DE3107055C2 - - Google Patents
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- G03G15/06—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for developing
- G03G15/08—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for developing using a solid developer, e.g. powder developer
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- G03G15/0812—Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for developing using a solid developer, e.g. powder developer on a donor element, e.g. belt, roller characterised by the developer regulating means, e.g. structure of doctor blade
Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Entwicklungsvorrichtung
gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Eine Entwicklungsvorrichtung dieser Art ist in der DE 28 39 178 A1
beschrieben. Bei dieser bekannten
Entwicklungsvorrichtung ist ein rotierender
Entwicklungsträger in kleinem Abstand zu einem Bildträger
angeordnet. Auf dem Entwicklerträger wird mittels eines
elastischen blattförmigen Elements im Zusammenwirken mit
weiteren Elementen, wie einer starren Rakel, eine
Entwicklerschicht bestimmter Dicke ausgebildet. Mit
zunehmenden Anforderungen an die Bildqualität und dem
Wunsch, diese in genau definierter Weise beeinflussen zu
können, werden auch an die Homogenität und Gleichmäßigkeit
der auf dem Entwicklerträger ausgebildeten Entwickler
schicht sehr hohe Anforderungen gestellt. Insbesondere bei
nichtmagnetischem Einkomponentenentwickler bereitet die
Ausbildung einer einwandfreien Entwicklerschicht
Schwierigkeiten.
Eine Möglichkeit zum Aufbringen von Entwickler auf den
Entwicklerträger zeigt auch die DE 21 62 076 A1. Hierbei
wird mittels einer walzenartigen Anordnung bereits
schichtartig auf dem Entwicklerträger aufliegender
Entwickler auf eine bestimmte Dicke gebracht, wobei die
Walze zum Entfernen von Agglomeraten mikroskopische Vor
sprünge aufweisen kann.
Gemäß der DE 15 22 673 A1 wird Entwickler durch eine
Elektrodenanordnung, die ein schirmartiges Gitter bilden,
geladen und auf den Entwicklerträger aufgebracht.
Auch bei den beiden letztgenannten Arten des
Entwicklerauftrags bzw. der Entwicklerschichtbildung ist es
problematisch, eine gleichmäßige Entwicklerschicht zu
erhalten.
Besonders hohe Anforderungen an die Entwicklerschicht
werden bei der Abstandsentwicklung gestellt, bei der
zwischen der Oberfläche der Entwicklerschicht und dem
Ladungsbildträger in der Entwicklungszone ein Abstand
besteht, wie z. B. in der DE 24 07 380 A2 geschildert.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine
Entwicklungsvorrichtung gemäß dem Oberbegriff des
Patentanspruchs 1 derart weiterzubilden, daß
Entwicklerteilchenansammlungen auf dem Entwicklerträger
vermieden und eine homogene Entwicklerschichtstruktur
gleichmäßiger Stärke auf dem Entwicklerträger ausgebildet
wird.
Diese Aufgabe wird mit den im kennzeichnenden Teil des Pa
tentanspruchs 1 angegebenen Merkmalen gelöst.
Die Unebenheiten oder Vorsprünge bewirken, daß das
elastische Element durch die Rotation des Entwicklerträgers
Zugkräften ausgesetzt wird und dadurch leicht vibriert.
Außerdem erfährt das elastische Element durch den
eintretenden Entwickler Kräfte, die es von der Oberfläche
des Entwicklerträgers abzuheben versuchen. Dadurch
entstehen auch feine Vibrationen in Dickenrichtung der Ent
wicklerschicht. Infolge der feinen Vibrationen brechen die
Unebenheiten oder Vorsprünge zusammengelagerter Entwickler
in sehr feine Teilchen auf, lösen und lockern auf dem
Entwicklerträger eventuell zurückgebliebenen Entwickler und
erhöhen das Ausmaß der Reibungsladung, wodurch sich auf
einfache Weise stets eine sehr homogene Entwicklerschicht
ergibt und eine hohe Qualität des entwickelten Bildes
erreichbar ist. Insbesondere bei leicht zusammenballbarem
Entwickler kommen die Vorteile der erfindungsgemäßen
Maßnahmen deutlich zum Tragen.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind Gegenstand
der Unteransprüche.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von Ausführungsbei
spielen unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher erläu
tert.
Fig. 1 ist eine Querschnittsansicht der Ent
wicklungsvorrichtung gemäß einem ersten
Ausführungsbeispiel.
Fig. 2 sind perspektivische Teilansichten,
die verschiedene Ausführungsformen
von Entwickler-Auftragvorrichtungen
zur Verwendung bei der Entwicklungs
vorrichtung zeigen,
Fig. 3 ist eine schematische Ansicht, die eine
Anwendungsform der Auftragvorrichtung
zeigt,
Fig. 4A ist eine perspektivische Ansicht, die
eine Ausführungsform der Entwickler-
Auftragvorrichtung zeigt,
Fig. 4B ist eine Schnittansicht einer Ab
wandlung hiervon,
Fig. 5 ist eine schematische Ansicht, die eine
weitere Ausführungsform der Entwickler-
Auftragvorrichtung zeigt,
Die Fig. 1 zeigt schematisch ein Ausführungsbeispiel der
Entwicklungsvorrichtung zum Entwickeln eines elektrosta
tischen Ladungsbilds unter Verwendung
eines nichtmagnetischen Einkomponenten-Entwicklers, wo
bei nach einem elektrofotografischen Verfahren wie dem
bekannten Carlson-Verfahren oder dem in der US-PS 36 66 363
beschriebenen NP-Verfahren auf einem zylindrischen
Bildträger 1 ein Ladungsbild er
zeugt wird, das durch Bildentwicklung mit einem isolieren
den nichtmagnetischen Entwickler 5 sichtbar gemacht wird.
Der Entwickler wird von einem eine Entwicklerzuführeinrichtung bilden
den Vorratsbehälter 3 her zugeführt und mit Hilfe einer
Auftrag- bzw. Beschichtungsvorrichtung 4 als eine Schicht mit bestimmter Dicke
auf einen Entwicklerträger 2 aufgebracht wird. Der Ent
wicklerträger 2 ist durch eine zylindrische Entwicklungs
walze aus Edelstahl gebildet, die jedoch auch aus Aluminium
oder irgend einem anderen geeigneten Metall hergestellt
oder mit einem Harz beschichtet sein kann, das
eine Reibungsladung des Entwicklers mit einer bestimmten Po
larität verursacht. Ferner kann die Entwicklungswalze aus
einem elektrisch leitenden nicht-metallischen Material
hergestellt sein. Der Entwicklerträger 2 ist an seinen
beiden Stirnenden mit nicht gezeigten Abstandsrollen aus
Polyäthylen hoher Dichte versehen, wobei die Entwicklungs
vorrichtung so angebracht ist, daß die Abstandsrollen in
Berührung mit den beiden Stirnenden des Ladungsbildträgers
1 bleiben, wodurch der Abstand zwischen dem Ladungsbild
träger 1 und dem Entwicklerträger 2 so festgelegt wird,
daß er größer als die Dicke des auf den Entwicklerträger
2 aufgebrachten Entwicklers ist, und normalerweise in
einem Bereich von 100 bis 500 µm, vorzugsweise 150 bis 300 µm
liegt. Ein übermäßig großer Abstand bewirkt eine Ver
minderung der von dem Ladungsbild auf den Entwickler
träger 2 aufgeschichteten Entwickler wirkenden elektro
statischen Kraft, so daß sich die Bildqualität insbesondere
hinsichtlich der Reproduktion feiner Linien verschlechtert,
während ein unangemessen kleiner Abstand ein Zu
sammendrücken des Entwicklers zwischen dem Entwicklerträger
2 und dem Ladungsbildträger 1 ergeben könnte, wodurch
unter Umständen eine Zusammenballung des Entwicklers her
vorgerufen würde. Dies steht im Zusammenhang mit einer
zum Erzielen der erforderlichen Bilddichte notwendigen
minimalen Entwicklerdicke von ungefähr 50 µm und vorzugs
weise 80 µm an dem Entwicklerträger 2. Die Geschwindigkeit,
mit der der Entwickler mit dem Entwicklerträger
2 in die Entwicklungszone befördert wird, in der der
Entwickler geringen Abstand zum Ladungsbildträger besitzt, kann
größer als die Umfangsgeschwindigkeit des Ladungsbildträ
gers 1 gewählt werden, jedoch verursacht eine derartige
höhere Geschwindigkeit ein Verstreuen von Entwickler,
und zwar insbesondere im Falle
des nichtmagnetischen Entwicklers. Ferner sind im Hin
blick auf die Bildqualität im wesentlichen gleiche Ge
schwindigkeiten vorzuziehen. Eine Entwicklungs-Vorspan
nungsquelle 6 ist dafür vorgesehen, zwischen dem elektrisch
leitenden Entwicklerträger 2 und einer Rückseitenelektrode
des Ladungsbildträgers 1 eine Spannung anzulegen, die
eine Entwicklungsvorspannung
bildet. Bei dem beschriebenen Beispiel wurde ein Ein
komponenten-Entwickler verwendet (der keine Trägerteilchen
enthielt, die größer als die Tonerteilchen waren), der
ausschließlich aus Toner mit einer durchschnittlichen
Teilchengröße von 7 µm
oder aus einem Gemisch dieses Toners mit 0,4 bis 1 Gew.-%
hydrophobem Siliziumdioxid mit der mittleren Teilchen
größe von 16 µm gebildet war.
Es wurde ein Kopiergerät
verwendet, in das die Entwicklungsvorrichtung gemäß die
sem Ausführungsbeispiel eingesetzt wurde. Die Entwicklungs
vorspannung war eine Sinusspannung mit einem Spitzen-Spitzen-
Wert von 1500 V und einer Frequenz von 800 Hz, der eine
Gleichspannung von +150 V überlagert war, um damit ein
klares Bild mit zufriedenstellender Qualität zu erzielen.
Die Fig. 2A und 2B zeigen Beispiele für die Beschichtungs
vorrichtung 4, die bei der Entwicklungsvorrichtung nach
Fig. 1 verwendet wird und die dazu dient, den Entwickler
auf den Entwicklerträger 2 aufzubringen und die Dicke der
auf diese Weise erzielten Entwicklerschicht zu bestimmen.
Die Beschichtungsvorrichtung ist zumindest an ihrer dem Ent
wicklerträger 2 gegenüberstehenden Oberfläche mit Uneben
heiten oder Vorsprüngen 7 oder 9 versehen. Die Vorsprünge
oder Unebenheiten 7 oder 9 können aus dem gleichen Mate
rial wie die Beschichtungsvorrichtung 4 bestehen, mit der Beschichtungs
vorrichtung 4 einstückig sein, gesonderte Teile bilden
oder aus unterschiedlichem Material bestehen, wie beispiels
weise aus kurzen Fasern, die auf ein elastisches Element
aufgesetzt sind. In einem derartigen Fall sollten die Fa
sern kleine Dicke haben, die beispielsweise nicht 100 µm
und vorzugsweise nicht 50 µm übersteigt. Falls ferner die
Unebenheiten oder Vorsprünge durch ein gesondertes Element
gebildet sind, braucht dieses nicht unbedingt auf ein
darunterliegendes Element aufgebracht zu sein, sondern es kann
unmittelbar aufgelegt sein. Die Fig. 2A zeigt ein
Beispiel für die Beschichtungsvorrichtung 4, bei dem zylindri
sche Vorsprünge einstückig mit der Beschichtungsvorrichtung aus
gebildet sind. Diese Vorsprünge können auch halbkugel
förmig sein.
Die Fig. 2B zeigt ein Beispiel der Beschichtungsvorrichtung 4
das mit einer als elastisches Andruckelement dienenden
Silikonkautschukplatte 8 mit einer Dicke von 2 mm und einer
Härte von 60 (Shore-)Härtegraden aufgebaut ist, über das
ein flexibles Nylon-Gitter bzw. -Netz 9 gelegt ist, das beispiels
weise aus gewöhnlich gewebten Nylonfäden mit 71 µm Durch
messer mit Öffnungen von 161 µm gebildet ist. Das Gitter
oder Netz kann auch ein Köper-Gewebe, Satin-Gewebe oder
dergleichen sein, sowie aus einem Metall oder einem makro
molekularen Material wie Polyester oder Nylon bestehen.
Selbst wenn jedoch der Gitter-Aufbau der gleiche bleibt,
beeinflußt das das Gitter bildende Material die dem Ent
wickler bei dessen Aufbringen auf den Entwicklerträger 2
zu erteilende Ladung. Beispielsweise ergibt ein Nylon-
Gitter mit dem vorstehend genannten Aufbau an der auf den
Entwicklerträger aus Edelstahl aufgebrachten Entwickler
schicht ein Oberflächenpotential von -70 V, während unter
den gleichen Bedingungen ein Polyester-Gitter ein Ober
flächenpotential von -40 V ergibt. Natürlich wird auch
beim Aufbringen des Entwicklers zwischen dem Entwickler
und dem Entwicklerträger 2 ein Laden des Entwicklers her
vorgerufen.
Die Unebenheiten an der dem Entwicklerträger 2 gegenüber
stehenden Oberfläche der Beschichtungsvorrichtung 4 dienen nicht
nur dazu, zum Durchlaß des Entwicklers einen bestimmten
Abstand zwischen dem Entwicklerträger 2 und der Beschichtungs
vorrichtung 4 aufrecht zu erhalten, sondern auch dazu,
den an dem Entwicklerträger 2 vorhandenen Entwickler
durch Zerkleinern von Zusammenballungen im Entwickler um
zurühren und eventuell die einmal aufgetragene Entwickler
schicht abzustreifen und den abgestreiften Entwickler
durch die wechselseitige Bewegung der Beschichtungsvorrichtung
4 und des Entwicklerträgers 2 in den Zwischenraum zu führen,
um dadurch an dem Entwicklerträger 2 erneut eine Ent
wicklerschicht zu formen. Dieses Auftragen des Entwicklers
unter Umrühren und Zerkleinern von Zusammenballungen ist
natürlich hinsichtlich des Ladens des Entwicklers wirkungs
voll. Die vorstehend genannten Umstände sind insbesondere
bei Verwendung eines isolierenden Einkomponenten-Entwick
lers von Bedeutung.
Bei dem Auftragen des Entwicklers unter Drehung des Ent
wicklerträgers 2 gemäß der Darstellung in Fig. 1 wird nun
bei der Endstufe des Entwickler-Auftrags die Entwickler
schicht an dem Entwicklerträger 2 in den Teilbereichen dün
ner, die mit den Vorsprüngen der Auftragvorrichtung 4 in
Berührung waren oder diesen nahe waren; es ist daher not
wendig, das Erscheinen derartiger Unebenheiten der aufge
brachten Entwicklerschicht in dem entwickelten Bild zu
verhindern. Zu diesem Zweck müssen die Ausmaße eines jeden
Vorsprungs sorgfältig entworfen werden. Beispielsweise
tritt an dem entwickelten Bild bei der Entwicklung mit der
vorangehend genannten Entwicklungsvorspannung im Falle
des in Fig. 2B gezeigten Aufbaus das Muster der Nylonfäden
nicht in Erscheinung, wenn der Fadendurchmesser 71 µm be
trägt, jedoch wird dieses Muster deutlich sichtbar, wenn
der Fadendurchmesser gleich 500 µm ist. Darüber hinaus
wird im Vergleich zu dem Fall, daß eine derartige Ent
wicklungsvorspannung fehlt, das Muster weniger auffällig,
wenn die Entwicklungsvorspannung zwischen der Rückseiten
elektrode des Ladungsbildträgers 1 und dem Entwicklungsträger
angelegt ist. Dieser Umstand zeigt an, daß bei der Ent
wicklung mit Entwicklungsvorspannung die Auswirkung einer
ungleichmäßigen Aufschichtung des Entwicklers auf den Ent
wicklerträger 2 bei dem sich ergebenden Bild verringert
wird.
