DE3019125A1 - Integrierter endverstaerker - Google Patents
Integrierter endverstaerkerInfo
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Description
N.V. Philips'Gloeilampenfabrieken PHN 9458
Integrierter Endverstärker
Die Erfindung bezieht sich auf eine integrierte Endverstärkerstufe
mit einem ersten und einem zweiten Speisungsanschlußpunkt
und einem Ausgangsanschlußpunkt, einem ersten Endtransistor, dessen Emitter mit dem Ausgangsanschlußpunkt
und dessen Kollektor mit dem ersten Speisungsanschlußpunkt verbunden ist; einem zweiten Endtransistor, dessen Kollektor-Emitter-Strecke
zwischen dem Ausgangsanschlußpunkt und dem zweiten Speisungsanschlußpunkt angeordnet ist; einer Ruhestromeinstellschaltung,
die mit der Basis-Elektrode des ersten Endtransistors verbunden ist; und mit einer Stromquelle,
die der Ruhestromeinstellschaltung Gleichstrom liefert und zwischen der Basis-Elektrode des ersten Endtransistors
und dem ersten Speisungsanschlußpunkt angeordnet ist.
Eine derartige integrierte Endverstärkerstufe ist u.a. aus der US-PS 4,078,207 bekannt.
Es stellt sich heraus, daß im Gegensatz zu gut bemessenen Endverstärkerstufen, die mit diskreten Einzelteilen aufgebaut
sind, integrierte Endverstärkerstufen bei Übersteuerung derartige Verzerrungen hervorrufen, daß Hochfrequenzstörungen
auftreten, die bei Anwendung derartiger Endverstärkerstufen in Rundfunkempfängern über eine eingebaute Ferritantenne
wieder auf den Eingang des Verstärkers gelangen können.
Nach einer der vorliegenden Erfindung zugrunde liegenden Einsicht ist dies der Tatsache zuzuschreiben, daß bei integrierten
Verstärkern der Stromverstärkungsfaktor in erheb-
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. .. . 3Q19125
PHN 9458
lichem Maße".".einer Streuung ausgesetzt ist. Der Stromquelle,
die der Ruhestromeinstellschaltung Strom liefert, wird der
Basisstrom für den ersten Transistor entzogen. Dieser Basisstrom nimmt mit zunehmendem Ausgangsstrom zu und kann bei
einem bestimmten Ausgangsstrom gleich dem Strom dieser Stromquelle werden. Die Aussteuerung, bei der der Strom
der Stromquelle völlig von dem Basisstrom des ersten Transistors
aufgenommen wird und bei der weitere Aussteuerung nicht mehr.möglich ist, muß bei einem guten Entwurf derart ;
gewählt werden, daß die mit Rücksicht auf die Belastung ■
maximale Aussteuerung, bei der der erste Transistor annähernd die Speisespannung erreicht, erzielt werden kann, während
mit Rücksicht auf eine minimale Verlustleistung der Strom, auf den die Stromquelle eingestellt ist, auch nicht größer
gewählt werden darf als erforderlich ist, um diese maximale
Aussteuerung zu ermöglichen. Die günstigste Situation |
.,.".ist,7 daß der Basisstrom des ersten Transistors gleich dem :
von dieser Stromquelle gelieferten Strom ist, wenn der '
erste Transistor am Emitter die Speisespannung annähernd j
erreicht bzw. in die Sättigung gerät. Diese optimale Ein- ■
stellung ist bei integrierten"Verstärkern in der Praxis
nicht verwirklichbar. Beim Entwurf soll der erreichte
MindeststromvefStärkungsfaktor des ersten Transistors und,
wenn, um die Stromquelle auf einen sehr niedrigen Strom einstellen zu können, statt des ersten Transistors eine :
Darlingtonkonfiguration gewählt wird, das Quadrat des j
niedrigsten bei dem gewählten Integrationsvorgang auftretenden Stromverstärkungsfaktors berücksichtigt werden,
um jedenfalls eine maximale Ausgangsleistung zu erzielen.
