DE3101101C2 - Leseschaltung für eine Halbleiterspeicherzelle - Google Patents
Leseschaltung für eine HalbleiterspeicherzelleInfo
- Publication number
- DE3101101C2 DE3101101C2 DE3101101A DE3101101A DE3101101C2 DE 3101101 C2 DE3101101 C2 DE 3101101C2 DE 3101101 A DE3101101 A DE 3101101A DE 3101101 A DE3101101 A DE 3101101A DE 3101101 C2 DE3101101 C2 DE 3101101C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- conductance
- field effect
- effect transistor
- memory cell
- cell
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 7
- 230000005669 field effect Effects 0.000 claims description 21
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims 1
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 47
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 5
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 210000000352 storage cell Anatomy 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/4063—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
- G11C11/407—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
- G11C11/409—Read-write [R-W] circuits
- G11C11/4099—Dummy cell treatment; Reference voltage generators
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S257/00—Active solid-state devices, e.g. transistors, solid-state diodes
- Y10S257/903—FET configuration adapted for use as static memory cell
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
Abstract
Beschrieben ist eine Halbleiter-Speichervorrichtung, bei der mindestens eine schrägisolierte dynamische Randomspeicherzelle und mindestens eine Blindzelle vorgesehen sind. Zwischen Randomspeicherzelle und Blindzelle ist ein Flip-Flop-Leseverstärker eingeschaltet. Die Blindzelle besitzt einen Leitwert bzw. eine Konduktanz, welche(r) die Hälfte der Summe aus dem Leitwert G ↓1 der Randomspeicherzelle entsprechend einer binären "1" und ihrem Leitwert entsprechend einer binären "O" beträgt. Unter Heranziehung des Leitwerts der Blindzelle als Bezugsgröße vermag der Flip-Flop-Leseverstärker Daten zu erfassen und aus Randomspeicherzelle auszulesen.
Description
Die Erfindung betrifft eine Leseschaltung für eine Halbleiterspeicherzelle nach dem Oberbegriff des Patentanspruches
1.
In jüngster Zeit wurden schräg- bzw. kegelisolierte,
dynamisch verstärkende Direktzugriffsspeicherzellen (taper isolated dynamic gain RAM cell) entwickelt, die
große Aufmerksamkeit auf sich gezogen haben. Eine solche Speicherzelle ist z. B. in der Zeitschrift »IEEE Int.
SoI. State Circ. Conf.«, 14.2.1979, Seiten 22 und 23, beschrieben.
Diese Direktzugriffsspeicherzellen enthalten einen Feldeffekttransistor, jedoch keinen Kondensator.
Der Leitwert des Feldeffekttransistors variiert in Abhängigkeit davon, ob zwischen seiner Source- und
Drain-Elektrode eine Ladung gefangen ist oder nicht. Der Leitwert des Transistors wird abgegriffen, um damit
eine Binärziffer »1« oder »0« aus der Direktzugriffsspeicherzelle auszulesen.
Aufgrund des Fehlens eines Kondensators können solche Direktzugriffsspeicherzellen eine Speicherzellenmatrix
mit hoher Packungsdichte bilden. Daher werden derartige Speicherzellen als sehr günstig angesehen;
sie werden jedoch derzeit in der Praxis nicht verwendet: Bisher sind nämlich weder ein Leseverstärker
noch eine Dateneinschreibschaltung entwickelt worden, die zum Auslesen von Binärziffern aus solchen Direktzugriffsspeicherzellen
bzw. zum Einschreiben von Binärziffern in diese Direktzugriffsspeichersellen benutzt
werden könnten.
Aus der US-PS 40 44 340 ist eine Direktzugriffsspeicherzelle
bekannt, die nur einen Feldeffekttransistor enthält Jedoch besitzt diese Speicherzelle zusätzlich
noch einen diskreten Kondensator, dessen Ladungszustand den Speicherzustand der zugeordneten Speicherzeile
bestimmt Diese bekannte Speicherzelle besteht somit nicht ausschließlich aus einem Feldeffekttransistor,
und er Speicherzustand der Speicherzelle wird auch nicht durch den Leitwert des Transistors bestimmt
Das Auslesen der bekannten Speicherzelle erfolgt somit nicht, indem der Leitwert des entsprechenden Feldeffekttransistors
ermittelt wird, sondern in der Weise, daß die am Kondensator anliegende Spannung festgestellt
wird.
Der US-PS 40 44 340 kann zwar die Lehre entnommen werden, eine Blindzelle bei einer Speicherzelle vorzusehen.