Die Fig. 3 veranschaulicht die Winkelbeziehung zwischen
der Beschichtungsvorrichtung 4 und dem Entwicklerträger 2. Ins
besondere ist es bei dem nichtmagnetischen Einkomponenten-Ent
wickler natürlich nicht möglich, den Entwickler durch Magnetkraft
zu transportieren oder an den Entwickler
träger 2 anzuziehen. Falls folglich an einer Stelle,
an der die Beschichtungsvorrichtung 4 mit dem Entwicklerträger
in Berührung ist oder diesem am nächsten steht, die Beschichtungs
vorrichtung in bezug auf den Entwicklerträger einen
rechten Winkel oder einen größeren Winkel zu der Entwickler
zuführeinrichtung bzw. dem Vorratsbehälter 3 hin bildet,
besteht bei dem Entwickler die Neigung, bei Drehung des
Entwicklerträgers 2 gemäß der Darstellung lediglich an die
sem entlang zu gleiten und kaum in den Zwischenraum zwi
schen der Auftragvorrichtung 4 und dem Entwicklerträger 2
einzutreten. Falls andererseits gemäß der Darstellung in Fig. 3
die Beschichtungsvorrichtung 4 an der Stelle, an der sie mit dem
Entwicklerträger in Berührung oder diesem am nächsten
ist, in bezug auf den Entwicklerträger einen zu der Ent
wicklerzuführeinrichtung 3 hin gerichteten spitzen Winkel R
bildet, tritt auf die Drehung des Entwicklerträgers 2 hin
der Entwickler in den Zwischenraum zwischen die Beschichtungs
vorrichtung 4 und den Entwicklerträger 2 ein und wird leicht
auf den Entwicklerträger aufgebracht.
Zusätzlich kann ein verbesserter Entwicklerauftrag
auf den Entwicklerträger 2 in der Weise sichergestellt wer
den, wie sie im folgenden unter Bezugnahme auf die Fig. 4
und 5 erläutert wird.
Bei den in den Fig. 4A und 4B gezeigten Ausführungsformen
ist die Auftragvorrichtung 4 bewegbar ausgeführt, um das
Umrühren des Entwicklers 5 an dem Entwicklerträger 2 zu
steigern und dadurch die Unebenheit bei dem Auftrag zu
verringern, wodurch die erzielte Entwicklerschicht ver
bessert wird. In der Fig. 4A ist ein die Beschichtungsvorrich
tung 4 tragendes Befestigungsglied 10 an einem Ende stän
dig mittels einer Feder 11 vorgespannt, während ein mittels
eines Motors 13 in Umlauf versetzter Nocken 12 eine Hin-
und Herbewegung des Befestigungsglieds 10 in dessen Längs
richtung verursacht, wodurch die Beschichtungsvorrichtung 4 das
Auftragen des Entwicklers unter der auf diese Weise verur
sachten Hin- und Herbewegung in Längsrichtung des Entwick
lerträgers 2 ausführt.
Die Fig. 4B zeigt ein weiteres Beispiel für die Beschichtungs
vorrichtung 4, die zu einer Walze ausgebildet ist, welche
unter Drehung den Entwickler 5 auf den Entwicklerträger 2
aufbringt. Ein Abstreifer 14 aus einem Polyesterfilm mit
200 µm Dicke ist dafür vorgesehen, von dieser Walze über
schüssigen Entwickler abzustreifen.
Die Fig. 5 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel, bei dem
der Entwicklerträger 2 mit einer rauhen Oberfläche ver
sehen ist, die bei dessen Bewegung in Pfeilrichtung das
Angreifen des Entwicklers erleichtert; dadurch wird die
Dicke der Entwicklerschicht gesteigert und damit die Bild
dichte angehoben. Diese Wirkung ist in ausreichendem Aus
maß auch dann erreichbar, wenn die Oberflächenrauhigkeit
des Entwicklungsträgers 2 kleiner als die Teilchengröße des
Entwicklers ist, wie beispielsweise dann, wenn eine Rauhig
keit von 1 bis 2 µm in Verbindung mit einem Entwickler mit einer
durchschnittlichen Teilchengröße von 7 µm angewandt
wird. Die Oberflächenrauhigkeit kann auf einfache Weise
dadurch erzielt werden, daß die Oberfläche des zylindri
schen Entwicklerträgers 2 aus Edelstahl mit einem Sandpa
pier Nr. 600 geschliffen wird. In der Fig. 5 sind auch
ein aus einer elastischen Silikonkautschukplatte mit einer
Dicke von 2 mm und einer Härte von 60 (Shore-)Härtegraden
gebildetes Andruckelement 8 und ein flexibles Gitter 9
gezeigt, wie sie in Fig. 2B dargestellt sind; diese Ele
mente können jedoch durch irgendeine andere Beschichtungs
vorrichtung ersetzt werden. Darüber hinaus ist es möglich, eine
Entwicklerbewegung zu erzielen, die durch eine Oberflächenmusterung an dem Entwicklerträger 2 aus
zueinander parallelen geraden Linien,
die zur Achse des Entwicklerträgers diagonal verlaufen, und
einen Satz von Oberflächen
mustern aus zueinander parallelen Linien
an der Beschichtungsvorrichtung 4 verursacht wird, wobei
die beiden Sätze von Mustern so angeordnet sind, daß sie
einander schneiden und dadurch ein Schachbrett- oder Rau
tenmuster bilden. Zum Herbeiführen einer derartigen Ent
wicklerbewegung ist eine Vielfalt von Mustern verwendbar.
Wie im vorstehenden ausführlich erläutert ist, werden die
den herkömmlichen Entwicklungsvorrichtungen anhaftenden
Nachteile alle mittels der beschriebenen Entwicklungsvor
richtung behoben, deren Merkmale darin liegen, daß der
Entwicklerträger mit einem kleinen Zwischenraum den La
dungsbildträger bzw. Latentbildträger gegenübergesetzt
wird und dem Entwicklerträger der Entwickler mittels einer
Beschichtungsvorrichtung zugeführt wird, deren Oberfläche Uneben
heiten oder Vorsprünge hat.
Die Entwick
lungsvorrichtung erlaubt es ferner, insbesondere auch bei iso
lierendem nichtmagnetischem Einkomponenten-Entwickler
eine gleichförmige dünne Schicht Ent
wicklers an dem Entwicklerträger auszubilden, wodurch es
möglich wird, durch Entwickeln mit nichtmagnetischem Ein
komponenten-Entwickler eine gleichmäßige und zufrieden
stellende Bildqualität zu erzielen. Die Entwicklungsvor
richtung ist natürlich auch bei einem Entwicklungsver
fahren anwendbar, bei dem magnetischer Toner verwendet
wird.
Claims (6)
1. Entwicklungsvorrichtung zum Entwickeln eines auf einem
Bildträger erzeugten Ladungsbildes mit einem rotierenden
Entwicklerträger, der in kleinem Abstand zum Bildträger
angeordnet ist, einer Entwicklerzuführeinrichtung, zum
Aufbringen von Entwickler auf dem Entwicklerträger, und
einer Beschichtungsvorrichtung in Form eines elastischen
blattförmigen Elements, mit dem die Schichtdicke des
aufgebrachten Entwicklers festgelegt wird, dadurch gekenn
zeichnet, daß das elastische blattförmige Element (4,
8) mit Unebenheiten (9) oder Vorsprüngen (7) zumindest
an seiner den Entwicklerträger (2) berührenden Oberfläche
versehen ist.
2. Entwicklungsvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß das elastische blattförmige Element
(4; 8) mit seinem freien Rand in Richtung der
Entwicklungszone gerichtet ist und mit der Oberfläche des
Entwicklerträgers einen spitzen Winkel (R) bildet.
3. Entwicklungsvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß der Entwickler (5) mittels der
Beschichtungsvorrichtung (4; 8) auf eine zur Polarität des
Ladungsbilds entgegengesetzte Polarität aufladbar ist.
4. Entwicklungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das elastische
blattförmige Element (4; 8) längs des Entwicklerträgers (2)
hin- und herverschiebbar ist.
5. Entwicklungsvorrichtung nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Entwicklerträger
(2) mit einer rauhen Oberfläche versehen ist.
6. Entwicklungsvorrichtung nach Anspruch 5, dadurch
gekennzeichnet, daß die Rauhigkeit der Oberfläche größer
als 1 µm ist.
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1981
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DE3107055A1 (de) | 1982-01-07 |
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