DE3026661C2 - Vorrichtung zur Einkristallzüchtung aus Mehrkomponentenlegierungen - Google Patents
Vorrichtung zur Einkristallzüchtung aus MehrkomponentenlegierungenInfo
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B11/00—Single-crystal growth by normal freezing or freezing under temperature gradient, e.g. Bridgman-Stockbarger method
- C30B11/003—Heating or cooling of the melt or the crystallised material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
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Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Einkristallzüchtung aus Mehrkomponentenlegierungen nach
dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Bei einer derartigen, aus der DE-AS 25 43 752 bekannten Vorrichtung ruht der Aufnehmer mit seinem
Boden auf einem Wärmeleitkörper. Aufgrund der vorhandenen Oberfiächenrauhigkeiten ist der Wärmeleitkontakt
zwischen der Unterseite des Keimkristalls und der Oberseite des Bodens des Aufnehmers sowie
der Außenseite des Bodens und der Oberseite des Wärmeleitkörpers ungünstig, auch wenn eir,e durch den
Wärmeleitkörper und den Boden des Aufnehmers hindurchgehende Bohrung zum Absaugen von Luft
vorgesehen ist, die den Wärmeaustausch zwischen Keimkristall, Aufnehmerboden und Wärmeleitkörper
beeinträchtigen könnte. Der Boden des Aufnehmers kann vom Wärmeleitkörper gebildet werden, wenn
dieser aus einem porösen Material, wie Graphit besteht. In diesem Fall wird der Wärmeaustausch zwischen der
Unterseite des Keimkristalls und der Oberseite des Wärmeleitkörpers durch eine dazwischen befindliche,
durch die Oberflächenrauhigkeit mögliche Luftschicht beeinträchtigt.
Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe besteht deshalb darin, die Vorrichtung der eingangs
genannten Art so auszubilden, daß ein einwandfreier Wärmeaustausch zwischen dem einen Kühler bildenden
Wärmeleitkörper und dem Keimkristall im Aufnehmer gewährleistet ist.
Diese Aufgabe wird nut der im Patentanspruch 1 beschriebenen Vorrichtung gelöst, wobei eine konstruktive
Variante der Erfindung im Anspruch 2 erläutert ist.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung hat den Vorteil, daß nach Zuführen von Wärme durch den Erhitzer und
Ausbildung einer Schmelze der zu kristallisierenden Legierung ein ausgezeichneter wärmeleitender Kontakt
zwischen dem Keimkristall und dem Kühler gewährleistet ist, so daß sich hohe Temperaturgradienten über der
gesamten Höhe des Aufnehmers in der Größenordnung von mindestens 200°/cm einstellen können, wobei der
Wärmeleitkontakt auf äußerst einfache Weise erreicht wird. Mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung lassen
sich Einkristalle ausgezeichneter Qualität herstellen.
Anhand einer Zeichnung wird ein Ausführungsbeispiel der Erfindung näher erläutert. Es zeigt
F i g. 1 schematisch im Längsschnitt die Vorrichtung zur Einkristallzüchtung vor dem Erhitzen;
F i g. 2 in einer Ansicht wie F i g. 1 die Vorrichtung nach dem Erhitzen.
Die Vorrichtung hat einen rohrförmigen Aufnehmer 1 (Fig. 1) aus feuerfestem Material, der mit seinem
offenen Stirnende 2 in einem Sitz 3 auf der Oberfläche eines wassergekühlten Kühlers 4 aufgenommen ist Der
Durchmesser des Sitzes 3 entspricht dem Außendurchmesser des Aufnehmers 1 oder ist etwas größer als
dieser. Zwischen dem Stirnende 2 des Aufnehmers 1 und der Oberfläche des Kühlers 4, also dem Boden des Sitzes
3, befindet sich eine Lamelle 5, die aus einem Material besteht, dessen Wärmeleitfähigkeit höher und dessen
Schmelzpunkt niedriger sind als die der zu kristallisierenden Legierung. Am Boden des Sitzes 3 sind Ansätze
6 angebracht, deren Höhe geringer als die Stärke der Lamelle 5 ist. Koaxial zum Aufnehmer 1 ist längs der
Wand des Aufnehmers 1 ein hin- und herverschiebbarer Erhitzer 7 angeordnet
In dem Aufnehmer 1 wird ein Einkristall als Keimkristall 8, dessen Durchmesser dem Innendurchmesser
des rohrförmigen Aufnehmers 1 gleich ist, so angeordnet, daß seine Stirnseite auf der Lamelle 5 liegt.
Außerdem wird in den Aufnehmer 1 eine polykristallinene, umzukristallisierende Legierung 9 eingebracht,
z. B. eine Legierung aus 34,5% Co, 14,9% Ni, 7,6% Al, 3,6% Cu, 5,1 % Ti, 1% Nb, Rest Fe, mit einem Schmelzpunkt
von 1360° C, oder einer Legierung aus 40% Co, 14,5%Ni, 7,5% Al, 3% Cu, 8% Ti, Rest Fe, mit einem
Schmelzpunkt von 1380° C.
Die Lamelle 5 besteht aus Zinn mit einem Schmelzpunkt von 232°C oder aus Blei mit einem
Schmelzpunkt von 327,30C. Wenn vom Erhitzer 7 Wärme zugeführt wird, schmilzt der obere Endbereich
des Keimkristalls 8(F i g. 2) ab, die umzukristallisierende Legierung 9 bildet eine Schmelze 10. Durch Wärmeleitung
wird auch das unlere Ende des Keimkristalls 8 erwärmt, so daß die Lamelle 5 (F i g. 1), welche aufgrund
der Ansätze 6 einen schlechten Wärmekontakt mit der Oberfläche des Kühlers 4 hat, schmilzt.
Das geschmolzene Metall der Lamelle 5 fließt auf den Boden des Sitzes 3 und kristallisiert, weil sich bei der
Verflüssigung die Wärmeleitung zum Kühler 4 verbessert. Es wird eine feste Zwischenschicht 11 gebildet
(Fig.2), die den Aufnehmer 1 mit der Oberfläche des Kühlers 4 verbindet, so daß eine effektive Wärmeleitung
zwischen dem Keimkristall 8, dem Aufnehmer 1 und dem Kühler 4 besteht. Dadurch stellen sich ohne
Leistungssteigerung des Erhitzers 7 Temperaturgradienten in der Größenordnung von 200°/cm ein, was die
Formung hochqualitativer Einkristalle ermöglicht.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (2)
1. Vorrichtung zur Einkristallzüchtung aus Mehikomponentenlegierungen
mit einem rohrförmigen Aufnehmer für einen Keimkristall und die zu kristallisierende Legierung, wobei das eine Ende des
Aufnehmers auf der Oberfläche eines Kühlers in einem den Abmessungen des Endes des Aufnehmers
entsprechenden Sitz aufsitzt, an dem Ende des Aufnehmers eine Lamelle aus einem Material
vorgesehen ist, dessen Wärmeleitfähigkeit größer ist als die der Legierung, und koaxial zu dem
Aufnehmer ein Erhitzer angeordnet ist, dadurch
gekennzeichnet, daß der Durchmesser des Sitzes (3) gleich oder größer als der Außendurchmesser
des Aufnehmers (1) ist. daß die Lamelle (5) zwischen dem Boden des Sitzes (3) und dem Ende
des Aufnehmers (1) vorgesehen ist, und daß das Material der Lamelle (5) einen Schmelzpunkt hat,
der niedriger ist als der der Legierung.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Boden des Sitzes (3) Ansätze (6)
aufweist, die niedriger sind als die Lamelle (5) stark ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19803026661 DE3026661C2 (de) | 1980-07-14 | 1980-07-14 | Vorrichtung zur Einkristallzüchtung aus Mehrkomponentenlegierungen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19803026661 DE3026661C2 (de) | 1980-07-14 | 1980-07-14 | Vorrichtung zur Einkristallzüchtung aus Mehrkomponentenlegierungen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3026661A1 DE3026661A1 (de) | 1982-02-11 |
DE3026661C2 true DE3026661C2 (de) | 1983-11-24 |
Family
ID=6107169
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19803026661 Expired DE3026661C2 (de) | 1980-07-14 | 1980-07-14 | Vorrichtung zur Einkristallzüchtung aus Mehrkomponentenlegierungen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3026661C2 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3323896A1 (de) * | 1983-07-02 | 1985-01-17 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Verfahren und vorrichtung zum gerichteten erstarren von schmelzen |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH064519B2 (ja) * | 1989-06-30 | 1994-01-19 | 日本鋼管株式会社 | 希土類金属と遷移金属とからなる巨大磁歪合金ロツドの製造方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2543752B2 (de) * | 1975-10-01 | 1979-03-15 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines Einkristalles |
-
1980
- 1980-07-14 DE DE19803026661 patent/DE3026661C2/de not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3323896A1 (de) * | 1983-07-02 | 1985-01-17 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Verfahren und vorrichtung zum gerichteten erstarren von schmelzen |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3026661A1 (de) | 1982-02-11 |
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