DE3011018C2

DE3011018C2 - Verfahren zum Polstern von Stützteilen eines Brillengestells und ein Polsterüberzug zur Durchführung dieses Verfahrens

Info

Publication number: DE3011018C2
Application number: DE3011018A
Authority: DE
Inventors: Takeshi Annaka Gunma Fukuda; Tomiyoshi Takasaki Gunma Tutida
Original assignee: Shin Etsu Chemical Co Ltd
Current assignee: Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date: 1979-03-22
Filing date: 1980-03-21
Publication date: 1984-08-16
Also published as: JPS55126436A; DE3011018A1; GB2044667B; GB2044667A; US4293201A; JPS6053057B2

Description

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Quellmittel eine Organosiliciumverbindung mit einem Siedepunkt im Bereich von 20 bis 200° C eingesetzt wird.

3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Organosiliciumverbindung Hexamethyldisiloxan eingesetzt wird.

4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der getrocknete Siliconkautschuk eine Härte im Bereich von 15 bis 90 nach der Härteskala der japanischen Industrienorm (JIS) hat

5. Überzugspolster für die Stützauflageteile eines Brillengestells, wobei das Oberzugspolster vor dem Aufbringen auf das Brillengestell ein Formteil ist. welches unterdimensioniert der Form des zu polsternden Teils des Brillengestells angenähert ist und aus einem Siliconkautschuk besteht, zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Formteil mit einer flüchtigen Organosiliciumverbindung quellbar und aufschrtimpfhar ist.

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Anbringen eines Polsterüberzugs eines Brillengestells der im Oberbegriff des Patentanspruchs 1 genannten Art sowie ein Polsterüberzug zur Durchführung dieses Verfah-

Speziell bezieht sich die Erfindung auf ein verbessertes gummigepolstertes Brillengestell, bei dem insbesondere die Abschnitte des Gestells, die den Kopf des Trägers berühren, mit einem Siliconkautschukpolster gepolstert sind. Speziell befaßt sich die Erfindung mit einem Verfahren zum Anbringen solcher Siliconkautschukpolster auf einem Brillengestell.

Ein Brillengestell ist bei bestimmungsgemäßer Verwendung durch den Träger üblicherweise um und hinter beide äußere Ohrmuscheln und auf dem oberen Teil des Nasenrückens des Trägers abgestützt. Zur Abstützung auf der Nase dienen üblicherweise besonders ausgeformte Nasenstützteile. Die sorgfältige Abstimmung und Anpassung dieser drei Stützelemente des Brillengestells auf bzw. an die Kopfform des Brillenträgers erfordert vom Optiker ein hohes Maß an Geschicklichkeit, wenn die Brille auch bei langem Tragen einerseits bequem und druckfrei, andererseits aber doch fest und sicher sitzen soll. Bei zu fester Anpassung des Brillengestells tritt ein schmerzhafter Druck an den Ohrmuscheln und/oder auf dem Nasenrücken ein, während das Brillengestell bei zu lockerer Anpassung aus der angestrebten Sitzlage herausrutscht, insbesondere beim längeren Tragen in feuchter und/oder warmer Umgebung oder beim Sport.

Das sorgfältige Anpassen eines Brillengestells ist daher in aller Regel nicht nur für den Optiker, sondern auch für den Brillenträger eine durchaus lästige und unangenehme Angelegenheit.

Um bei der Anpassung des Brillengestells an die Kopfform des Trägers größere Anpassungstoleranzen zu schaffen, sind Brillengestelle entwickelt worden, die in den Stützbereichen mit Gummipolstern versehen sind. Dabei sind die Polster als Überzüge über die Nasenstützen und die rückwärtigen Bügelabschnitte des Brillengestells gezogen. Diese Stützelemente des Brillengestells, nämlich die Nasenstützteile und die rückwärtigen Bügelabschnitte, weisen jedoch ausgesprochen unregelmäßige Formen auf und weichen von einem Modell eines Brillengestells zum anderen häufig recht stark voneinander ab. Dadurch ergibt sich die Schwierigkeit, beim Überziehen vorgefertigter Gummipolster über diese zu polsternden Abschnitte eines Brillengestells einen ausreichend festen Sitz der Gummipolster auf den Substraten zu erzielen. Außerdem ist eine Fertigung solcher Polster in sinnvoll großen Serien nicht möglich. So sind beispielsweise bei vielen Brillengestellen die äußersten

Endbereiche der Bügel wesentlich breiter als die mittleren Bügelbereiche ausgebildet Beim Überziehen eines zylindrischen Gummischlauchabschnitts über einen solcherart geformten Brillengestellbügel kann daher kein ausreichend knapper und fester Sitz des übergezogenen Gummipolsters erreicht werden. Dieser zu lockere Sitz beeinträchtigt nicht nur die Stabilität des Sitzes und der Polsterung, sondern beeinträchtigt auch das gefällige Aussehen des Brillengestells.

bO Aus der technischen Literatur sind einige Polsterüberzüge für Brillen bekannt So wird in der DE-OS 27 38 777 eine sogenannte Padvorrichtung aus Kunststoff für Brillen beschrieben, die sich dadurch auszeichnet, daß in die Sacklochaussparung des Pads ein Stück Metalldamast hineinragt. Damit sollen die Nachteile eines Padhebeldrahtes beseitigt werden und es sollen die mechanischen Eigenschaften des Kunststoffes besser genutzt werden.

Aus der DE-O.S 27 37 146 ist ein Brillenbügel bekannt, auf dessen Stab aus Metalldamast im Ohrbereich eine

W dünne Kunststoffhülse geschoben wird.

In der DE-CiM 17 68 379 werden schließlich Brillengestelle mit l'laslikkappen an den linden in ganz allgemeiner Weise beschrieben.
Allen bekannten Polsterüber/.ügen für Brillen haftet der Nachteil an, daß sie nicht den individuellen Kopffor-

men der Träger angepaßt sind.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum Polstern der Stützbereiche eines Brillengestells zu schaffen, bei dem die Gummipolster über die Stützteile mit knappem und festem Sitz gespannt werden können, ohne dadurch das ästhetische Aussehen des Brillengestells zu beeinträchtigen und den Sitz des auch gut angepaßten Gestells zu verschlechtern. Die Erfindung soll weiterhin ein Polsterstück zur Durchführung dieses Verfahrens zur Verfügung stellen.

Zur Lösung dieser Aufgabe wird ein Verführen der eingangs genannten Art geschaffen, das erfindungsgemäß die im kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs I genannten Merkmale aufweist. Der Polsterüber/.ug ist durch die im Anspruch 5 angegebenen Merkmale gekennzeichnet.

Zum Polstern der Stützbereiche eines Brillengestells, also zum Polstern der Nasenuüt/en und der rückwärtigen Abschnitte der Bügel, wird beim Verfahren der Erfindung von vorgeformten Siliconkautschukteilen ausgegangen, die kleiner als die zu polsternden Abschnitte des Brillengestells bemessen, ansonsten aber prinzipiell angepaßt geformt sind. Diese mit unterdimensionierten Abmessungen vorgefertigten Polsterstücken aus Siliconkautschuk werden dann zunächst mit einem Quellmittel gequollen. Die geqollenen Polster werden dann über die zu polsternden Abschnitte des Brillengestells gezogen. Anschließend wird das vom Kautschuk aufgenommene Quellmittel verdampft und der Siliconkautschuk getrocknet. Dabei schrumpft das Siliconkautschukpolster fest auf den als Substrat dienenden Abschnitt des Brillengestells auf.

Als Quellmittel dient vorzugsweise eine Organosiliciumverbindung mit niedrigem Molekulargewicht.

Die Formgebung des vorgefertigten Siliconkautschukpolsterstücks richtet sich selbstverständlich zumindest im wesentlichen nach der geometrischen Form des zu polsternden Abschnitts des Brillengestells auf.

Die Formgebung des vorgefertigten Siliconkautschukpolsterstücks richtet sich selbstverständlich zumindest im wesentlichen nach der geometrischen Form des zu polsternden Abschnitts des Brillengestells. Dabei werden die Polster, die für die Nasenstützplättchen bestimmt sind, eine andere Form als die Polster haben, die der Polsterung der rückwärtigen Bügelabschnitte dienen. So wird das Polster zur Polsterung der Nasenstützen des Brillengestells in aller Regel zumindest angenähert die Form einer kleinen Tasche oder eines kleinen Beutels haben, während das zur Polsterung der rückwärtigen Bügelabschnitte bestimmte vorgefertigte Polsterelement eher schlauchförmig, meist einseitig geschlossen, ausgebildet ist. In jedem Fall ist das vorgefertigte Siliconkautschukpolsterelcment jedoch kleiner dimensionier! als die zu polsternden Stützabschnitte des Brillengestells, über die die vorgefertigten Polster gezogen werden sollen. Durch diese Unterdimensionierung wird nach dem jo Trocknen der gequollenen Polster ein fester, die Substratteile fest umspannender Sitz des Polsters erzielt.