Wie jedoch eine solche Blindzelle bei einer nur einen Feldeffekttransistor aufweisenden Speicherzelle
zu gestalten ist, wird in dieser Druckschrift aber nicht angegeben.
Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Leseschaltung der eingangs genannten An anzugeben, wobei
diese Leseschaltung möglichst einfach aufgebaut und an die Speicherzelle angepaßt sein soll.
Diese Aufgabe wird bei einer Leseschaltung nach dem Oberbegriff des Patentanspruches 1 erfindungsgemäß
durch die in dessen kennzeichnenden Teil enthaltenen Merkmale gelöst.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus den Patentansprüche 2 bis 5.
Bei der erfindungsgemäßen Leseschaltung ist ebenfalls wie in der Speicherzelle kein Kondensator vorgesehen,
so daß sich ein einfacher und an die Speicherzelle angepaßter Aufbau ergibt, bei dem im wesentlichen ein
Feldeffekttransistor benötigt wird, dessen Leitwert in spezieller Weise eingestellt wird.
Im folgenden ist eine bevorzugte Ausführungsform der Erfindung anhand der Zeichnung naher erläutert. Es
zeigt
Fig. 1 eine Querschnittansicht eines Sperrschicht-Feldeffekttransistor
bei einer bekannten Halbleiter-Speichervorrichtung und
Fig.2 ein Schaltbild der Leseschaltung mit den Merkmalen der Erfindung.
Fig. 1 veranschaulicht im Schnitt eine bekannte schrägisolierte dynamisch verstärkende Direktzugriffsspeicherzelle.
Sie um£aßt eine Isolierschicht 11, eine auf
diesem angeordnete Gate-Elektrode 12 aus Polysilizium
bzw. polykristallinem Silizium und ein Silizium-Substrat 13. Gemäß Fig. 1 ist die Isolierschicht 11 sich verjüngend
bzw. konisch zulaufend ausgebildet, so daß sie mit ihrem dünnen Teil im Kanalbereich des Transistors
liegt. In dem unmittelbar unter der Gate-Elektrode 12 aus Polysilizium liegenden Bereich des Substrats 13 sind
eine dicke /i-Typ-Zone 14 und eine dünne p-Typ-Zone
ausgebildet. Außerdem ist im Substrat 13 um den Kanalbereich des Transistors herum eine p+-Zone 16
ausgebildet.
Wenn im Kanalbereich unter der Elektrode 12 eine Ladung gefangen isi, verringert sich der Leitwert des
Transistors. Wenn die Ladung auf nahezu Null abnimmt, erhält der Transistor einen Leitwert beträchtlicher Größe.
Es sei angenommen, daß der Leitwert die Größe »1« besitzt, wenn im Kanalbereich praktisch keine Ladung
angesammelt oder aufgebaut ist. Bei einem Ladungsaufbau im Kanalbereich verringert sich in diesem Fall der
31 Ol 101
Leitwert auf »0,1« oder weniger. Durch Erfassung dieser Leitwerte können Binärziffern »1« oder »0« aus dem
Transistor ausgelesen werden. Zur Feststellung des Leitwerts des Transistors wird eine in F i g. 2 dargestellte
Schaltung benutzt.
Die Schaltung gemäß F i g. 2 weist einen Leseverstärker 22 auf, welcher dem Leitwert einer ausgewählten
Speicherzelle 21 unter Heranziehung des Leitwerts einer Blindzelle 23 als Bezugsgröße erfaßt Die Blindzelle
23 besitzt denselben Aufbau wie die Speicherzelle 21, außer, daß das Verhältnis von Kanalbreite zu Kanallänge
etwa die Hälfte des entsprechenden Verhältnisses bei der Speicherzelle 21 beträgt Genauer gesagt: es läßt
sich die nachstehend angegebene Gleichung aufstellen, in welcher Lc und Wc Kanallänge bzw. -breite der Speicherzelle
21 und Ld und WD Kanallänge bzw. -breite der
Blindzelle 23 bedeuten:
L1
Ln
zelle klein gehalten werden. Da weiterhin der Leitwert
der auf einem Halbleiter-Chip geformten Biindzelle etwa die Hälfte des Leitwerts der Speicherzelie beträgt
und daher als Bezugsleitwert zur Erfassung oder Bü-Stimmung des Leitwerts der Speicherzelle durch den
Leseverstärker herangezogen werden kann, wird ein sehr kostengünstiger Speicherchip erhalten.