Dann ist, abhängig von dem endgültigen und für jeden
integrierten Verstärker verschiedenen Stromverstärkungsfaktor, die Stromquelle auf einen Strom eingestellt, der
manchmal bis zu einem Faktor 4 und bei Anwendung einer
35Darlingtonkonfiguration sogar bis zu einem Faktor 16 zu
hoch ist, wodurch beim Erreichen der Speisespannung durch
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den ersten Transistor die Stromquelle noch einen Stromüberschuß
liefert. Darum enthält das Ausgangssignal eine viel
größere Anzahl und stärkere Hochfrequenzkomponenten als bei einer optimalen Einstellung der Stromquelle der Fall
gewesen wäre.
Die Erfindung hat die Aufgabe, eine integrierte Endverstärkerstufe
der eingangs genannten Art anzugeben, bei der sich die genannten Probleme in viel geringerem Maße ergeben.
Diese Aufgabe wird nach der Erfindung dadurch gelöst,- daß
parallel zu dem Basis-Emitter-Übergang des ersten Transistors ein erster Halbleiterübergang mit derselben Durchlaßrichtung
wie der Basis-Emitter-Übergang des ersten Endtransistors angeordnet ist, und daß das Verhältnis zwischen
den wirksamen Oberflächen des Transistors einerseits und des Halbleiterüberganges andererseits erheblich größer als
1 aber kleiner als der Stromverstärkungsfaktor des ersten '.
Endtransistors gewählt ist.
Die Kombination des ersten Transistors und des ersten Halbleiterübergangs,
der in der Praxis ..meistens durch einen I
Transistor mit kurzgeschlossenem Kollektor-Basis-Übergang j gebildet wird, bildet einen Stromspiegel, dessen Stromver- |
stärkungsfaMor durch ein Oberflächenverhältnis bestimmt i
wird. Da Oberflächenverhältnisse in integrierten Schaltungen nahezu keiner Streuung ausgesetzt sind, kann durch Anwendung
der erfindungsgemäßen Maßnahme die Stromstärke der ersten Stromquelle viel näher an der optimalen Einstellung
gewählt werden. Die Tatsache, daß der so gebildete Stromspiegel einen Stromverstärkungsfaktor von viel mehr als 1 ;
aufweisen soll,ergibt in diesem Falle gar kein Problem,
weil der erste Transistor in der integrierten Schaltung allein schon vom Leistungsgesichtspunkt eine große Oberfläche
beansprucht.
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.-._.. 3013125 PHN 9458
Durch Anwendung der Maßnahme nach der Erfindung tritt ein zusätzlicher Effekt auf, der die genannten Störungen noch
weiter herabsetzt. Es zejgjb sich nämlich, daß der innere
Basiswiderstand des ersten Transistors bei großen Basisströmen einen nicht vernachlässigbaren Spannungsverlust herbeiführt.
Infolge dieses SpannungsVerlustes nimmt der Stromverstärkungsfaktor
der Kombination des ersten Halbleiterübergangs und des ersten Transistors bei hohen Ausgangsströmen
ab, was einen günstigen Effekt auf die genannten Verzerrungen hat.
Eine integrierte Endverstärkerstufe nach der Erfindung, bei der zwischen der Stromquelle und der Basis-Elektrode
des ersten Transistors der Basis-Emitter-Übergang eines dritten Transistors, der mit dem ersten Transistor in
Darlingtonschaltung angeordnet ist, aufgenommen ist, ist dadurch gekennzeichnet, daß parallel zu dem Basis-Emitter-Übergang
des dritten Transistors ein zweiter Halbleiterübergang mit derselben Durchlaßrichtung wie der BsbLs-Emitter-Übergang
des dritten Transistors angeordnet ist, wodurch der Stromverstärkungsfaltor der Kombination des
dritten Transistors und des zweiten Halbleiterübergangs im wesentlichen durch das Verhältnis zwischen der wirksamen
Basis-Emitter-Oberfläche' des dritten Transistors und der wirksamen Halbleiterübergangsoberfläche des
zweiten Halbleiterübergangs erheblich größer als 1 aber kleiner als der Stromverstärkungsfaktor des dritten Transistors
gewählt ist.
Eine andere Ausführungsform einer integrierten Endverstärkerstufe
nach der Erfindung, bei der zwischen der Stromquelle und der Basis-Elektrode des ersten Transistors der Basis-Emitter-Übergang
eines dritten Transistors, der mit dem ersten Transistor in Darlingtonschaltung angeordnet ist,
aufgenommen ist, ist dadurch gekennzeichnet, daß die Stromquelle
einen vergrabenen Widerstand und Mittel zum Anlegen
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einer festen Spannung über diesem Widerstand enthält, so daß der von der Stromquelle gelieferte Strom den Widerstandswert
des vergrabenen Widerstandes umgekehrt proportional ist, und daß der vergrabene Widerstand" durch eine Diffusionszone
vom gleichen Typ wie die Basisdiffusionszone des dritten Transistors gebildet wird, über die eine Diffusion
vom gleichen Typ wie die Emitterdiffusion des dritten Transistors angebracht ist.
Durch diese Maßnahme ergibt sich eine Änderung des von der Stromquelle gelieferten Stromes, der dem Widerstandswert
dieses vergrabenen Widerstandes umgekehrt proportional ist, dessen Widerstandswert sich mit der Änderung des Stromverstärkungsfaktors
des dritten Transistors infolge von Prozeßänderungen umgekehrt proportional zum Stromverstärkungsfaktor
des dritten Transistors ändert, wodurch sich die Änderungen in bezug auf den Stromverstärkungsfaktor ausgleichen. Diese
Maßnahme läßt sich nur zum Ausgleichen der Änderungen des Verstärkungsfaktors infolge von Prozeßänderungen eines
einzigen Transistors anwenden. Bei einer integrierten Verstärkungsstufe
der eingangs genannten Art kann als Alternative auch ein Ausgleich unter Anwendung dieser Möglich- ;
keit dadurch erhalten werden, daß die Stromquelle einen vergrabenen Widerstand und Mittel zum Anlegen einer festen
Spannung über diesem vergrabenen Widerstand enthält, so ;
daß der von der Stromquelle gelieferte Strom dem Widerstandswert des vergrabenen Widerstandes umgekehrt proportional
ist, und daß der vergrabene Widerstand durch eine Diffusionszone vom gleichen Typ wie die Basisdiffusionsζone
des ersten Transistors gebildet wird, über der eine Diffusionszone vom gleichen Typ wie die Emitterdiffusionszone des
ersten Transistors angebracht ist.
dargestellt und werden im folgenden näher beschrieben.
Einige Ausführungsformen der Erfindung sind in der Zeichnung dargestel]
Es zeigen
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Pig. 1 eine erste Ausführungsform einer integrierten End-
verstärkerstufe nach der Erfindung,
Fig. 2 eine Abwandlung der Endverstärkerstufe nach Fig. 1,
bei der eine weitere Maßnahme nach der Erfindung angewandt wird, und
Fig. 3 eine schematische Darstellung eines integrierten vergrabenen Widerstandes und eines integrierten · Transistors.
Fig. 3 eine schematische Darstellung eines integrierten vergrabenen Widerstandes und eines integrierten · Transistors.
Fig. 1 zeigt eine Ausführungsform einer integrierten Endverstärkerstufe
nach der Erfindung. Diese Stufe enthält einen ersten Endtransistor T^, dessen Kollektor-Elektrode
mit einem Anschlußpunkt +Vß für positive Speisespannung und
dessen Emitter-Elektrode mit einem Ausgangsanschlußpunkt 1 verbunden ist« Die Basis-Elektrode des Transistors T^
ist mit der Emitter-Elektrode eines Transistors T, verbunden,
der zusammen mit dem Transistor Ty. in Darlingtonkonfiguration
geschaltet ist. Zwischen der Basis-Elektrode des Transistors Τ·, und dem Speisungsanschlußpunkt +VB ist
eine Rühestromeinstellströmquelle 3» die einen Strom IQ
führt, angeordnet. . - -'T-
Im vorliegenden Beispiel ist die Erfindung bei einer sogenannten
quasi komplementären Endstufe angewandt, bei der der Ausgangsanschlußpunkt 1 über die Kollektor-Emitter-Strecke
eines npn-Transistors T2 mit einem Speisungsanschlußpunkt
-V-D für negative Speisespannung verbunden wird.
Die Basis-Elektrode des Transistors T2 ist mit der Kollektor-Elektrode des pnp-Transistors T^ verbunden, dessen
Emitter-Elektrode mit dem Ausgangsanschlußpunkt 1 verbunden ist. Die Endstufe wird dadurch auf Ruhestrom eingestellt,
daß zwischen den Basis-Elektroden der Transistoren T* und
T^, im vorliegenden Beispiel · drei Dioden Ώζς. D^ und D= angeordnet
sind, durch die Ruhestrom fließt. Zwischen der Basis-Elektrode des Transistors T^ und dem negativen Speisungsanschlußpunkt
-Vg ist die Kollektor-Emitter-Strecke
-030049/0767 " ~"
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des Steuertransistors T,-, dessen Basis-Elektrode mit einem
Eingangsanschlußpunkt verbunden ist, angeordnet.
Wenn durch den Ausgangsanschlußpunkt 1 ein Strom Ia zu
einem Belastungswider stand 2 mit einem Widerstandswert R3.
als Funktion der Steuerung am Eingang 4 fließt, gilt für den Höchstwert lAmax des Stromes 1^:
_ vB
I4max = Rj~~ *
10
10
Dieser Wert liegt bei einem bestimmten Entwurf fest, weil die Höchstausgangsleistung gegeben ist. Für den zugehörigen
Höchstbasisstrom Iimax des Transistors T, gilt dann:
1IiHaX = ^max/^i h'
wobei /S1 den Stromverstärkungsfaktor des Transistors T1
und β ., den Stromverstärkungsfäkfcor des Transistors T, darstellt.
Der Strom I muß genügend groß sein, um diesen Basisstrom
zu liefern. Da die Stromverstärkungsfaktoren β .. und β -,
Prozeßänderungen ausgesetzt sind, muß daher giLten:
1O ^ ^max^ ^1min ?3min'
wobei β -Jn.^ und ß-*miri die Mindeststromverstärkungsfaktoren
der Transistoren T1 und T, darstellen. Die vorgenannte
Streuung der Stromverstärkungsfaktoren bewirkt, daß die Stromstärke IQ immer größer gewählt wird als erforderlich ;
ist (erforderlich ist IQ = I^max/ P1 $■$, wobei P1 und β ^
die Istwerte der'Stromverstärkungsfaktoren darstellen), was beim Erreichen des Höchstausgangsstromes starke Verzerrungen
mit sich bringt. Die in der Schaltung nach Fig. 1 angewandte Lösung nach der Erfindung besteht darin, daß parallel
zu dem Basis-Emitter-Übergang des Transistors T1 eine
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mit | 5 | den | Dioden | 1 | und |
*4 | |||||
1T | = η |
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Diode D1 und parallel zu dem Basis-Emitter-Übergang des
Transistors T, eine Diode D2 angeordnet ist. Für den Stromverstärkungsfaktor
der Transistoren T1 und T, in Vereinigung
gilt dann:
m,
wobei η das Verhältnis zwischen der wirksamen Basis-Emitter-Oberfläche
des Transistors T, und der wirksamen Diodenübergangsoberfläche
der Diode D2 und m das Verhältnis zwischen der wirksamen Basis-Emitter-Oberfläche des Transistors
T1 und deijwirksamen Diodenübergangsoberfläche der
Diode D1 darstellen. Diese Gleichung für I^/l-j gilt nur bei
Vernachlässigung der Basisströme der Transistoren T1 und T^,
so daß sich sagen läßt, daß η und m kleiner als die Stromverstärkungsfaktoren
der zugehörigen Transistoren selber sein müssen. Diese Oberflächenverhältnisse η und m sind in
integrierten Schaltungen mit großer Genauigkeit erzielbar, insbesondere wenn für die Dioden D1 und D2 ähnliche Transistoren
wie die Transistoren T1 und T, mit einer Verbindung
zwischen Kollektor- und Basis-Elektrode gewählt werden. Dadurch liegt der Höchstwert I4max/n*m für den Strom I0 sehr
gut fest und ist nahezu keiner Streuung ausgesetzt. Für η
25ist z.B. ein Wert 12 und für m - dank der verhältnismäßig
großen benötigten Oberfläche für den Endtransistor T1 ein
Wert von z.B. 40 erzielbar.
Ein zusätzlicher Vorteil ist der, daß infolge des unvermeidliehen
inneren BasiswiderStandes der Transistoren T1 und
Τ, der Stromverstärkungsfaktor n«m bei zunehmendem Ausgangsstrom
I^ dadurch abnimmt, daß über diesen inneren Basiswiderständen
ein Spannungsverlust auftritt. Diese Abnahme des Stromverstärkungsfaktors n-m bei zunehmendem Ausgangsstrom
35I^ übt auch, wie gefunden wurde, einen günstigen Einfluß auf
; die Größe der bei Annäherung der Emitterpotentiale der
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*. 42- PHN 9458
Transistoren T1 und T, an die Speisespannung auftretenden
Verzerrungen aus.
Fig. 2 zeigt eine Abwandlung der Schaltung nach Fig. 1, bei der die Diode O^ weggelassen ist und die Stromquelle 3 dirch
einen pnp-Transistor Tg gebildet wird, dessen Kollektor-Elektrode
mit der Basis-Elektrode des Transistors T*,
dessen Emitter-Elektrode mit dem positiven Speisespannungsanschlußpunkt Vg und dessen Basis-Elektrode mit der Kollektor-Elektrode
eines Stromquellentransistors Ty verbunden ist. Zu dem Basis-Emitter-Übergang des Transistors Tg ist
eine Diode Dg parallelgeschaltet. Die Basis-Elektrode des
Transistors Ty ist mit einem an einer Bezugsspannung Vref
liegenden Punkt und die Emitter-Elektrode ist über einen Widerstand 5 mit einem Widerstandswert R, mit dem negativen
Speisespannungsanschlußpunkt -Vg verbunden.
Der Kollektorstrom des Transistors Ty ist gleich Vref/RD,
wenn man von der Basis-Emitterspannung des Transistors Ty
absieht. Dieser Kollektorstrom wird über den durch die Diode Dg und den Transistor Tg"gebildeten Stromspiegel zu
der Basis-Elektrode des Transistors T, gespiegelt, so daß
der Strom IQ zu R^ umgekehrt proportional ist. Für den
Basisstrom I1 des Transistors T, gilt:
I1 = I4/P3.m,
so daß der Basisstrom des Transistors T, bei einem bestimmten
Wert des Ausgangsstroms I^ dem Stromverstärkungsfaktor des
Transistors T, umgekehrt proportional ist.
Wenn als Widerstand 5 ein vergrabener Widerstand verwendet
wird, üben Prozeßänderungen auf den Widerstandswert R^ und
somit auf den Strom IQ denselben Einfluß aus wie auf den
Stromverstärkungsfaktor β ^ und somit auf den Strom I1.
Dadurch ist der Einfluß von Prozeßänderungen auf den Strom-
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- 43 -
PHN
verstärkungsfatkro £-, bei der Wahl der Nennstromstärke des
Stromes I eliminiert.
Bei den Schaltungen nach Fig. 1 bereitet die Erhaltung eines
genügend großen Stromverstärkungsfaktors m(D1,T1) infolge
der vom Leistungsgesichtspunkt notwendigen großen Oberfläche des Transistors T^ keine Schwierigkeiten. Dies kann bei der
Erhaltung eines genügend großen Stromverstärkungsfaktors η ganz anders sein, wozu es in bestimmten Fällen notwendig
10sein kann, den Transistor T, größer zu wählen als unbedingt
erforderlich ist. Darin liegt der Vorteil der Schaltung
nach Fig. 2, in der der Transistor T, durch Anwendung des
vergrabenen Widerstandes 5 nicht zu einem Stromspiegel erweitert zu werden braucht.
Fig. 3 zeigt schematisch den Aufbau eines vergrabenen Widerstandes
neben einem Bipolartransistor. In einem z.B. p-leitenden
Substrat 6 ist eine η-leitende epitaktische Schicht
erzeugt, die durch Trenndiffusionsζonen 7 in besondere
Gebiete 8 und 13 unterteilt ist. In den Gebieten 8 und 13 ist eine p^-leitende Diffusionszone 9 bzw. 10 mit darin einer
η-leitenden Diffusionszone 11 bzw. 12 erzeugt. Das Gebiet 13,
die Diffusionszone 10 bzw. die Diffusionsζone 12 bilden den
Kollektor, die Basis bzw. den Emitter eines bipolaren npn-
25Transistors. Die durch die Diffusionszone 11 und die epitaktische
Schicht 8 begrenzte p-leitende Diffusion 9 bildet
einen vergrabenen Widerstand, dessen Widerstandswert u.a. durch die Abmessungen der Diffusion 11 und den Abstand
der Diffusionszone von der epitaktischen Schicht 8 bestimmt
30wird. Auf ähnliche Weise wird der Stromverstärkungsfaktor
des genannten Bipolartransistors durch die Abmessungen und die Lage der Emitterdiffusionszone 12 in bezug auf die epitaktische
Schicht 13 mitbestimmt. Da der vergrabene Widerstand und der Bipolartransistor in denselben Verfahrensschritten
gebildet werden, üben Prozeßänderungen nahezu denselben Einfluß auf den Widerstandswert und den Strom-
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l Ah PHN 9458
verstärkungsfaktor aus.
Die Erfindung beschränkt sich nicht auf die dargestellten Beispiele. So ist die Maßnahme nach der Erfindung auch bei
Endstufen ohne Darlingtonkonfiguration anwendbar. Auch wenn die Leitungstypen der dargestellten Transistoren und Dioden
sowie die Polarität der Speisespannung umgekehrt werden, bleibt die Maßnahme der Erfindung durchführbar. Auch bei anderen
von der dargestellten scheinbar komplementären Endstufe verschiedenen Typen von Endstufen ist die Anwendung der
erfindungsgemäßen Maßnahme(n) möglich.
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Claims (4)
- PHN 9458PATENTANSPRÜCHE:A. Integrierte Endverstärkerstufe mit einem ersten und einem zweiten Speisungsanschlußpunkt und einem Ausgangsanschlußpunkt, einem ersten Endtransistor, dessen Emitter mit dem Ausgangsanschlußpunkt und dessen Kollektor mit dem ersten Speisungsanschlußpunkt verbunden ist; einem zweiten Endtransistor, dessen Kollektor-Emitter-Strecke zwischen dem Ausgangsanschlüßpunkt und dem zweiten Speisungsanschlußpunkt angeordnet ist; einer Ruhestromeinstellschaltung, die mit" der Basis-Elektrode des ersten Endtransistors verbunden ist; und mit einer Stromquelle, die der Ruhestromeinstellschaltung Gleichstrom liefert und zwischen der Basis-Elektrode des ersten Endtransistors und dem ersten Speisungsanschlüßpunkt angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, daß parallel zu dem Basis-Emitter-Übergang des ersten Transistors (T1) ein erster Halbleiterübergang (D1) mit derselben Durchlaßrichtung wie der Basis-Emitter-Übergang des ersten Endtransistors (T1) angeordnet ist, und daß das Verhältnis (m) zwischen den wirksamen Oberflächendes Transistors (T1) einerseits und des Halbleiterübergangs (D1) andererseits erheblichgrößer als 1 aber kleiner als der Stromverstärkungsfaktor (JS1) des ersten Endtransistors (T1) gewählt ist.
- 2. Integrierte Endverstärkerstufe nach Anspruch 1, bei der zwischen der Stromquelle und der Basis-Elektrode desersten Transistors der Basis-Emitter-Übergang eines dritten Transistors, der mit dem ersten Transistor in Darlingtonschaltung angeordnet ist, aufgenommen ist, dadurch gekennzeichnet, daß parallel zu dem Basis-Emitter-Übergang des dritten Transistors (T,) ein zweiter HalbleiterÜbergangJ(Dp) mit derselben Durchlaßrichtung wie der Basis-Emitter-Übergang des dritten Transistors (T,) angeordnet ist, wodurch0300A9/0767 .2- PHN 9458der Stromverstärkungsfaktor der Kombination des dritten Transistors und des zweiten Halbleiterübergangs im wesentlichen durch das Verhältnis zwischen der wirksamen Basis-Emitter-Oberfläche, des dritten Transistors (T,) und der wirksamen Halbleiterübergangsoberfläche des zweiten Halbleiterübergangs erheblich größer als 1 aber kleiner als der Stromverstärkungsfaktor (β ,) des dritten Transistors (T*) gewählt ist.
- 3. Integrierte Endverstärkerstufe nach Anspruch 1, bei der zwischen der Stromquelle und der Basis-Elektrode des ersten Transistors der Basis-Emitter-Übergang eines dritten Transistors, der mit dem ersten Transistor in Darlingtonschaltung angeordnet ist, aufgenommen ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Stromquelle einen vergrabenen Widerstand (5) und Mittel zum Anlegen einer festen Spannung (Vref) über diesem Widerstand (5) enthält, so daß der von der Stromquelle gelieferte Strom dem Widerstandswert(R,) des vergrabenen Widerstandes umgekehrt proportional ist, und daß der vergrabene Widerstand (5) durch eine Diffusionszone vom gleichen Typ wie die Basisdiffuionszone des dritten Transistors (T,) gebildet wird, über die eine Diffusion vom gleichen Typ wie die Emitterdiffusion des dritten Transistors angebracht ist..
- 4. Integrierte Verstärkerstufe mit einem ersten und einem zweiten Speisungsanschlußpunkt und einem Ausgangsanschlußpunkt, wobei diese Stufe enthält: einen ersten Endtransistor, dessen Emitter mit dem Ausgangsanschlußpunkt und dessen Kollektor mit dem ersten Speisungsanschlußpunkt verbunden ist; einen zweiten Endtransistor, dessen Kollektor-Emitter-Strecke zwischen dem Ausgangsanschlußpunkt und dem zweiten Speisungsanschlußpunkt angeordnet ist; eine Ruhestromeinstellschaltung, die mit der Basis-Elektrode des ersten Transistors verbundenist, und eine Stromquelle, die der Ruhestromeinstellschaltung Gleichstrom liefert und zwischen der Basis-Elektrode030049/0767PHN 9458des ersten Transistors und dem ersten Speisungsanschlußpunkt angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Stromquelle einen vergrabenen Widerstand und Mittel zum Anlegen einer festen Spannung iYref) über diesem vergrabenen Widerstand enthält, so daß der von der Stromquelle gelieferte Strom dem Widerstandswert (B-O des vergrabenen Widerstandes umgekehrt proportional ist, und daß der vergrabene Widerstand durch eine Diffusionszone (9) vom gleichen Typ wie die Basisdiffusionszone (10) des ersten Transistors gebildet wird, über der eine Diffusionszone (11) vom gleichen Typ wie die Emitterdiffusionszone (12) des ersten Transistors angebracht ist.■030049/0767
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NL (1) | NL7903963A (de) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |