DE3146103C2 - Verfahren zum Herstellen einer elektrochromen Anzeigevorrichtung - Google Patents
Verfahren zum Herstellen einer elektrochromen AnzeigevorrichtungInfo
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Abstract
Bei der erfindungsgemäßen Herstellung von Anzeigeelektrodenschichten einer elektrochromen Anzeigevorrichtung wird in aufeinanderfolgenden Schritten ein Substrat (1) mit einer dünnen transparenten leitenden Schicht (2) bedeckt, über deren gesamte Oberfläche hinweg eine dünne Isolierschicht (3) aufgetragen, auf allen nicht zu einem Anzeigemuster und Zuleitungselektroden gehörenden Bereichen dieser Isolierschicht eine Maske geformt, danach die Isolierschicht über Anzeigemuster und Zuleitungselektroden entfernt, alle Bereiche mit Ausnahme der Zuleitungselektroden mit einer Schicht (4) aus einem elektrochromen Material beschichtet und abschließend die Maske wieder von der Isolierschicht entfernt. Als Maske wird vorzugsweise ein auf die betreffenden Abschnitte der Isolierschicht aufgebrachtes anorganisches Resist (6) verwendet.
Description
dadurch gekennzeichnet, daß
— ein bis über 3000C wärmebehandlungsfähiges
anorganisches Resistmaterial verwendet wird, und
— in einem Zusatzschritt vor dem fünften Schritt das Resistmuster (6) bis über 300°C aufgeheizt
wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Resistmuster (6) durch Siebdruck
aufgebracht wird.
3. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Resistmuster
etwa 1,5 Stunden bei etwa 35O0C ausgeheizt wird.
4. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Resistmaterial
ein anorganisches Pulver als Füller enthält.
Die Erfindung betrifft ein Verfahren gemäß dem Oberbegriff des Hauptanspruchs.
Ein solches Verfahren ist aus der älteren Anmeldung DE-OS 30 46 746 bekannt. Bei diesem Verfahren wird
im dritten Schritt ein durchgehender Fotoresistfilm aufgebracht, der durch eine Maske belichtet und dann ausgeätzt
wird, so daß ein Resistmuster entsteht. Nach dem Abätzen der Isolierschicht an den vom Resistmuster
freien Stellen wird die elektrochrome Schicht aufgebracht. Dies erfolgt durch Aufdampfen im Vakuum oder
durch kathodische Zerstä'ibung. Bei diesen Verfahren
kann es zur Kontamination der elektrochromen Schicht durch das organische Resistmaterial kommen. Dies
führt zu einer Verschlechterung der elektrooptischen Eigenschaften der so hergestellten elektrochromen Anzeigevorrichtung.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren der eingangs genannten Art anzugeben, das nicht
zu einer Schädigung der elektrooptischen Eigenschaften der elektrochromen Anzeigevorrichtung führt.
Die erfindungsgemäße Lösung ist im Hauptanspruch gekennzeichnet Vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand
von Unteransprüchen.
Der Grundgedanke der Erfindung geht dahin, ein anorganisches Resistmaterial zu verwenden, das bei mindestcns
3000C ausgeheizt werden kann, so daß beim
anschließenden Aufbringen der elektrochromen Schicht keine Dämpfe mehr durch sich zersetzendes Resistmaterial
auf die elektrochrome Schicht einwirken. Vorteilhafterweise wird ein Resistmaterial mit einem anorganisehen
Pulver, z. B. ein Kohlenstoff- oder Metallpulver, als Füller verwendet Dieses Material wird vorteilhafterweise
durch Siebdruck aufgebracht (DE-OS 30 46 746). Lösungsmittel und Harzanteile werden vor
dem Aufbringen der elektrochromen Schicht ausgeheizt Nach dem Aufbringen der elektrochromen
Schicht wird das ausgeheizte Resistmaterial abgewaschen, wobei gleichzeitig die darüber befindlichen Stellen
der elektrochromen Schicht mit abgewaschen werden.
Aus den DE-OS 27 02 251 und 27 09 086 sind weitere elektrochrome Anzeigevorrichtungen bekannt, zu deren
Herstellung jeweils leitfähige Schichten durch Isolatorschichten neben der elektrochromen Schicht abgedeckt
verden. Dabei ist es üblich, die Strukturierung der
Schichten mittels Photo- und Ätztechniken durchzuführen, wie in der DE-OS 27 02 251 auf Seite 8 weiterhin
beschrieber· ist. Hierbei kann speziell auch die sogenannte Abhebetechnik zum Einsatz kommen, was aus
der DE-OS 28 03 604 (Figur 10 mit Beschreibung auf Seite 20) bekannt ist.
Keine der DE-OS 27 02 251, 27 09 086 und 28 03 604 liefert jedoch einen Hinweis darauf, zur Herstellung einer
elektrochromen Anzeigevorrichtung eine elektrochrome Schicht zusammenhängend und unmittelbar auf
einem Resistmuster auszubilden und diese dann an den Stellen des Resistmusters mit diesem zusammen zu entfernen.
Nachstehend wird ein die Merkmale der Erfindung aufweisendes Verfahrensbeispiel unter Bezug auf eine
Zeichnung näher erläutert. Es zeigt
F i g. 1 eine schematische Querschnittsdarstellung der
vorstehend erläuterten idealen Anzeigeelektrodenschichten, und
Fig. 2A bis 2F Querschnittsdarstellungen zu aufeinanderfolgenden Schritten des erfindungsgemäßen Verfahrens zum Herstellen von Anzeigeelektrodenschichten.
Fig. 2A bis 2F Querschnittsdarstellungen zu aufeinanderfolgenden Schritten des erfindungsgemäßen Verfahrens zum Herstellen von Anzeigeelektrodenschichten.
Bei Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens erfolgt die Erzeugung der Anzeigeelektrodenschichten
in einer elektrochromen Anzeigevorrichtung schrittweise wie folgt:
In einem I.Schritt (Fig. 2A) wird auf die gesamte
Oberfläche eines transparenten Substrats 1 aus Glas o. dgl. durch Aufdampfen eines Materials wie ln2Ü3 eine
dünne leitende Schicht 2 aufgebracht und auf diese Schicht 2 im Siebdruck ein Ätzresist-Muster in Form
eines Elektroden-Musters aufgedruckt. Dabei wird vorzugsweise das unter der Handelsbezeichnung ER-401 B
von Firma Tamura Seisakusho, Japan, beziehbare Ätzresist verwendet. Nach ca. 10 min langem Brennen bei
etwa 80°C wird durch Auftragen einer Ätz-Säurelösung
aus der leitenden Schicht 2 ein Elcktrodenmuster geformt.
In einem 2. Schritt (F i g. 2B) wird die gesamte Oberfläche
des Substrats 1 mit der Schicht 2 mit einer dünnen Isolierschicht 3 überzogen, vorzugsweise einer bei ca.
450cC mittels Chemical VaporDeposition (CVD) erzeugten
und etwa 0,1 μίτι (1000 Ä) dicken Si^-Schicht
oder SiO2-SchichL Die S:O2-Schicht kann verdampft
oder in Form eines Films aus OCD (Handelsbezeichnung »Ohka Coat Diffusion-Source« der Firma Tokyo
Kogyo Co, Japan) hergestellt werden. OCD ist flüssig und kann aufgetragen und unter thermischer Zersetzung
mit einer Si(OH)4-Lösung in SiO2 umgewandelt
werden.
In einem 3.Schritt (Fig.2C) wird unter Aussparung
H der Anzeigesegmente und der mit TreiberanschlüiSen
p verbundene« Zuleitungselektroden 7 ein anorganisches
Ii Resist 6 (vorzugsweise vom Typ MSN-42B der Firma f' Minetch Corp, USA oder Varniphite S-3 der Firma Nippon
Graphite, Japan) im Siebdruck aufgetragen, etwa |i 1,5 Stdn. lang bei ca. 3500C in einem Muffelofen erhitzt
|f und dabei zur Gasabgabe angeregt, damit das Aufp
dampfen von WO3 in Schritt 5 nicht durch Gase störend
£p beeinflußt werden kann.
pi In einem 4. Schritt (F i g. 2D) werden die freiliegenden
ίξ Bereiche der Isolierschicht 3 über den Anzeigesegment-F^
abschnitten und Zuieitungselektroden 7 unter Bedin- :S gungen von ca. 150W, einem Gasdruck von etwa
i; 60 m Torr und etwa 5 min lang mit einem CF4-Gas, wel-
|; ches die dünne fansparente leitende Schicht 2 aus In2O3
ig nicht beschädigt, trecken weggeätzt.
i.'; In einem 5. Schritt (Fig. 2E) werden die Zuleitungs-
i.'; In einem 5. Schritt (Fig. 2E) werden die Zuleitungs-
elektroden 7 durch eine Metallmaske abgedeckt und danach die frei gebliebenen Abschnitte mit einer aufgedampften
Schicht 4 aus einem elektrochromen Material ; wie WO3 bedeckt.
In einem 6. Schritt(F ig. 2F) erfolgt die Fertigstellung
der Anzeigeelektroden durch Entfernen des anorgani-■ sehen Resist 6 mittels verdünnter Hydrochlorsäure oder
Wasser.
Das hier benutzte und im 3. Schritt aufgetragene anorganische Resist 6 enthält als Hauptbestandteil einen
Füller wie anorganisches Pulvermaterial, Kohlenstoff Metallpulver o. dgl. und alle übrigen Lösungsmittel- und
Harzanteile werden so ausgeheizt, daß das Resist nicht karbonisiert und nach Aufheizung über ca. 300° C nur
der wieder durch Wasser, verdünnte Säure o. dgl. entfernbare Füller übrig bleibt.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
45
Claims (1)
1. Verfahren zum Herstellen einer elektrochromen
Anzeigevorrichtung, bei dem
— in einem ersten Schritt eine gemusterte, leitfähige Schicht (2) auf ein Substrat aufgebracht wird
(F ig. 2a),
— in einem zweiten Schritt eine durchgehende Isolierschicht (3) aufgebracht wird (F i g. 2b),
— in einem dritten Schritt ein Resistmuster (6) an
den Stellen hergestellt wird, an denen die Isolierschicht erhalten bleiben soll (F i g. 2c),
— in einem vierten Schritt die Isolierschicht (3) an den vom Resistmuster (6) freien Stellen abgeätzt
wird (F i g. 2d).
— in einem fünften Schritt eine durchgehende elektrochrome Schicht (4) aufgebracht wird
(Fig.2e),und
— in einem sechsten Schritt das Resistmuster (6) mit den darüber befindlichen Teilen der elektrochromen
Schicht (4) entfernt wird (F i g. 2f).
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