DE3005756A1 - Entwicklungseinrichtung - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft eine Entwicklungseinrichtung gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1, und betrifft insbesondere eine Entwicklungseinrichtung, in welcher eine gleichförmige, dünne Schicht aus einem Einkomponenten-Entwickler auf einer Entwicklerhalteeinrichtung ausgebildet ist und die dünne Schicht gegenüber einem ein latentes Bild tragenden Teil zur Entwicklungs des Bildes angeordnet ist.

onFür Entwxcklungseinrxchtungen, bei welchen ein Einkomponentenentwickler verwendet wird, sind verschiedene Verfahren bekannt oder vorgeschlagen worden. Hierbei ist als ein besonders vorteilhaftes Verfahren das sogenannte überspring-Entwicklungsverfahren bekannt ( bei welchem die Entwickler

g^auf eine ein elektrostatisches latentes Bild tragende Fläche überspringt). Bei diesem Verfahren wird der Entwickler als

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. dünne Schicht

auf eine Entwicklerhalteeinrichtung aufgebracht; danach wird eine ein elektrostatisches, latentes Bild tragende Fläche gegenüber der Oberfläche der dünnen Entwicklerschicht angeordnet, wobei dazwischen ein schmaler Spalt vorgesehen ist, und der Entwickler springt dann aufgrund der elektrostatischen Anziehung von der Entwicklerhalteeinrichtung auf die das elektrostatische, latente Bild tragende Fläche über, wodurch die Entwicklung durchgeführt ist (siehe US-PS'en 2 839 400 und 3 232 190). Bei diesem Verfahren wird der Entwickler nicht zu dem kein Bild tragenden Teil angezogen, der kein dem latenten Bild entsprechendes Potential aufweist, berührt aber auch den kein Bild tragenden Teil nicht, so daß infolgedessen eine gute, schleierfreie Entwicklung durchgeführt werden kann. Wenn ferner ein Einkomponenten-Entwickler ohne Trägerpartikel verwendet wird, werden auch dadurch gute Ergebnisse erhalten, daß das Mischungsverhältnis des Entwicklers nicht schwankt und daß es daher keine Verschlechterung der Trägerpartikel gibt.

Als Entwicklungsverfahren, die sich von diesem überspring-Entwicklungsverfahren unterscheiden, hat die Anmelderin auch ganz neue Entwicklungsverfahren vorgeschlagen, die beispielsweise in den US-Patentanmeldungen S.N. 938 4 94, 2^938 101, 58 434 und 58 435 beschrieben sind. Bei zwei dieser Entwicklungsverfahren werden ein magnetischer Einkomponentenentwickler, eine (nichtmagnetische) Entwicklerhalteeinrichtung und eine ein Magnetfeld erzeugende Einrichtung in der angegebenen Reihenfolge angeordnet, dann wird eine

gleichmäßig dünne Entwicklerschicht durch die Magnetkraft der das Magnetfeld erzeugenden Einrichtung auf der Entwicklerhalteeinrichtung ausgebildet, und die Oberfläche der dünnen Entwicklerschicht wird gegenüber der ein elektrostatisches, latentes Bild tragenden Oberfläche angeordnet, wo-

bei dazwischen ein sehr kleiner Spalt vorgesehen ist, so

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1 daß sich die beiden Oberflächen nicht berühren. Der dem das (latente) Bild tragenden Teil gegenüberliegende Entwickler wird durch die elektrostatische Anziehung übertragen, wodurch die Entwicklung bewirkt wird. Bei diesen Verfahren können ebenfalls schleierfreie, entwickelte Bilder erhalten werden, da die Entwicklung vorgenommen wird, ohne daß der Entwickler den kein Bild tragenden Teil berührt.

Bei den zwei anderen, in den letzten beiden US-Patentanmeidungen vorgeschlagenen Verfahren werden ein magnetischer Einkomponenten-Entwickler, eine nichtmagnetische Entwicklerhalteeinrichtung und eine ein Magnetfeld erzeugende Einrichtung in der angegebenen Reihenfolge angeordnet; es wird dann eine gleichmäßig dünne Entwicklerschicht durch '5 die Magnetkraft der das magnetische Feld erzeugenden Einrichtung auf dem Entwicklerhalteteil ausgebildet und die Oberfläche der dünnen Entwicklerschicht wird gegenüber der das elektrostatische, latente Bild tragenden Oberfläche angeordnet, wobei dazwischen ein sehr kleiner Spalt vorgese-

hen ist, so daß die beiden Oberflächen sich ebenfalls nicht berühren. Zur Entwicklung ist als Vorspannung eine Wechselspannung angelegt, und ferner wird der Spalt zwischen der das elektrostatische, latenteBild tragenden Oberfläche und der Entwicklerhalteeinrichtung mit der Zeit geändert, um eine Entwicklung durchzuführen. Bei diesen beiden Verfahren erreicht der Entwickler im Entwicklungsanfangsstadium den kein Bild tragenden Teil des elektrostatischen latenten Bildes, um dadurch die Entwicklung des Halbtonteils zu bewirken, und mit der Zeit erreicht der Entwickler nur den bildtragenden

Teil, wodurch die Entwicklung dieses Teils durchgeführt wird. Hierdurch wird eine Entwicklung erreicht, welche im Vergleich zu den früheren Verfahren bezüglich der Halbton-Reproduzierbarkeit ausgezeichnet ist und

darüber hinaus schleierfrei ist.
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Mit solchen Entwicklungsverfahren, bei weichen eine Ent-"

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wicklung mit Hilfe einer dünnen Schicht aus einem Einkomponentenentwickler bewirkt wird, welcher der latenten Bildoberfläche gegenüberliegend angeordnet ist, werden im Vergleich zu den herkömmlichen Verfahren hervorragende Ergebnisse bezüglich der Entwicklungsdurchführung, der Bildreproduzierbarkeit, der Lebensdauer des Entwicklers usw. erhalten. Aber sogar bei diesen Entwicklungsverfahren können, wenn sie in der Praxis eingesetzt werden, in einigen Fällen die folgenden Schwierigkeiten auftreten.

(1) Bei dem Entwicklungsvorgang bleiben Entwicklungsspuren an der Entwicklerschicht auf der Entwxcklerhalteeinrich- « tung zurück, wodurch während des nächsten Entwicklungszyklus ein Geisterbild entwickelt wird. Bei den vorstehend angeführten Entwicklungsverfahren ist die auf der Entwicklerhalteeinrichtung ausgebildete Entwicklerschicht eine sehr dünne Schicht. Wenn diese Entwicklerschicht für eine Entwicklung benutzt ist, besteht folglich ein großer Dikkenunterschied in der Entwicklerschicht zwischen dem Teil, welcher dem bildtragenden Teil entspricht, und dem Teil, der dem kein Bild tragenden Teil entspricht. Dieser Dickenunterschied in der Entwicklerschicht bleibt unversehrt übrig, selbst wenn frischer Entwickler zugeführt wird, nachdem die Entwicklerschicht für eine Entwicklung verwendet worden ist, wodurch die nächste Entwicklungsfolge sehr beeinflußt wird und was den Nachteil zur Folge hat, daß das sogenannte Geisterbild, welches ein negatives Muster des vorher entwickelten Bildes ist, bei dem nächsten Entwicklungsvorgang erzeugt wird. Dies wird dem Unvermögen zugeschrieben, die Oberfläche der Entwicklerhalteinrichtung, von welcher Entwickler abgenommen worden ist, danach mit frischem Entwickler ausreichend zu ergänzen (oder es wird einen gewissen Unterschied in den Eigenschaften (insbesondere bezüglich der Reibung) zwischen dem auf der Ober-

^ fläche der Entwicklerhalteeinrichtung zurückgebliebenen Entwickler und dem neu zugeführten Entwickler zugeschrieben) .

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(2) Eine dünne Entwicklerschicht ist auf der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung während einer langen Zeit ausgebildet, während welcher die Entwicklung durchgeführt wird, wodurch die Entwicklungswirksamkeit herabgesetzt wird. Während der Entwicklung kommt der Entwickler wiederholt mit der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung in Berührung und wird von dieser Oberfläche getrennt, so daß die Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung durch den Entwickler verschmutzt wird und auf ihr eine sehr dünne Entwicklerschicht ausgebildet wird. Diese sehr dünne Schicht besteht aus einer in dem Entwickler enthaltenen Harzkomponente mit einem niedrigen Molekulargewicht, oder aus einem Steuermittel zum Fördern der Reibung oder aus einer Schicht aus einem sehr feinen Pulver, das nicht zur Entwicklung beiträgt. Auf jeden Fall wird, wenn diese Komponenten die Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung bedecken, die Ladung des Entwicklers unzureichend, insbesondere bei den Entwicklungsverfahren, bei welchen die Ladung aufgrund der Reibung zwischen dem Entwickler und der Entwicklerhalteeinrichtung ausgenutzt wird, so daß dann die Entwicklungsdichte herabgesetzt wird und/oder die Bildreporduzierbarkeit erschwert wird.

(3) Während der langen Zeit, während welcher die Entwick-25lung durchgeführt wird, kommt es zu einer Anhäufung von Entwickler oder die Adhäsionskraft zwischen dem Entwickler und der Oberfläche der Entwickler-halteeinrichtung wird größer, so daß die Ausbildung einer gleichmäßig dicken Schicht schwierig wird und es zu Unregelmäßigkeiten bei der Entwicklung kommt.

Es gibt keine Schwierigkeiten, wenn der auf die Entwicklerhalteeinrichtung aufgebrachte Entwickler zu der Entwicklung beiträgt und dann innerhalb kurzer Zeit von der Oberfläche

der Entwicklerhalteeinrichtung entfernt wird; wenn aber

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Entwickler, welcher infolge seiner geringen Dichte nicht zur Entwicklung beiträgt, lange Zeit auf der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung zurückbleibt, wird die Aggregationskraft des Entwicklers größer, oder die Adhäsionskraft zwischen dem Entwickler und der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung wird größer, wodurch eine teilweise dicke Entwicklerschicht ausgebildet wird, was zu Unregelmäßigkeiten in dem entwickelten Bild führen kann.

Eine Entwicklungseinrichtung mit einem Teil zum Entfernen von Toner, welcher dicker aufgebracht ist als zumindest die Tonerschicht, die an das elektrostatische, latente Bild abgegeben wird, wobei das Teil an oder im Bereich eines Tonerzuführbehälters vorgesehen ist, um die Spuren der vorherigen Entwicklung zu beseitigen und um die Schaffung eines sogenannten Geisterbildes zu verhindern,ist beispielsweise in der US-PS 4 100 884 beschrieben.

Bei der in der US-PS beschriebenen Einrichtung handelt es sich jedoch nicht um eine Einrichtung, bei welcher aller Entwickler auf der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung auf einmal soweit wie möglich entfernt wird und bei welcher dann frischer Entwickler der Entwicklerhalteeinrichtung zugeführt wird, und folglich bestehen auch hier 25noch Schwierigkeiten, wie sie beispielsweise unter den Punkten (2) und (3) angeführt sind, und zwar insbesondere die unter Punkt (2) angeführte Schwierigkeit.

Die Erfindung soll daher eine Entwicklungseinrichtung schaf-30fen, bei welcher die vorstehend angeführten Schwierigkeiten gelöst sind, welche eine gute Bildreproduzierbarkeit aufweist, bei welcher eine hohe Wiedergabetreue gewährleistet ist und bei welcher der Entwickler lange genutzt werden kann. Ferner ist gemäß der Erfindung eine Entwick- ^lungseinrichtung geschaffen, bei welchen der Nachteil der herkömmlichen Einrichtungen beseitigt ist, daß während einer

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1 langen Zeit, während welcher eine Entwicklung durchgeführt wird, eine dünne Entwicklerschicht auf der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung ausgebildet wird_f wodurch die Entwicklungswirksamkeit herabgesetzt wird. 5

Gemäß der Erfindung wird der Entwickler auf einer Entwicklerhalteeinrichtung durch ein elektrisches Reinigungsverfahren (für magnetischen Entwickler),oder durch ein mechanisches Reinigungsverfahren während der Zeit nach der 10Beendigung der Entwicklung entfernt, bis die Entwicklerzuführung beendet ist, und zwar in einem Entwicklungsverfahren, bei welchem eine endlose Entwicklerhalteeinrichtung in einem sehr geringen Abstand bezüglich eines das latente Bild tragenden Teils angeordnet wird, Entwickler der Ent-■5 wicklerhalteeinrichtung zugeführt wird, die Dicke der Schicht aus zugeführtem Entwickler gesteuert und eingestellt wird, und die eingestellte Entwicklerschicht zur Durchführung einer Entwicklung gegenüber dem das latente Bild tragenden Teil angeordnet wird.
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Gemäß der Erfindung weist daher eine Entwicklungseinrichtung, in welcher der Entwickler reibungselektrisch geladen wird und auf eine zu entwickelnde Oberfläche aufgebracht wird,um diese dadurch zu entwickeln, eine Entwicklungshalteeinrichtung, die in einem sehr geringen Abstand bezüglich eines das latente Bild tragenden Teils angeordnet ist, eine Abstreichschneide zum Einstellen der Dicke der Entwicklerschicht auf dem Entwicklerhalteteil und eine Teil auf, das an einer geeigneten Stelle während der Zeit

nach einer Entwicklung angeordnet ist, bis die Entwicklerzuführung für den nächsten Entwicklungszyklus beendet ist, umden auf dem Entwicklerhalteteil zurückgebliebenen Entwickler zu entfernen, so daß dann eine Entwicklung mit frischem Entwickler durchgeführt werden kann, der-für

jeden Entwicklungszyklus zugeführt worden ist.

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Nachfolgend wird die Erfindung anhand von bevorzugten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die anliegenden Zeichnungen im einzelnen erläutert. Es zeigen:

Fig. 1A und 1B graphische Darstellungen, in welchen die zahlenmäßige Verteilung der Entwicklerpartikel bezüglich des Partikeldurchmessers bzw. die Gewichtsverteilung bezüglich des Partikeldurchmessers aufgetragen ist;
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Fig. 2A eine Schnittansicht durch eine Ausführungsform der Entwicklungseinrichtung gemäß der Erfindung;

Fig.2B einen Teil einer Schnittansicht einer Abwandlung davon;

Fig. 2C eine Draufsicht auf eine Entwickler-Entfernungsplatte;

Fig. 3A und 4A Schnittansichten von weiteren Ausführungsformen der Erfindung;

Fig. 3B und 4B Teile von Schnittansichten von Abwandlungen;

Fig. 5 eine Schnittansicht, in welcher eine weitere Ausführungsform der Entwicklungseinrichtung gemäß der Erfindung dargestellt ist;

Fig. 6A eine Schnittansicht noch einer weiteren Ausführungs-

^ou form der Erfindung; und

Fig. 6B eine perspektivische Ansicht einer weiteren Ausführungsform der Entwickler-Entfernungseinrichtung.

Bevor die einzelnen Ausführungsformen der Erfindung beschrieben werden, wird die vorstehend unter Punkt (2) an-

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1 geführte Schwierigkeit, nämlich die Verschmutzung der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung durch Entwickler noch weiter erörtert, um die Zielrichtung, die Arbeitsweise und die Wirkung der Erfindung klar herauszustellen. Wie bereits ausgeführt, kann während einer langen Entwicklungszeit

eine dünne Entwicklerschicht auf der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung ausgebildet werden, wodurch die Wirksamkeit bzw. die Durchführung der Entwicklung herabgesetzt wird. Während der Entwicklung kommt der Entwickler wiederholt mit der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung in Anlage und wird von der Oberfläche getrennt/und- infolgedessen wird die Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung durch den Entwickler verschmutzt und es wird eine sehr dünne Entwicklerschicht beziehungsweise ein Entwicklerfilm auf dieser Oberfläche ausgebildet. Dieser Entwicklerfilm besteht aus einer in dem Entwickler enthaltenen Harzkomponente mit einem sehr niedrigen Molekulargewicht oder aus im Hinblick auf die Reibungseigenschaft vorgesehenen Steuermitteln oder aus einer Schicht aus einem sehr feinen Pulver, das nichts zur Entwicklung beiträgt. Insbesondere werden im allgemeinen die folgenden chemischen Mittel als Steuermittel verwendet: Spyron Blue GNH (hergestellt von der Hodo_:gaya Kagaku Co., Ltd., CI. Solvent Blue 67), Zaponechtschwarz B (herge-²^ stellt von BASF, CI. 12195), Oil Blue $15 (hergestellt von der Yamamoto Kagaku Co., Ltd. CI. 74350, CI. Solvent Blue 25), Macrolex-Blau (hergestellt von Bayer, CI. Solvent Blue 97), Barifast Blue 2606 (hergestellt von der Orient Kagaku Co., Ltd, Ölfarbe), Oil Blue BOS (herge- ^ou stellt von der Orient Kagaku Co., Ltd., Ölfarbe CI. 74350), Cassette Yellow G. (hergestellt von der Nippon Kagaku Co., Ltd. CI. 11855, CI. Solvent Yellow 77), Eisenspyronred BEH (hergestellt von der Hodogaya Kagaku Co., Ltd., CI. Solvent Red 83), Celitonrot SF 7874 (her-

gestellt von BASF, Dispersionsfarbstoff), und Cassette Yellow 963 (hergestellt von der Nippon Kagaku Co., Ltd.,

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Dispersionsfarbstoff). Auch die Hauptkomponente des feinen Pulvers, das nichts zur Entwicklung beiträgt, aber an der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung haftet und auf dieser eine dünne Schicht bildet, ist eine Harzkomponente, die in dem Entwickler enthalten ist und insbesondere die folgenden Bestandteile aufweist:Homopolymere von Styrol und dessen Substitutionsprodukten wie Polystyrol, Poly-p-chlorstyrol und Polyvinyltoluol, Styrol-Copolymere, z.B. ein Styrol-p-chlorstyrol-Copolymer,

]Q ein Styrol-Vinyl-toluol-Copolymer, ein Styrol-Vinylnaphthalin-Copolymer, ein S ty ro 1-Methylacrylat- Copolymer, ein Styrol-Äthylacrylat-Copolymer, ein Styrol-Butylacrylat-Copolymer, ein Styrol-Octylacrylat-Copolymer, ein Styrol-Methylmethacrylat-Copolymer, ein Styrol-Äthylmethacrylat-Copolymer, ein Styrol-Butylmethacrylat-Copolymer, ein Styrol-Methyl-zS-chlormethacrylat-Copolymer, ein Styrol-Akrylnitril-Copolymer, ein Styrol-Vinylmethyläther-Copolymer, ein Styrol-Vinyläthyläther-Copolymer, ein Styrol-Vinylmethylketon-Copolymer, ein Styrol-Butadien-Copolymer, ein Styrol-Isopren-Copolymer und ein Styrol-Acrylnitril-Inden-Copolymer, Polyvinylchlorid, Polyvinylacetat, Polyäthylen, Polypropylen, Siliconharz, Polyester, Polyurethan, Polyamid, Epoxyharz, Polyvinylbutyral, Kolophonium denaturiertes Kolophonium, Terpenharz, Phenolharz, Fettkohlenwasserstoff-Harz, aromatisches Petrolharz, chloriertes Paraffin und Paraffinwachs. Ferner kann das Material, welches an der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung haftet, manchmal die äußerlich hinzugefügten, feinen Partikel des sogenannten Einkomponentenentwicklers sein, welcher aus Tonerpartikeln und hydrophobem Siliciumdioxid besteht, welche einen Partikeldurchmesser aufweisen, das kleiner als die Tonerpartikel ist und fremd zu den Tonerpartikeln hinzugefügt wird und welche keine Trägerpartikel enthalten, deren Durchmesser größer ist als der der Tonerpartikel.

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1 Die feinen Partikel, die ein derartiges Harz enthält, das nicht zur Entwicklung beiträgt, das aber an der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung haftet, um eine sehr dünne Schicht zu bilden, können dadurch erzeugt werden, daß Harz mit einem Magnetpulver, einem das Laden steuernden Mittel, Kohlenstoff usw. gemischt wird, das Gemisch in einem Walzwerk geschmolzen wird, anschließend gekühlt wird und dann mittels einer Hammermühle grob zu Pulver vermählen wird und dann mittels einer Ultraschallstrahl-Pulverisiereinrichtung sehr fein in Entwickler pulverisiert wird. Die Partikeldurchmesser-Verteilung der Entwicklerpartikel, die durch die Feinstmahlung hergestellt worden sind, weist ansehnlich viele feine Partikel auf.Die groben Partikel werden daher mittels einer Klassiereinrichtung entfernt und auch die feinen Partikel werden entfernt. Jedoch können die feinen Partikel, die einen niedrigen Gehalt an Magnetpulver aufweisen, nicht vollständig entfernt werden. Ein Beispiel für die Partikeldurchmesser-Verteilung in den Entwicklerpartikeln nach einer Klassifikation oder Sortierung ist in Fig. 1A und 1B dargestellt.

In Fig. 1 ist eine zahlenmäßige Verteilung über dem Partikeldurchmesser aufgetragen, während in Fig. 1B die Gewichtsverteilung über dem Partikeldurchmesser aufgetragen ist. Wie aus diesen Figuren zu ersehen ist, sind noch verhältnismäßig viele feine Partikel, welche leicht sind (einen niedrigen Gehalt an Magnetpulver aufweisen), selbst nach der Klassifikation noch vorhanden. Diese feinen Partikel, die einen niedrigen Magnetpulvergehalt aufweisen oder frei von Magnetpulver sind (wobei sie nur aus Harz bestehen, was durch ein Mikroskop festgestellt werden kann)_; werden, sobald sie einmal elektrostatisch fest an der Entwicklerhalteeinrichtung haften, nicht einmal durch die Magnetkraft bewegt, da die von diesen Partikeln aufgenomme-

ne Magnetkraft schwach ist, so daß eine dünne Schicht aus

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•j diesen feinen Partikeln auf der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung ausgebildet wird. Wenn die Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung folglich mit solchen feinen Partikeln bedeckt ist, wird die Reibungsladung zwischen der c Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung und dem Entwickler so beeinflußt, daß der Entwickler durch Reibung nicht auf einen normalen Wert geladen werden kann und die Ladung des Entwicklers unzulänglich wird; da das Aufbringen des Entwicklers auf dieEntwicklerhalteeinrichtung von der

-in elektrostatischen Kraft zwischen der Halteeinrichtung und dem Entwickler abhängt, wird es außerdem schwierig, den Entwickler auf die Entwicklerhalteeinrichtung aufzubringen und hierdurch kommt es dann zu der Schwierigkeit, daß die Entwicklungsdichte herabgesetzt ist oder die Bildreproduzierbarkeit erschwert wird.

Durch die Erfindung ist diese Schwierigkeit gelöst und nachstehend werden einige Ausführungsformen der Erfindung beschrieben.

In Fig. 2A und 2B ist eine Ausführungsform der Erfindung und eine Abwandlung davon dargestellt. In Fig. 2A ist ein ein elektrostatisches, latentes Bild tragendes Teil 1, beispielsweise ein photoempfindliches Teil oder ein isolierendes Teil dargestellt, auf welchem ein elektrostatisches, latentes Bild ausgebildet worden ist. Das Teil ist in der Richtung eines Pfeils a bewegbar. Eine nichtmagnetische Entwicklungshülse 2 (die beispielsweise aus rostfreiem Metall oder Messing hergestellt ist) ist in einem sehr geringem Abstand bezüglich des das elektrostatische, latente Bild tragenden Teils angeordnet. Die Hülse 2 ist in der Pfeilrichtung b drehbar. Dieser sehr geringe Abstand ist auf eine Spaltbreite eingestellt, die größer als die Dicke der dünnen Entwicklerschicht auf der Ent-

35wicklungshülse ist. In der Hülse 2 ist eine magnetische Rolle 3 fest angeordnet, die wie dargestellt magnetisiert

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ist. Durch die Magnetkraft dieser magnetischen Rolle 3 ist eine Schicht aus Entwickler T auf der Oberfläche der Entwicklungshülse ausgebildet. Die Entwicklerschicht hat eine Dicke, welche durch eine Abstreichschneide 4 (die beispielsweise aus Eisen hergestellt ist) reguliert wird, welche in der Nähe der Oberfläche der Hülse 2 angeordnet ist. Der Abstand zwischen dem vorderen Ende dieser Abstreichschneide 4 und der Hülse 2 ist beispielsweise auf 200 μπι eingestellt. Um die Dicke der Entwickler schicht genauer und wirksamer regulieren zu können, ist ein Magnetpol im Innern der Hülse an einer Stelle angeordnet, die dem vorderen Ende der Schneide gegenüberliegt. Die Entwicklerschicht, deren Dicke reguliert worden ist, erreicht dann die Entwicklungsstelle, die dem das elektrostatische, latente Bild tragenden Teil 1 gegenüberliegend angeordnet ist, und es wird dann nach einem der vorbeschriebenen Entwicklungsverfahren die Entwicklung durchgeführt. Nach der Beendigung der Entwicklung hat sich die Dicke der Entwicklerschicht bereits entsprechend dem elektrostatischen, latenten Bild in der Weise geändert, daß der Teil der Schicht, welcher dem bildtragenden Teil entspricht, dünner wird, der Teil der Schicht,welcher dem kein Bild tragenden Teil entspricht, seine ursprüngliche Dicke beibehält, und der Teil der Schicht, welcher dem Halbtonbereich entsprochen hat, in der Dicke entsprechend dem Potential des elektrostatischen, latenten Bildes geändert wird.

