DE3125730A1 - Verfahren zum metallisieren elektrischer bauelemente - Google Patents
Verfahren zum metallisieren elektrischer bauelementeInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 14
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 8
- GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N palladium(ii) nitrate Chemical compound [Pd+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N phosphanylidynenickel Chemical compound [P].[Ni] OFNHPGDEEMZPFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- QDWJUBJKEHXSMT-UHFFFAOYSA-N boranylidynenickel Chemical compound [Ni]#B QDWJUBJKEHXSMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RJTANRZEWTUVMA-UHFFFAOYSA-N boron;n-methylmethanamine Chemical compound [B].CNC RJTANRZEWTUVMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 claims description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 2
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 abstract description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 3
- 239000013590 bulk material Substances 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L palladium(II) chloride Chemical compound Cl[Pd]Cl PIBWKRNGBLPSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910000521 B alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- RBPILEHMYQDMLQ-UHFFFAOYSA-J [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Sn++] Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Sn++] RBPILEHMYQDMLQ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/18—Pretreatment of the material to be coated
- C23C18/1851—Pretreatment of the material to be coated of surfaces of non-metallic or semiconducting in organic material
- C23C18/1872—Pretreatment of the material to be coated of surfaces of non-metallic or semiconducting in organic material by chemical pretreatment
- C23C18/1886—Multistep pretreatment
- C23C18/1893—Multistep pretreatment with use of organic or inorganic compounds other than metals, first
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Description
-
- Verfahren zum Metallisieren elektrischer Bauelemente
- Die Erfindung betrifft ein Verfahren'zum Metallisieren elektrischer Bauelemente, die einen elektrisch aktiven, scheiben-, rohr- oder stabförmigen Grundkörper aus Keramik enthalten, wie keramische Kalt- oder Heißleiter, keramische Kondensatoren, insbesondere Vielschichtkondensatoren, und keramische Piezoelemente, und der Grundkörper wenigstens auf einem Teil seiner Oberfläche mit einem Metallbelag versehen ist, der aufgebracht ist, indem die zu metallisierende Oberfläche zunächst durch Aufbringen einer Palladiumlosung und nachfolgende Reduktion mit einer Palladiumschicht vers.ehen und danach auf dieser' Palladiumschicht eine Nickelphosphor- oder Nickel- Borschicht oder eine Kupferschicht stromlos abgeschieden wird, die ggf. galvanisch verstärkt wird.
- Elektrische Bauelemente mit einem keramischen Grundkörper, der an seiner,Oberfläche mit Metallbelegungen versehen ist, die je eine außenliegende, aus Nickel bzw.
- eine Nickelphosphor bzw. eine Nickelborlegierung bestehende Schicht und eine darunterliegende palladiumhaltige Schicht aufweisen, wobei an diese Metallbelegun-genjeweils eine äußere Stromzuführung angelötet ist und'die palladiushaltige Schicht aus Palladium allein bzw. in Verbindung mit Palladiumchlorid besteht, sind in der-DE-PS 24 33 419 und auch in der DE-PS-24- 33 458 beschrieben.
- Die Verfahren zur Herstellung solcher keramischer elektrischer Bauelemente, die in diesen Patentschriften angegeben sind, sehen vor, daß auf die Oberfläche des Ke- ramikkörpers an den zu metallisierenden Stellen eine Palladium(II)-Chlorid-Lösung aufgetragen und eingebrannt wird, wonach eine stromlose.Vernickelung der ersten Schicht erfolgt und daran anschließend ggf. noch ein Tempervorgang.vorgesehen ist.
- Für die Herstellung der Nickelschichten sind in diesen Patentschriften spezielle Rezepturen beschrieben.
- Obwohl sich diese Verfahren in der Praxis bewährt haben, weisen sie dennoch den 'Nachteil auf, daß für die Herstellung der Palladiumschicht, die unmittelbar und ohne vorherige Akt.ivierung, beispielsweise mit Zinn(-2)-Chlorid (wie es beispielsweise in der US-PS 3 586 534 beschrieben ist), aufgebracht wird, eine chloridionenhaltige Lösung verwendet wird, die zudem saure Eigenschaften hat.
- Chloridionen sind aus den Oberflächenbereichen von Keramikkörpern relativ schlecht zu entfernen, weil hierfür sehr eingehende Waschprozesse-u.a. mit destilliertem Wasser erforderlich sind. Darüber hinaus wirken diese Chloridlösungen ätzend auf die keramische Oberfläche, so daß auch hierdurch die elektrischen Eigenschaften des keramischen elektrischen Bauelementes beeinflußt werden.
- -Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, das Verfahren der eingangs angegebenen Art so abzuwandeln, daß die geschilderten Mängel der bekannten Verfahren nicht auftreten, d.h. die Verwendung chloridhaltiger Lösungen ausgeschlossen wird. Zur Lösung dieser Aufgabe ist das Verfahren erfindungsgemäß dadurch gekennzeichnet, daß die Palladiumschicht aus einer etwa 0,03 prozentigen Palladiumnitratlösung, die ca. 5% eines organischen, mit Wasser vollständig mischbaren Lösungsmittels enthält, nachfolgendes Spülen mit Wasser und dann durch Reduktion mit etwa 1,0 prozentiger Dimethylaminboran-Lösung (DMAB) erzeugt wird.
- Das Verfahren läßt sich beim Aufbringen von Metallisierungen auf die Körper elektrischer Bauelemente insbesondere im Schüttgutprozeß in Trommeln durchführen, wobei dann aber für eine elektrische Trennung der für unterschiedliche. Potentiale bestimmten Metallschichten gesorgt werden muß, beispielsweise, indem die nicht zu metallisierenden Teile vorher abgedeckt werden oder indem durch nachfolgende Schleifoperation überschüssige Metallschichten entfernt werden.
- Für die Durchführung des Verfahrens wird folgendes Ausführungsbeispiel angegeben.
- Keramische Kaltleiterkörper, das .sind elektrische Bauelemente (auch PTC-Widerstände genannt), die auf der Basis von Perowskitstruktur besitzenden halbleitenden Material, insbesondere auf der Basis von dotiertem Bariumtitanat bestehen, und die Abmessungen von 12 mm Durchmesser x lmm Dicke aufwiesen, wurden zunächst in entionisiertem Wasser und Ultraschall von anhaftendem Keramikstaub gereinigt und anschließend in einer Sprozentigen HF-Lösung 3 Minuten'lang geätzt.
- Nach kräftigem Spülen mit entionisiertem Wasser erfolgte die Aktivierung der Keramikoberfläche in einer'O,03 prozentigen Palladiumnitratlösung ,' die ca. 5%. eines organischen Lösungsmittels enthielt. Die Aktivierung erfolgte bei Raumtemperatur -6 Minuten lang. Um eine Verschleppung überschüssiger Palladiumkeime möglichst zu verhindern, wurde in entionisiertem Wasser ca. 1 Minute lang leicht gespült und anschließend 3 Minuten in einer 1,0 prozentigen DMAB-Lösung reduziert.
- Die so vorbehandelten Teile wurden nochmals gespült und in einem chemischen Nickel-Phosphorbad 10 Minuten lang bei 920C vernickelt. Die Vorbehandlung und Metallisierung erfolgte in Kunststofftrommeln als Schüttgut. Ein Umleeren der Ware vor dem Einfahren in das Metallisierungsbad ist angebracht, da aufgrund der guten Aktivierfähigkeit der Palladiumnitratlösung auch die Kunststofftrommel metallisiert würde.
- 1 Patentan.spruch
Claims (1)
- Patentanspruch Verfahren zum Metallisieren elektrischer Bauelemente, die einen elektrisch aktiven, scheiben-, rohr- oder stabförmigen Grundkörper aus Keramik enthalten, wie keramische Kalt- oder Heißleiter, keramische Kondensatoren, insbesondere Vielschichtkondensatoren, und keramische Piezoelemente, und der Grundkörper wenigstens auf einem Teil seiner Oberfläche mit einem Metallbelag versehen ist, der aufgebracht wird, ind-em die zu metallisierende Ober--fläche zunächst durch Aufbringen einer Palladiumlösung und nachfolgende Reduktion mit einer Palladiumschicht versehen und danach auf dieser Palladiumschicht eine Nickelphosphor- oder Nickel-Borschicht oder eine Kupferschicht; stromlos abgeschieden wird, die ggf. galvanisch ~.verstärkt wird, dadurch g e k e n n z e i c h n e t daß die Palladiumschicht aus einer etwa 0,03 prozentigen Palladiumnitratlösung, die ca. 5% eines organischen, mit Wasser vollständig mischbaren Lösungsmittels enthält, nachfolgendes Spülen mit Wasser und dann durch Reduktion mit etwa 1,0 prozentiger Dimethylaminboran-Lösung erzeugt wird.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19813125730 DE3125730A1 (de) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | Verfahren zum metallisieren elektrischer bauelemente |
AT175582A AT376833B (de) | 1981-06-30 | 1982-05-05 | Verfahren zum anbringen metallischer kontakte auf elektrischen bauelementen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19813125730 DE3125730A1 (de) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | Verfahren zum metallisieren elektrischer bauelemente |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3125730A1 true DE3125730A1 (de) | 1983-01-13 |
Family
ID=6135746
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19813125730 Withdrawn DE3125730A1 (de) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | Verfahren zum metallisieren elektrischer bauelemente |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
AT (1) | AT376833B (de) |
DE (1) | DE3125730A1 (de) |
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Date | Code | Title | Description |
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OM8 | Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law | ||
8120 | Willingness to grant licences paragraph 23 | ||
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |