DE3206143C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft eine Anordnung
zur Herstellung einer Vorform, aus der optische Fasern
ziehbar sind, nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Eine derartige Anordnung ist beispielsweise bekannt aus der
DE 24 15 052 A1.
Optische Fasern, auch Lichtwellenleiter genannt, werden
bei optischen Nachrichtenübertragungssystemen als Über
tragungsleitung benutzt.
Bei der Herstellung optischer Fasern, insbesondere opti
scher Glasfasern, wird zunächst eine sogenannte Vorform
hergestellt, die zylinderförmig ist und die im wesentli
chen die gleiche Querschnittsstruktur besitzt wie die aus
dieser Vorform durch einen Ziehvorgang hergestellte opti
sche Faser.
Zur Herstellung einer derartigen Vorform sind verschiedene
Verfahren geeignet. Bei den sogenannten CVD-Verfahren wird
zunächst die Innenfläche eines Rohres, z. B. eines Quarz
glasrohres, mit mindestens einer glasbildenden Schicht
beschichtet. Diese rohrförmige Vorform wird anschließend,
zumindest in einem Teilbereich, zu einem Glasstab kolla
biert, der zu einer optischen Faser ausgezogen wird. Ein
derartiges CVD-Verfahren hat den Nachteil, daß eine
Abscheidung von vielen Schichten, z. B. bei einer
optischen Gradientenfaser benötigt wird, sehr zeitaufwen
dig ist. Außerdem ermöglicht dieses Verfahren lediglich
eine geringe Abscheidungsrate der abzuscheidenden Schich
ten.
Bei dem sogenannten VAD-Verfahren wird auf einem Träger
stempel aus Quarz in axialer Richtung ein mit Dotierstoff
versehener Quarzglasruß abgeschieden, wobei ein Sauer
stoff-Wasserstoff-Brenner verwendet wird. Entsprechend dem
gewünschten Brechzahlprofil der optischen Faser ist die
radiale Dotierstoffverteilung zu wählen. Während des
Aufwachsprozesses rotiert der Trägerstempel und wird axial
in einer Richtung bewegt.
Der Glasrußstab wird nach einer Behandlung mit Cl2-Gas, zur
Beseitigung von OH--Ionen, zu einem glasigen Stab ge
sintert. Dieser wird anschließend mit einem Quarzglasrohr
überfangen, das den Mantel der optischen Faser bildet. Aus
dieser Vorform wird die optische Faser gezogen. Das
VAD-Verfahren hat den Nachteil, daß es viele Verfahrens
schritte erfordert. Außerdem besteht in nachteiliger Weise
die Möglichkeit, daß beim Sintern chemische Verunreini
gungen sowie eine Verformung des Glasrußstabes auftreten
können.
Bei einem weiteren Verfahren werden auf der Mantelfläche
eines um seine Längsachse rotierenden stab- und rohrför
migen Trägerkörpers aus Quarzglas mehrere dotierte
und/oder undotierte Quarzglasschichten abgeschieden.
Dieser Abscheidungsvorgang erfolgt mit Hilfe eines
Wasserstoff-Sauerstoff-Brenners oder eines Plasmabrenners,
der in axialer Richtung zum Trägerkörper bewegt wird. Nach
dem Abscheidungsvorgang wird der Trägerkörper entfernt,
z. B. ausgebohrt und/oder herausgeätzt, so daß eine
rohrförmige Vorform entsteht, die kollabiert und zu einer
optischen Faser ausgezogen wird. Dieses Verfahren hat
insbesondere folgende Nachteile:
- - der Schichtaufbau in radialer Richtung dauert sehr lange, wodurch Profilstörungen der optischen Faser kaum vermeidbar sind;
- - das Ausbohren und/oder Ausätzen des Trägerrohres ist sehr aufwendig und zeitraubend;
- - es ist eine hohe Präzision beim Abätzvorgang erforder lich, da sonst eine Verfälschung des Brechzahlprofils auftritt;
- - störende OH--Verunreinigungen sind schwer vermeidbar, da bei einigen Verfahrensschritten, z. B. dem Ätzvorgang, Wasser vorhanden ist;
- - das Verfahren erfordert viele mit möglichen Fehlern behaftete Verfahrensschritte.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine
gattungsgemäße Anordnung anzugeben, die eine kostengün
stige und gut wiederholbare Herstellung von chemisch und
physikalisch hochgenauen Vorformen ermöglicht, aus denen
möglichst mehrere Kilometer lange optische Fasern her
stellbar sind, die insbesondere einen sehr niedrigen OH--
Ionengehalt aufweisen.
Diese Aufgabe wird gelöst durch die im kennzeichnen
den Teil des Patentanspruchs 1 angegebenen Merk
male.
Ausgestaltungen und Weiterbildungen sind den Unteransprü
chen entnehmbar.
Die Erfindung wird im folgenden anhand von Ausführungs
beispielen und schematischer Zeichnungen näher erläutert.
Es zeigt
Fig. 1 einen Längsschnitt durch ein Ausführungsbeispiel,
Fig. 2 einen Querschnitt durch das Ausführungsbeispiel ge
mäß Fig. 1 an der mit A-B bezeichneten Stelle.
Der Erfindung liegt der Gedanke zugrunde, daß eine wirt
schaftliche Herstellung einer Vorform nur dann möglich
ist, wenn es gelingt, den für eine optische Faser benötig
ten Schichtenaufbau in einer möglichst kurzen Zeit vorzu
nehmen. Außerdem soll die Vorform möglichst viel Material
enthalten, so daß eine möglichst lange optische Faser ge
zogen werden kann, z. B. in einer Länge von mehr als 40
Kilometern.
Gemäß den Fig. 1 und 2 wird diese Forderung dadurch er
reicht, daß bei einem Anfangskörper 1, z. B. einem Gra
phitrohr, dessen äußere Mantelfläche gleichzeitig entlang
einer Mantellinie, parallel zur Längsachse des Anfangs
körpers, mit einer glasbildenden Schicht beschichtet wird.
Es genügt dann beispielsweise eine einzige Umdrehung des
Anfangskörpers 1, um die gewünschte Schicht zu erzeugen.
Diese Umdrehungen sind möglich mit Hilfe jeweils einer
Lagerung 3 an jedem Ende des Anfangskörpers 1 sowie einem
darauf aufgesetzten weiteren Rohr 4, das mit einem nicht
dargestellten Antrieb verbunden ist. Der zu beschichtende
Bereich des Anfangskörpers 1 ist allseitig von einem Reak
tionsgefäß 2 umgeben, z. B. einem Metallrohr, in dem sich
schlitzförmige Durchführungen 5, 6 befinden, die z. B.
einen Einlaß- und einen Auslaßschlitz bilden. Durch diese
Durchführung 5 werden dem Anfangskörper 1 gleichzeitig
auf der gesamten Länge des zu beschichtenden Bereichs
glasbildende gasförmige und/oder feste Stoffe 7 zugeführt,
z. B. gasförmige SiCl4 mit gasförmigen Dotierungsstoffen
sowie Sauerstoffgas und/oder dotierte oder undotierte
kleine Glaspartikel (Glasruß). Die möglicherweise vorer
wärmten Stoffe 7 werden auf dem Anfangskörper 1 zu minde
stens einer Schicht verschmolzen, z. B. mittels heißer Gase
8, die durch den Innenraum des Anfangskörpers 1 geleitet
werden. Es ist vorteilhaft, den Anfangskörper 1 als Gra
phitrohr auszubilden und dieses durch unmittelbaren elek
trischen Stromdurchgang zu erwärmen. Die Lagerungen 3
dienen dabei gleichzeitig als elektrische Kontakte. Während
des Abscheidens der Schicht(en) wird ein Oxidieren (Ver
brennen) des Graphitrohres vermieden durch ein durch das
Rohr geleitetes Schutzgas, z. B. Argon (Ar). Nach der Been
digung des genannten Abscheidungsvorganges wird das er
wärmte Graphitrohr mit einem oxidierenden Gas, z. B. Sauer
stoff, gespült und verbrannt. Es entsteht die gewünschte
Vorform, aus der optische Glasfasern gezogen werden können.
Die bei der Abscheidung im Reaktionsgefäß 2 entstehenden
störenden Nebenprodukte, z. B. überschüssiger Glasruß, wer
den durch die ebenfalls schlitzförmige Durchführung 6 ent
fernt, z. B. abgesaugt.
Die beschriebene Abscheidung der Schicht(en) kann in viel
fältiger Weise unterstützt werden. Beispielsweise ist es
möglich, die Stoffe 7 elektrisch zu laden, z. B. mit Hilfe
einer innerhalb des Reaktionsgefäßes 2 erzeugten Plasma
entladung. Die derart geladenen Stoffe 7 sind dann bevor
zugt auf den Anfangskörper 1 abscheidbar, z. B. mit Hilfe
geeignet geformter elektrischer und/oder magnetischer Fel
der. Außerdem ist es möglich, das Reaktionsgefäß 2 innen
zu verspiegeln und gegebenenfalls zusätzlich zu kühlen,
so daß ein die Abscheidung begünstigender Temperaturgra
dient entsteht (Thermophorese).
Besonders günstig ist, in dem Reaktionsgefäß 2 ein Nie
derdruckplasma bei einem Druck von ungefähr 15 Millibar
zu erzeugen, da dann der Anfangskörper 1 bei der Abschei
dung der Schicht(en) auf einer niedrigeren Temperatur ge
halten werden kann. Durch eine entsprechende Temperatur
wahl ist es möglich, die Schicht entweder als Glasruß
("soot") oder glasig abzuscheiden. Da das Niederdruckplas
ma elektrisch geladene Teilchen enthält, ist es möglich,
den Ort der Abscheidung zu steuern oder zu regeln. Bei
spielsweise kann die Plasmaentladung eine punktförmige Ab
scheidung auf der Oberfläche des Anfangkörpers bewirken.
Diese punktförmige Abscheidung wird auf der Oberfläche ent
lang einer Mantellinie hin- und herbewegt, bei gleichzeiti
ger Drehung des Anfangskörpers, so daß eine zusammenhängende
Schicht abgeschieden wird. Außerdem ist es möglich, in dem
Reaktionsgefäß 2 platten- und/oder stabförmige Elektroden
anzuordnen, die eine linienförmige Abscheidung der Schicht
entlang einer Mantellinie des Anfangskörpers bewirken.
Weiterhin ist es möglich, bei der Abscheidung der Schicht
mindestens eine schichtbildende Komponente, z. B. Silizium
tetrachlorid-Gas (SiCl4), in axialer Richtung durch das
Reaktionsgefäß strömen zu lassen. Zur Vermeidung einer
konisch abgeschiedenen Schicht ist es zweckmäßig, bei
spielsweise die Strömungsrichtung umzukehren innerhalb ei
nes bestimmten Zeittaktes. Eine weitere Möglichkeit be
steht darin, zwei entgegengesetzt gerichtete axiale Strö
mungen zu wählen und die bei der Abscheidung entstehenden
Nebenprodukte z. B. überschüssiger Glasruß, in der Mitte des
Reaktionsgefäßes in radialer Richtung abzusaugen. Da die
Abscheidung der Schicht in einem Niederdruckplasma bei
einer niedrigen Temperatur, z. B. 500°C, des Anfangskör
pers möglich ist, ist es zweckmäßig, die Abscheidungsrate
mit Hilfe des sogenannten Thermophorese-Effektes zu er
höhen. Dieses wird beispielsweise dadurch erreicht, daß
das Reaktionsgefäß 2 auf einer höheren Temperatur gehalten
wird als der Anfangskörper 1. Innerhalb des Reaktionsge
fäßes ist dadurch ein Temperaturgradient vorhanden, der
die Abscheidungsrate erhöht.
Bei der beschriebenen Abscheidung ist es nicht notwendig,
die für eine optische Glasfaser benötigte vollständige
Schichtenfolge, Kern- und Mantelglas, abzuscheiden. Es ist
möglich, lediglich das Kernglas abzuscheiden und dieses
anschließend mit einem gesondert hergestellten rohrförmi
gen Mantelglas zu umgeben (überfangen). Aus einer derarti
gen Vorform wird anschließend die optische Glasfaser ge
zogen.
Claims (15)
1. Anordnung zur Herstellung einer Vorform, aus der optische
Fasern ziehbar sind, durch Abscheiden glasbildender Stoffe in
einer oder mehreren Schichten auf der Mantelfläche eines in einem
Reaktionsgefäß angeordneten zylindrischen Anfangskörpers, dadurch
gekennzeichnet, daß das Reaktionsgefäß eine schlitzförmige Durch
führung (5) aufweist, die im wesentlichen parallel zur Längsachse
des Anfangskörpers verläuft und dieselbe Länge besitzt wie ein zu
beschichtender Bereich auf dem Anfangskörper und durch die die
glasbildenden Stoffe zugeführt sind, und daß sich außerhalb des
Reaktionsgefäßes mindestens eine Lagerung befindet, die eine
relative Drehung von Anfangskörper und Reaktionsgefäß gegen
einander sowie eine elektrische Stromzuführung und eine Gas
spülung des Innenraums des Anfangskörpers ermöglicht.
2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das
Reaktionsgefäß (2) auf der dem Anfangskörper (1) zugewandten
Seite verspiegelt und/oder gekühlt ist.
3. Anordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß
eine weitere schlitzförmige Durchführung zum Abführen störender
Nebenprodukte bei der Abscheidung im Reaktionsgefäß vorhanden
ist.
4. Anordnung nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet,
daß innerhalb und/oder außerhalb des Reaktionsgefäßes (2) ein
nach Maßgabe der abzuschneidenden Schicht dotierter Glasruß
erzeugbar ist, der auf den Anfangskörper (1) aufschmelzbar ist.
5. Anordnung nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß eine Plasmaentladung vorhanden ist, die eine Abscheidung der
Schicht unterstützt.
6. Anordnung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
zwischen dem Anfangskörper (1) und dem Reaktionsgefäß (2) ein
elektrisches und/oder ein magnetisches Feld vorhanden ist, das
die Abscheidung der Schicht begünstigt.
7. Anordnung nach den Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet,
daß in dem Reaktionsgefäß (2) ein Niederdruckplasma vorhanden
ist, dessen Gasdruck ungefähr fünfzehn Millibar beträgt.
8. Anordnung nach einem der Ansprüche 5 bis 7, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Plasmaentladung auf die Oberfläche des An
fangskörpers (1) konzentriert ist.
9. Anordnung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die
Plasmaentladung im wesentlichen entlang einer Mantellinie des
Anfangskörpers (1) hin- und herführbar ist.
10. Anordnung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die
Plasmaentladung im wesentlichen gleichzeitig entlang einer
Mantellinie des Anfangskörpers (1) erfolgt derart, daß die Ab
scheidung der Schicht im wesentlichen gleichzeitig erfolgt.
11. Anordnung nach einem der Ansprüche 5 bis 10, dadurch gekenn
zeichnet, daß das Reaktionsgefäß (2) und der Anfangskörper (1)
die zur Plasmaentladung nötigen Elektroden bilden.
12. Anordnung nach einem der Ansprüche 8 bis 10, dadurch ge
kennzeichnet, daß in dem Reaktionsgefäß mindestens zwei stab-
oder plattenförmige Elektroden vorhanden sind, zwischen denen
eine Plasmaentladung stattfindet.
13. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekenn
zeichnet, daß mindestens eine schichtbildende Komponente in
axialer Richtung durch das Reaktionsgefäß (2) fließen kann.
14. Anordnung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß
mindestens eine schichtbildende Komponente gleichzeitig oder
alternativ in gegenläufiger Richtung durch das Reaktionsgefäß (2)
fließen kann und bei der Abscheidung der Schicht entstehende Neben
produkte das Reaktionsgefäß (2) in radialer Richtung verlassen können.
15. Anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 14, dadurch gekenn
zeichnet, daß zwischen dem Anfangskörper (1) und dem Reaktions
gefäß (2) eine derartige Temperaturdifferenz besteht, daß die
Abscheidung der Schicht durch den Thermophorese-Effekt
verstärkbar ist.
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DE19823206143 DE3206143A1 (de) | 1982-02-20 | 1982-02-20 | Verfahren und anordnung zur herstellung einer vorform, aus der optische fasern ziehbar sind |
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DE19823206143 DE3206143A1 (de) | 1982-02-20 | 1982-02-20 | Verfahren und anordnung zur herstellung einer vorform, aus der optische fasern ziehbar sind |
Publications (2)
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DE3206143A1 DE3206143A1 (de) | 1983-09-01 |
DE3206143C2 true DE3206143C2 (de) | 1990-08-16 |
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ID=6156264
Family Applications (1)
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DE (1) | DE3206143A1 (de) |
Families Citing this family (2)
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---|---|---|---|---|
US6904772B2 (en) | 2000-12-22 | 2005-06-14 | Corning Incorporated | Method of making a glass preform for low water peak optical fiber |
JP3986842B2 (ja) * | 2001-07-26 | 2007-10-03 | 株式会社フジクラ | ノンゼロ分散シフト光ファイバ用光ファイバ母材の製法 |
Family Cites Families (6)
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