Im Vergleich zu anderen Arten von Synthesekautschuk oder Naturkautschuk wird als Werkstoff für die Brillengestellpolster Silicongummi aus folgenden Gründen vorgezogen:

1. Siliconkautschukmischungen können in besonders einfacher Weise mit den verschiedensten Härten innerhalb eines sehr breiten Härtebereichs eingestellt werden und sind dadurch in besonders einfacher Weise den Wünschen des Brillenträgers anzupassen;

2. insbesondere auf feuchter oder transpirierender menschlicher Haut ist die Oberfläche von Siliconkautschukteilen deutlich geringer gleitfähig als andere Kautschuktypen, so daß beim Tragen einer mit Siliconkautschuk gepolsterten Brille stets das angenehme Gefühl eines festen Sitzes auch bei feuchter Haut erhalten bleibt;

3. Siliconkautschuk ist physiologisch völlig inert und verursacht keinerlei Hautirritation oder Kontaktdermatitis, selbst wenn er langfristig mit der Hautoberfläche in Berührung bleibt; und

4. transparente bis durchsichtige Silicongummiqualitäten sind preiswert und problemlos zugänglich, so daß

bei deren wirtschaftlicher Verwendung der ästhetische Eindruck des mit einem Siliconkautschuk gepolsterten Brillengestells nicht beeinträchtigt wird.

Die Wandstärken des vorgeformten Siliconkautschukpolsterteils sind nicht spezifisch kritisch. Die Wandstärke liegt vorzugsweise im Bereich von 0,1 bis 5 mm, insbesondere im Bereich von 0,3 bis 2 mm. Sie richtet sich im einzelnen nach dem Grad des angestrebten Polstereffekts. Von größerer Bedeutung ist die Härte des Siliconkautschuks, die wesentlich für das angenehme oder unangenehme Empfinden beim Tragen des gepolsterten Brillengestells verantwortlich ist. Vorzugsweise wird die Härte des verwendeten Siliconkautschuks auf einen Bereich zwischen 15 und 90, insbesondere 30 bis 70 auf der Härteskala der japanischen Industrienorm (JlS) eingestellt. Die Mittel, mit denen Siliconkautschukmischungen auf solche vorgegebenen Härtegrade eingestellt werden, stehen dem Fachmann ohne weiteres in großer Vielfalt zur Verfügung.

Die vorgefertigten Siliconkautschukpolster werden dann im nächsten Verfahrensschritt mit einem geeigneten Quellmittel gequollen. Als Quellmittel für Siliconkautschuk sind zahlreiche organische Lösungsmittel bekannt. Die Auswahl unter den verfügbaren Quellmitteln richtet sich dabei insbesondere nach dem Grad der Flüchtigkeit des Quellmitteis. Dabei soll die Flüchtigkeit des Quellmittels ausreichend groß sein, um ein relativ rasches Trocknen und Aufschrumpfen des gequollenen Polsterteils auf das zu polsternde Substratteil zu gewährleisten.

Als organische Lösungsmittel, die für Siliconkautschuk als Quellmittel geeignet sind, seien die folgenden genannt: aromatische Kohlenwasserstoffe, vorzugsweise Benzol, Toluol und Xylol, sowie halogenierte Kohlenwasserstoffe, vorzugsweise Tetrachlorkohlenstoff, Trichlorethylen und Perchlorethylen. Vorzugsweise werden zur Durchführung des Verfahrens der Erfindung Quellmittel eingesetzt, die einen Siedepunkt im Bereich von 20 bis 200⁰C haben, wobei diese Siedepunktangabe als Parameter für die Flüchtigkeit der Quellmittel dienen soll.

Durch Eintauchen des vorgeformten und vorgefertigten Siliconkautschukpolsterteils in das Quellmittel kann das Polsterteil bereits bei Raumtemperatur ohne Schwierigkeiten einer Quellung unterzogen werden. Bis zum Eintreten des Quellgleichgewichts ist im allgemeinen eine Verweilzeit des Polsterteils im Quellmittel von

ungefähr 3 min oder etwas langer erforderlich. Wenn der Grad der Quellung nach Erreichen des Quellgleichgewichts zu groß ist kann dieser Quellungsgrad dadurch auf den gewünschten Wert eingestellt das heißt erniedrigt werden, daß als Quellmittel ein Gemisch aus einem der vorstehend genannten reinen Quellmittel und einem nicht als Quellmittel wirkenden anderen Lösungsmittel verwendet wird. Vorzugsweise wird ein Gleichgewichtsquellungsgrad im Bereich von 105 bis 600 Gew.-% eingestellt Bei zu kleinem Grad der Quellung wird das Aufsetzen des Polsterteils auf das Substratteil des Brillengestells erschwert und wird nach dem Trocknen auf Grund unzureichender Schrumpfung nur ein zu loser Sitz des Gummipolsters erzielt Bei zu großem Grad der Quellung muß eine zu lange Verweilzeit für das Trocknen der gequollenen Polster auf den überzogenen Teilen des Brillengestells in Kauf genommen werden.

to Im Hinblick auf die Quellcharakteristik und die Trocknungscharakteristik sind die vorstehend genannten aromatischen Kohlenwasserstoffe und die halogenierten Kohlenwasserstoffe durchaus gut geeignete Quellmittel. Diese Quellmittel weisen jedoch eine Reihe anderer Nachteile auf. So verhalten sie sich insbesondere relativ aggressiv gegenüber anderen Werkstoffen, die üblicherweise im Zusammenhang mit Brillengestellen verwendet werden. Insbesondere die häufig verwendeten Kunststoffe auf Cellulosebasis werden von den genannten und als Quellmittel dienenden Lösungsmitteln stark angegriffen. Dieser chemische Angriff ist in Form eines weißen Belags auf der Oberfläche der Cellulosekunststoffe deutlich sichtbar. Bei Verwendung der genannten Lösungsmittel als Quellmittel für die Siliconkautschukpolster muß daher besonders sorgfältig darauf geachtet werden, daß die genannten Lösungsmittel zumindest nicht mit anderen Teilen des Brillengestells in Berührung kommen (solange dieses aus Kunststoff besteht), die nicht abzupolstern sind. Die meist poliert ausgeführten Oberflächen des Brillengestells würden durch eine solche Berührung mit den Lösungsmitteln in ihrem optischen Glanz und Eindruck erheblich beeinträchtigt.

Eine weitere Gefahr der genannten Quellmittel liegt darin, daß sie recht toxisch sind und der Umgang mit ihnen, insbesondere mit großem Volumina solcher Quellmittel, nicht ganz unbedenklich ist
Eine aufwendige Oberprüfung aller in Frage kommenden Quellmittel zur Durchführung des Verfahrens hat nun überraschenderweise gezeigt, daß eine Reihe niedermolekularer Organosiliciumverbindungen außerordentlich geeignete Quellmittel für die Silicongummipolster darstellen. Solche niedermolekularen Organosiliciumverbindungen sind physiologisch vollkommen inert und greifen auch die üblicherweise für Brillengestelle verwendeten Werkstoffe in keiner Weise an. Darüber hinaus können die Quellfähigkeit und die Flüchtigkeit solcher niedermolekularer Organosiliciumverbindungen ohne Schwierigkeit in praktisch beliebiger Weise beeinflußt und variiert werden. Dies kann im einfachsten Fall durch Mischen von mindestens zwei solcher Organosiliciumverbindungen mit unterschiedlichen Quelleigenschaften und/oder unterschiedlicher Flüchtigkeit erfolgen.

Als Organosiliciumverbindung bzw. bevorzugtes Quellmittel zur Durchführung des Verfahrens der Erfindung werden vorzugsweise Organosilane oder Organopolysiloxane der allgemeinen Formel

eingesetzt, in der R¹ ein Wasserstoffatom oder ein substituierter oder unsubstituierter einwertiger Kohlenwasserstoffrest ist, Y die Hydroxylgruppe oder eine hydrolisierbare Gruppe ist, a eine positive Zahl kleiner oder gleich 4 ist und b Null oder eine positive Zahl kleiner oder gleich 4 ist und zwar mit der Maßgabe, daß die Summe a + b eine positive Zahl kleiner oder gleich 4 ist Wenn die Summe a + b gleich 4 ist, so ist die Substanz der Formel 1 ein Organosilan der allgemeinen Formel

während die Substanz ein Organopolysiloxan ist wenn die Summe a + b kleiner als 4 ist. Der Siedepunkt dieser Organosiliciumverbindung liegt vorzugsweise im Bereich von 20 bis 200⁰C. Quellmittel mit noch niedrigerem Siedepunkt sind zunehmend schwieriger zu handhaben und führen auch nur zu ungenügenden Quellungsgraden im Siliconkautschuk. Bei Verwendung von Quellmitteln mit einem Siedepunkt von über 200° C sind die beim Trocknen des gequollenen Siliconkautschuks erzielbaren Verdampfungsgeschwindigkeiten zu klein.

In der oben genannten Formel I bedeuten R¹ eine Alkylgruppe, beispielsweise Methyl, Ethyl oder Propyl, vorzugsweise die Methylgruppe; eine Arylgruppe, beispielsweise Phenyl oder Tolyl, vorzugsweise Phenyl; oder eine Alkenylgruppe. beispielsweise Vinyl oder Allyl, vorzugsweise Vinyl. Alle vorstehend genannten Substituen-

ί5 ten können einfach oder mehrfach substituiert sein, insbesondere mit Halogenatomen.

Das Symbol Y in der allgemeinen Formel I steht für eine I lydroxylgruppc oder eine hydrolisicrbarc Gruppe, beispielsweise für eine Alkoxygruppe, vorzugsweise Methoxy, Ethoxy oder Propoxy; für Acyloxyreste, vorzugsweise Acetoxy oder Propoxy; für eine Aminogruppe oder eine substituierte Aminogruppe, für eine Aminooxygruppe oder eine substituierte Aminooxygruppe, für eine Ketoximgruppe, für eine Amidogruppe oder eine

w) Alkenyloxygruppe. Diese Hydroxylgruppe oder hydrolisierbare Gruppe sind für die Verwendbarkeit und die Tauglichkeit der als Quellmittel eingesci/.tcn Organosiliciumverbindungen jedoch nicht von ausschlaggebender Bedeutung.

In den vorstehend gezogenen Rahmen der als Quellmittel verwendbaren Organosiliciumverbindungen fallende vorzugsweise verwendete Substanzen sind die folgendenrTetramethylsilan.Trimethylethylsilan.Trimethylvi-

(,·> nylsilan, Trimethylperfluorpropylsilan. Trimcthylmelhoxysilan, Trimcthyleihoxysilan, Dimcthyldimcthoxysilan, Vinyltrimethoxysilan. Trimcthylsilanol. Perfluorpropyltrimetnoxysilan und eine Silicium enthaltende Ringverbindung der Formel

CH₂

\ CH₂

Neben den vorstehend im einzelnen angeführten Organosilanen werden außerdem vorzugsweise die folgenden Organopolysiloxane als Quellmittel verwendet: Hexamethyldisiloxan, 1,1,3,3-Tetramethyldisiloxan, 13-Dimethyldisiloxan, 1,1,1,3,3-Pentamethyldisiloxan, l,1,3,3-Tetramethyl-1,3-divinyldisiloxan, Octamethyltrisiloxan, 1,3.5-Trimethylcyclotrisiloxan, Octamcthylcyclotctrasiloxan und 1,3,5,7-Tetramethylcyclotetra.siloxan.

Als substituierte Alkyl enthaltende Organosilane kommen ferner Silalkylene und als substituierte Aminogruppen enthaltende Organosilane Silazane in die engere Wahl. Als aus diesen Substanzklassen vorzugsweise verwendete Substanzen seien die beiden folgenden genannt: Bis-(trimethylsilyl)-methan und Hexamethyldisilazan.

Aus der Gruppe der vorstehend speziell genannten Quellmittel wird vor allem vorzugsweise das Hexamethyldisiloxan als Quellmittel verwendet, da es für den hier verwendeten Siliconkautschuk ein ausgezeichnetes Quellmittel bei mäßiger Verdampfungsgeschwindigkeit mit einem Siedepunkt von 100⁰C ist und gleichzeitig relativ kostengünstig im Handel erhältlich ist.