(D
Die obige Gleichung (1) gibt an, daß- das Leitwertverhältnis zwischen der Speicherzelle 21 und der Biindzelle
23 ungefähr 2 beträgt Wenn somit der Leitwert der Speicherzelle 21 dann, wenn in ihr keine Ladung aufgebaut
ist, »1« beträgt beträgt der Leitwert der Blindzelle 23 in ihrem ladungsfreien Zustand »0,5«. In diesem Fall
erfaßt der Leseverstärker 22 z. B. eine Binärziffer »1«, wenn der Leitwert der Blindzelle 23, d. h. der Bezugsleitwcrt,
03 oder mehr beträgt, während er z. B. eine Binärziffer
»0« erfaßt, wenn der Bezugsleitwert unter 0,5 liegt.
Als Leseverstärker 22 wird ein Flip-Flop-Leseverstärker verwendet, der eine hohe Empfindlichkeit besitzt
und nur wenig Strom verbraucht. Noch wichtiger ist, daß er eine Erfassung mit hoher Geschwindigkeit zu
gewährleisten vermag.
Wie erwähnt, beträgt das Verhältnis von Kanalbreite zu Kanallänge bei der Blindzelle 23 die Hälfte des entsprechenden
Verhältnisses bei der Speicherzelie 21. Insbesondere reicht es aus, wenn der Leitwert Cp der
Blindzelle 23 der nachstehend angegebenen Gleichung entspricht, in welcher G\ den Leitwert der Speicherzelie
21 bei Speicherung einer binären »1« und Gq ihren Leitwert bei Speicherung einer binären »0« bedeuten:
(2) Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Der Leitwert Go beträgt somit 0,75, wenn die Leitwerte
G\ bzw. Go 1,0 bz',v. 0,5 betragen. Infolgedessen
ergibt sich das Leitwertverhältnis zwischen der Speicherzelle 21 und der Blindzelle 23 zu 1 :0,75.
Wie erwähnt, werden erfindungsgemäß mindestens ein Feldeffekttransistor als Speicherzeile, deren Leitwert
in Abhängigkeit vom Vorhandensein oder Fehler einer Ladung zwischen Source- und Drain-Elektrode
variiert, und mindestens ein Feldeffekttransistor als Biindzelle verwendet, die denselben Aufbau besitzt wie
die Speicherzelle und deren Leitwert der Hälfte der Summe der Leitwerte der Speicherzelle bei Speicherung
einer binären »1« und dem Leitwert der Speicherzelle bei Speicherung einer binären »0« entspricht. Zur
Erfassung des Leitwerts der Speicherzelle wird ein Flip-Flop-Leseverstärker
verwendet, wobei der Leitwert der Blindzelle als Bezugsgröße benutzt wird. Dieser Leseverstärker
spricht aut die in der Speicherzelle gespeicherten Daten an. Aus dir?sm Grund kann die Speicher-
Claims (5)
1. Leseschaltung für eine Halbleiterspeicherzelle, die als einziges Bauelement einen ersten Feldeffekttransistor,
dessen vom Vorhandensein oder Fehlen einer gefangenen Ladung im Halbleiterbereich zwischen
Source- und Drain-Elektrode abhängender Leitwert Binärdaten zugeordnet ist, aufweist, g e kennzeichnet
durch eine Feldeffekttransistor-Schaltung zur Erfassung des Leitwerts des ersten
Feldeffekttransistors (21), wobei die Feldeffekttransistorschaltung einen zweiten Feldeffekttransistor
(23) aufweist, dessen Leitwert die Hälfte der Summe aus einem ersten Leitwert, entsprechend
dem ersten Binärwert einer Binärdateneinheit und einem zweiten Leitwert, entsprechend dem zweiten
Binärwert der Binärdateneinheit, beträgt und als Bezugsleitwert für den ersten Feldeffekttransistor (21)
das Auslesen des gespeicherten Datums gestattet
2. Lesescialtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Feideffekttransislor-Schaitung weiterhin einen Flip-Flop-Leseverstärker (22)
aufweist, der mit dem ersten (21) und dem zweiten (23) Feldeffekttransistor in Verbindung steht
3. Leseschaltung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Kanallänge bzw. die Kanalbreite
des ersten Feldeffekttransistors (21) jeweils doppelt so groß ist wie die Kanallänge bzw. die Kanalbreite
des zweiten Feldeffekttransistors (23).
4. Leseschaltung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der erste Feldeffekttransistor
(21) eine schrägisolierte dynamisch verstärkende Direktzugriffsspeicherzelle bildet
5. Leseschaltung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß der zweite reldeffekttransistor (23) denselben Aufbau besitzt wie der erste Feldeffekttransistor
(21).
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP55007525A JPS5836503B2 (ja) | 1980-01-25 | 1980-01-25 | 半導体メモリ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3101101A1 DE3101101A1 (de) | 1981-12-10 |
DE3101101C2 true DE3101101C2 (de) | 1986-05-15 |
Family
ID=11668188
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3101101A Expired DE3101101C2 (de) | 1980-01-25 | 1981-01-15 | Leseschaltung für eine Halbleiterspeicherzelle |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4426687A (de) |
JP (1) | JPS5836503B2 (de) |
DE (1) | DE3101101C2 (de) |
GB (1) | GB2070874B (de) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60219763A (ja) * | 1984-04-17 | 1985-11-02 | Nec Corp | 半導体集積化記憶装置 |
US4877751A (en) * | 1988-03-11 | 1989-10-31 | National Semiconductor Corporation | Method of forming an N+ poly-to- N+ silicon capacitor structure utilizing a deep phosphorous implant |
US5225376A (en) * | 1990-05-02 | 1993-07-06 | Nec Electronics, Inc. | Polysilicon taper process using spin-on glass |
US5068707A (en) * | 1990-05-02 | 1991-11-26 | Nec Electronics Inc. | DRAM memory cell with tapered capacitor electrodes |
EP0735540B1 (de) * | 1995-03-31 | 2002-06-19 | Infineon Technologies AG | Nieder-Leistungs-Leseverstärker des Typs Gain Speicherzelle |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5539073B2 (de) * | 1974-12-25 | 1980-10-08 |
-
1980
- 1980-01-25 JP JP55007525A patent/JPS5836503B2/ja not_active Expired
-
1981
- 1981-01-12 US US06/224,012 patent/US4426687A/en not_active Expired - Lifetime
- 1981-01-13 GB GB8100871A patent/GB2070874B/en not_active Expired
- 1981-01-15 DE DE3101101A patent/DE3101101C2/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2070874A (en) | 1981-09-09 |
GB2070874B (en) | 1983-09-28 |
DE3101101A1 (de) | 1981-12-10 |
JPS56105665A (en) | 1981-08-22 |
JPS5836503B2 (ja) | 1983-08-09 |
US4426687A (en) | 1984-01-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE4208694C2 (de) | Halbleiter-Speicherelement | |
DD152875A5 (de) | Verfahren zum herstellen eines hochintegrierten festwertspeichers | |
DE2450116B1 (de) | Dynamisches Ein-Transistor-Speicherelement für nichtflüchtige Speicher und Verfahren zu seinem Betrieb | |
DE2720533C2 (de) | ||
DE2628383A1 (de) | Monolithischer halbleiterspeicher fuer wahlfreien zugriff mit abfuehlschaltungen | |
DE3236729C2 (de) | ||
DE2823854B2 (de) | ||
DE3046376C2 (de) | Halbleiter-Speichervorrichtung | |
DE3802066A1 (de) | Halbleitereinrichtung mit gegenseitigen verbindungsschichten von t-foermigem querschnitt | |
DE2818783C3 (de) | Datenspeicherzelle | |
DE3101101C2 (de) | Leseschaltung für eine Halbleiterspeicherzelle | |
EP1097458A1 (de) | Speicheranordnung aus einer vielzahl von resistiven ferroelektrischen speicherzellen | |
DE2431079C3 (de) | Dynamischer Halbleiterspeicher mit Zwei-Transistor-Speicherelementen | |
DE2033260C3 (de) | Kapazitiver Speicher mit Feldeffekttransistoren | |
DE2523683A1 (de) | Leitung zum transport einer ladung, insbesondere bitleitung fuer speicherelemente, die ein speicherfeld bilden | |
DE2642615A1 (de) | Halbleiterspeicher | |
DE2740113A1 (de) | Monolithisch integrierter halbleiterspeicher | |
DE2441385C3 (de) | Verfahren zum Vergrößern des Lesesignals bei einem Ein- Transistor-Speicherelement | |
DE3102175A1 (de) | Halbleiter-speichervorrichtung | |
DE2633558C2 (de) | Speicherbaustein | |
DE2949689A1 (de) | Eintransistor-speicherzelle fuer einen dynamischen halbleiterspeicher mit wahlfreiem zugriff | |
DE2553591C2 (de) | Speichermatrix mit einem oder mehreren Ein-Transistor-Speicherelementen | |
DE2223341C3 (de) | Speicherelement und daraus aufgebaute dynamische Randomspeicher | |
DE2855079A1 (de) | Halbleiter-speicherschaltung | |
DE2726014A1 (de) | Dynamisches speicherelement |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: HENKEL, G., DR.PHIL. FEILER, L., DR.RER.NAT. HAENZ |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA, KAWASAKI, KANAGAWA, JP |
|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |