DE3138362A1 - Verfahren zum aufbringen von metallkontakten - Google Patents
Verfahren zum aufbringen von metallkontaktenInfo
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19813138362 DE3138362A1 (de) | 1981-09-26 | 1981-09-26 | Verfahren zum aufbringen von metallkontakten |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19813138362 DE3138362A1 (de) | 1981-09-26 | 1981-09-26 | Verfahren zum aufbringen von metallkontakten |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE3138362A1 true DE3138362A1 (de) | 1983-04-14 |
| DE3138362C2 DE3138362C2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1987-06-04 |
Family
ID=6142688
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19813138362 Granted DE3138362A1 (de) | 1981-09-26 | 1981-09-26 | Verfahren zum aufbringen von metallkontakten |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE3138362A1 (enrdf_load_stackoverflow) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3828379A1 (de) * | 1988-08-20 | 1990-03-01 | Licentia Gmbh | Verfahren zum herstellen kleiner oeffnungen in duennen schichten |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1521287B (de) * | Hitachi Ltd., Tokio | Verfahren zum Kontaktieren von Halbleiterunterlagen durch Aufdampfen von Metall unter Verwendung einer lichtempfindlichen Schicht als Maske | ||
| GB985280A (en) * | 1961-10-03 | 1965-03-03 | Hughes Aircraft Co | Method of forming a metallic electrical contact to a preselected area of a semiconductor surface |
| DE1514800A1 (de) * | 1965-03-12 | 1969-06-26 | Telefunken Patent | Verfahren zum Kontaktieren von Halbleiteranordnungen |
| FR2337424A1 (fr) * | 1975-12-31 | 1977-07-29 | Thomson Csf | Procede de fabrication d'un bloc semi-conducteur comportant une ou plusieurs paires de diodes " tete-beche ", et son application a des dispositifs hyperfrequence |
-
1981
- 1981-09-26 DE DE19813138362 patent/DE3138362A1/de active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1521287B (de) * | Hitachi Ltd., Tokio | Verfahren zum Kontaktieren von Halbleiterunterlagen durch Aufdampfen von Metall unter Verwendung einer lichtempfindlichen Schicht als Maske | ||
| GB985280A (en) * | 1961-10-03 | 1965-03-03 | Hughes Aircraft Co | Method of forming a metallic electrical contact to a preselected area of a semiconductor surface |
| DE1514800A1 (de) * | 1965-03-12 | 1969-06-26 | Telefunken Patent | Verfahren zum Kontaktieren von Halbleiteranordnungen |
| FR2337424A1 (fr) * | 1975-12-31 | 1977-07-29 | Thomson Csf | Procede de fabrication d'un bloc semi-conducteur comportant une ou plusieurs paires de diodes " tete-beche ", et son application a des dispositifs hyperfrequence |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3828379A1 (de) * | 1988-08-20 | 1990-03-01 | Licentia Gmbh | Verfahren zum herstellen kleiner oeffnungen in duennen schichten |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3138362C2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1987-06-04 |
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