Selbstverständlich können die vorstehend genannten Quellmittel auch im Gemisch miteinander verwendet werden, wobei neben Zweikomponentengemischen auch Mehrkomponentengemische eingesetzt werden können. Durch solche Mischungen können die Quelleigenschaften und die Trocknungseigenschaften besonders genau auf den speziellen Anwendungsfall eingestellt werden. Ebenso können die genannten Organosiliciumquellmittel als Einzelsubstanzen oder Gemische im Gemisch mit anderen mit diesen Quellmitteln mischbaren organischen Lösungsmitteln verwendet werden, um durch die Zurhilfenahme solcher anderer organischer Lösungsmittel beispielsweise das Quellverhältnis im Siliconkautschuk weiter zu erhöhen oder zu erniedrigen.

Die bis zum Eintritt des Quellungsgleichgewichts erforderliche Verweilzeit des Polsterteils im Quellmittel hängt zunächst ganz wesentlich von der Art des eingesetzten Quellmittels, dann aber auch von der Qualität des verwendeten Siliconkautschuks ab. Außerdem spielt der Vernetzungsgrad des Siliconkautschuks eine entscheidende Rolle. Im allgemeinen kann jedoch davon ausgegangen werden, daß auch unter ungünstigen Konstellationen eine Verweilzeit des Siliconkautschukpolsterteils im Quellmittel von 24 h bei Raumtemperatur in praktisch allen Fällen ausreicht, um ein Quellungsgleichgcwicht einzustellen. Bei Verwendung der vorstehend spezifizierten niedermolekularen Organosiliciumverbindungen als Quellmittel können unter diesen Bedingungen in jedem Fall Quellungsgrade im Bereich von 105 bis 500Gew.-% erhalten werden. Gleicherweise ist auch die bis zur vollständigen Trocknung des gequollenen Siliconkautschukleils und bis zur vollständigen Verdampfung des aufgenommenen Quellmittels erforderliche Trocknungszeit vor allem eine Funktion des verwendeten Quellmittels. Ein mit Hexamethyldisiloxan als Quellmittel gequollenes Siliconkautschukpolsterteil ist beim Trocknen bei Raumtemperatur an freier Luft innerhalb von 10 min vollständig durchgetrocknet.

Weiterhin ist in diesem Zusammenhang betonenswert, daß das gequollene Siliconkautschukteil, insbesondere das unter Verwendung einer niedermolekularen Organosiliciumverbindung der vorstehend genannten Art als Quellmittel gequollene Siliconkautschukformteii nach vollständiger Trocknung praktisch vollständig wieder seine ursprünglichen Abmessungen und mechanischen Eigenschaften zurückerlangt. Diese an sich überraschende Eigenschaft, daß einmal gequollene Kautschukformteile nach dem Trocknen wieder exakt ihre Ausgangsdimensionen annehmen und die ursprünglichen mechanischen Eigenschaften wiedererlangen, wurden in Versuchen an zahlreichen Siliconkautschukteilen in mehreren Quellzyklen und Trocknungszyklen eingehend überprüft und bestätigt.

So wird beispielsweise aus einem vernetzten Siliconkautschuk ein schlauchförmiger Prüfling durch Abscheiden von einem Strangmaterial hergestellt. Der schlauchförmige Siliconkautschukprüfling hat einen Innendurchmesser von 1,20 cm. Das strangförmige Schlauchmaterial, von dem dieser Prüfling geschnitten wird, wird durch Extrudieren einer im Handel erhältlichen Siliconkautschukmischung erhalten. Die einzelnen Prüflinge haben eine Länge von 2,50 bis 2,51 cm und ein Gewicht von 2,03 bis 2,04 g. Die Schlauchabschnitte werden in eine Organosiliciumverbindung der in der Tabelle 1 genannten Art getaucht. Die Vcrweilzeit beträgt 24 h bei 20⁰C.

Nach dieser Qucllbehandlung werden die Abmessungen und das Gewicht der gequollenen Prüflinge 3 h bei 20⁰C frei der Umgebungsluft ausgesetzt. Sie sind während dieser Zeit vollkommen durchgetrocknet. Nach dem auf diese Weise erfolgten Trocknen der Prüflinge werden für jeden Prüfling erneut seine Abmessungen und sein Gewicht bestimmt. Die auf diese Weise erhaltenen Ergebnisse sind in der Tabelle 1 zusammengefaßt.

	30	11 018	Gew.	Nach dem Trocknen	Innen-	Gew.
Tabelle I			(g)	Länge	durchm.	(g)
Quellmittel	gequollen			(cm)	(cm)
	Länge	Inncn-	5,51		UO	2,04
	(cm)	durchm.	620	2£1	UO	2,03
		(cm)	6,29	2.50	1,20	2,04
Trimethylvinylsilan	3,78	1,Sl	4,70	2,51	UO	2,04
Trimethylmethoxysilan	3,86	1,85	5,83	2^1	1,20	2,03
Dimethyldimethoxysilan	3,79	1.81	6.83	2^0	U1	2,06
Vinyltrimethoxysilan	3.52	1.69	5.48	2,52	1.20	2,03
Hexamethyldisiloxan	3.74	1,80	6.03	2,50	Ul	2,08
13,5-Trimethylcyclotrisiloxan	3,75	1.79		2,53
Bis-(trimethylsilyl)-methan	3.71	1.78
Hexamethyldisilazan	3,81	1,83

Weiterhin werden aus einer 2 mm dicken vernetzten Siliconkautschukfolie, die aus einer im Handel erhältlichen Siliconkautschukmasse hergestellt worden ist, ungefähr hanteiförmige Prüflinge gemäß den Spezifikationen des Prüflings Nr.2 der japanischen Industrienorm JIS K 6301 geschnitten. Die Prüflinge werden der Quellung durch Eintauchen in Hexamethyldisiloxan oder Trimethylmclhoxysilan für 72 h bei Raumtemperatur unterworfen. Die auf diese Weise der Qiicllung unterzogenen Prüflinge werden anschließend 3 h bei 20⁰C frei der Umgebungsluft ausgesetzt und dadurch vollkommen getrocknet. Die so gequollenen und anschließend wieder getrockneten Prüflinge werden der Härteprüfung, der Rcißdchnungsprüfung und der Zugfestigkeitsuntersuchung unterworfen. Dabei werden die in der Tabelle 2 zusammengestellten Ergebnisse erhalten.

Tabelle 2

Quellmittel

Härte
(HS)

Reißdehnung

Zugfestigkeit (N/mm²)

vordem Quellen

Hexamethyldisiloxan

Trimethylmethoxysilan

54
54
54

370	8,24
375	8,43
395

Diese Materialprüfungen zeigen, daß gebräuchlicher Siliconkautschuk, der zu schlauchabschnittförmigen oder taschenförmigen Polsterstücken verarbeitet, anschließend einer Quellung unterzogen, in dieser Form über die abzupolsternden Stützteile eines Brillengestells gezogen und anschließend getrocknet wird, nach dem Trocknen zu Siliconkautschukpolstern auf die zu polsternden Teile eines Brillengestells aufschrumpft und dort einen überraschend knappen und fest aufgeschrumpften Sitz ergibt Ein derart fester Sitz eines Gummipolsters ist durch bloßes Überspannen eines ungequollencn Gummiformteils über die zu polsternden Formteile des Brillengestells nicht zu erreichen. Darüber hinaus wird durch die Siliconkautschukpolster ein sicheres und angenehmes Tragen des Brillengestells ermöglicht, vor allem ein rutschfestes Tragen, ohne die Haut des Trägers zu irritieren oder eine Dermatitis auszulösen.

Claims

Patentansprüche:

1. Verfahren zum Anbringen eines Polsterüberzugs aus Siliconkautschuk auf den Stützteilen eines Brillengestells, die mit dem Kopf des Brillenträgers in Berührung gelangen, wobei ein Formteil aus Siliconkautschuk auf die zu polsternden Abschnitte des Brillengestells gezogen oder gespannt wird, dadurch gekennzeichnet, daß

(a) das Formteil mit einem flüchtigen Quellmittel getränkt wird und

(b) daß nach dem Aufziehen oder Aufspannen des Formteils das Quellmittel bis zur völligen Trocknung des ίο Siliconkautschuks wieder entfernt wird, wobei das Siliconkautschukformteil fest auf den zu polsternden

Abschnitt des Brillengestells aufschrumpft.