sowohl der TlO2- als
auch der PtTlj-Krlstallstrukturen befinden.
Die Fehlstellenstrukturen, die am stärksten für den
Gleichrichtungseffekt verantwortlich sind, sind vermutlich
die In Flg. 2c gezeigten. Diese Elnzelschlchtstrukturen
haben das größte Verhältnis von Oberfläche zu Volumen. Die Grenzfläche zwischen der PtTb-Schlcht und
der Rutllmatrlx 1st vermutlich die Ursache der polaren Erscheinungen, möglicherweise unter Einschluß einer
polaren Verbindung der Formel PtTlOj. Das während des Wärmebehandlungsverfahrens angelegte elektrische Feld
dient zur Ausrichtung der polaren intermetallischen Schicht, so daß beliebige Fehlstellen In geeigneter Welse
relativ zu dem angelegten Feld orientiert werden. Die sorgfältige Untersuchung der Anordnung der mikrostrukturellen
Fehlstellen über die Ausdehnung des Bereiches zwischen den Leitungsdrähten zeigt keinerlei
Tendenz, daß das angelegte Feld die Orientierung der
planaren Fehlstellenstrukturen beeinflußt.
Gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der Erfindung
beruht die Herstellung von piatin-dntierten TlO5 .-Keramlkglelchrlchtern
auf dem Bandgußverfahren, wie es zur Zelt zur Herstellung von den für die TlO2-Abgas-Sauerstoff-Sensoren
verwendete Keramikmaterial angewandt wird. Die Hauptverarbeitungsstufen sind nachfolgend
ausgeführt und sind In den Fig. 3a, 3b, 3c und 3d
gezeigt
Ein Band 31 wird, ausgehend von TlO2-PuIver und
Calclnlerung desselben bei 115O0C während 2 Stunden,
gebildet. Das calclnlerte Pulver wird mit Wasser vermischt und auf der Kugelmühle 16 Stunden vermählen.
Das getrocknete TlO2-Pulver wird mit Lösungsmitteln
und Binder vermischt und erneut auf der Kugelmühle vermählen, entlüftet und schließlich wird die
Keramlkaufschlätnmung auf ein Cellulosetrlacetat-Kunststoffblatt
32 zur Bildung eines Bandes des Keramikmaterials mit einer Stärke von etwa 0,050 cm abgemessen.
Relativ großflächige Keramikstücke 33 von etwa 6,4 cm2 werden aus dem Plastikband geschnitten und bei
1250° C gebrannt. Platinelektroden mit einer Dicke von etwa 0.00012 cm werden auf den Hauptflächen des Keramikstückes
zerstaubungsabgeschleden. Das Material wird mit den Platinelektroden auf den Hauptflächen dem
vorstehend angegebenen Wärmebehandlungsverfahren unterworfen.
Nach der Wärmebehandlung wird das Stück 33 mit einer Größe von 6,4 cm2 zu kleinen quadratischen
Flächen 34 des Keramikkörper (Fig. 3c) geschlitzt, und
Leiterdrahte werden mit den Pt-Elektroden verbunden,
und die Keramikfläche wird In eine übliche Dioden- oder
Transistor-Befestigungsstruktur eingebaut (Fig. 3d).
Brauchbare Π-ielchrlchter können auch mit anderen
Keramikoxiden außer TlO2 erhalten werden. Es haben Versuchsanzeichen ergeben, daß Pt und Pd polare Grenzflächenschichten
mit Oxiden von anderen vlerwertigen Metallatomen bilden können. Ferner Ist eine Erzielung
der Verbesserung des Verhaltens der Pt-dotlerten TiO2-1-Gleichrichter
durch Verfeinerung der Behandlung In der Weise zu erwarten, daß der Keramikkörper in seinem
Endzustand die Hauptmenge seiner Körner mit einer dünnen Einzelschichtfehlstellenstruktur, wie sie in
Fig. 2c gezeigt ist, bsdeckt hat.
Hierzu 3 Blatt Zeichnungen
Claims (4)
1. Verfahren zur Herstellung eines Gleichrichters
mit einem Hauptkörper aus einem Oxid eines vlerwertlgen
Metailatoms, der auf zwei Im Abstand befindlichen Flächen mit je einer Kontaktelektrode versehen
Ist, von denen eine gegebenenfalls aus Platin besteht,
bei dem eine Erhitzung auf 750 bis 850° Celsius, eine
oxidierende und eine reduzierende Atmosphäre sowie Abkühlung angewandt werden, gekennzeichnet
durch die Stufen:
Ausbildung einer Struktur aus einem porösen feinkörnigen polykristallinen Hauptkörper aus einem Oxid
eines vlerwertlgen Metallatoms, der auf zwei im
Abstand befindlichen Flächen mit je einer aus Platin oder Palladium bestehenden Kontaktelektrode versehen
ist;
Anlegung «ilnes Gleichstromes an die Struktur;
Erhitzung der Struktur auf eine Temperatur von 750 bis 850° Celsius;
Erhitzung der Struktur auf eine Temperatur von 750 bis 850° Celsius;
Anwendung einer oxidierenden Atmosphäre;
Anwendung einer reduzierenden Atmosphäre;
Cyclischer Kreislauf zwischen oxidierender und reduzierender Atmosphäre und
Abkühlung der Struktur.
Anwendung einer reduzierenden Atmosphäre;
Cyclischer Kreislauf zwischen oxidierender und reduzierender Atmosphäre und
Abkühlung der Struktur.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Stufen der Anwendung der oxidierenden
Atmosphäre und die Stufen der Anwendung der reduzierenden Atmosphäre so abwechseln, daß die
Kreislaufführung etwa lOOmal erfolgt und die Gesamtzeit für den vollständigen Oxidatlons-Reduktions-Kreislauf
etwa 4 Minuten beträgt.
3. Verfahren nach Anspruc , 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Stufe der Abkühlung der Struktur eine Erniedrigung der Temperatur der Struktur auf
etwa 600° C bei cyclischen! Kreislauf zwischen reduzierenden und oxidierenden Atmosphäre umfaßt, und
daß die weitere Erniedrigung der Temperatur von 600° auf Raumtemperatur in Gegenwart einer reduzierenden
Atmosphäre erfolgt.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Stufe der Anlegung eines Gleichstromes
die Anlegung einer Spannung von 1 Volt an die Elektroden umfaßt
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