Wenn hier dann frischer Entwickler der Entwicklerschicht zugeführt wird, deren Dicke nach der Entwicklung geändert 3" worden ist, wie es üblicherweise der Fall ist, wird der zugeführte Entwickler durch die Spuren der vorherigen Entwicklung beeinflußt und es kann keine Entwicklerschicht ausgebildet werden, deren Dicke mittels der Abstreichschneide 4 gleichmäßig reguliert ist; und selbst wenn

^OJ eine Entwicklerschicht mit einer gleichmäßigen Dicke er-

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halten wird, kann bei dem nächsten Entwicklungszyklus keine zuverlässige Entwicklung durchgeführt werde^ sondern das vorher entwickelte Bild erscheint als Geisterbild. Dies wird nicht nur dem Unterschied in der Dicke der Ent-Wicklerschicht zugeschrieben, bevor der frische Entwickler zugeführt wird, sondern auch Unterschieden in der Eigenschaft (der Reibungsbeschaffenheit usw.) zwischen dem bereits einmal für eine Entwicklung verwendeten Entwickler der Entwicklerschicht und dem neu zugeführten Entwickler.

Um diesen Nachteil zu überwinden, sind in den Ausführungsformen der Fig.2A und 2B folgende Verbesserungen vorgesehen. Wie bereits beschrieben, hat sich auf der Oberfläche der Hülse 2 nach einer Entwicklung nicht nur die Dicke der Entwicklerschicht geändert, sondern es hat sich auch die Charakteristik des Entwicklers geändert; folglich ist ein Aufbau geschaffen worden in der Weise, daß, bevor der Entwickler von einem trichterförmigen Behälter 5 aus zugeführt wird, der Entwickler auf der Oberfläche der Hülse durch eine den Entwickler entfernende Platte 5, die an der Oberfläche der Hülse 2 anliegt, zuerst einmal . abgeschabt wird. Das heißt, an einer in der Bewegungsrichtung der Entwicklerschicht auf der Hülse 2 vor dem Behälter 5 liegenden Stelle ist die Entwickler-Entfernungsplatte 6 so angebracht, daß sie an der Oberfläche der Hülse 2 anliegt. Hierbei ist die Platte vorzugsweise unter einem Winkel angebracht, der bezüglich der Drehbewegung der Entwicklerschicht in der Gegenrichtung verläuft, so daß der Entwickler ,wie dargestellt, abgeschabt oder abgekratzt werden kann. Die Entwickler-Entfernungsplatte ist vorzugsweise aus Phosphorbronze in einer Dicke von beispielsweise etwa 190μπι hergestellt. Die Platte 6 ist an einer Abdeckung S₁ vorgesehen, die ein Verstreuen von Entwickler verhindert und die von dem Behälter 5 aus etwa parallel zu der Ober-

fläche der Hülse 2 verläuft (siehe Fig.2A). Die Entwickler-Entfernungsplatte 6 kann auch am Ende der Wandung 5a

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] des Behälters 5 vorgesehen sein, welche in der Bewegungsrichtung der Entwicklerschicht vor dem Behälter liegt (siehe Fig.2B). In diesem Fall kann dann die Platte eine Verlängerung der Behälterwandung 5a sein; aber auch in diesem Fall ist sie vorzugsweise ein elastisch federndes Teil, welches gleichförmig an der Hülse 2 anliegt. Wie in Fig.2C dargestellt, sind eineAnzahl Öffnungen 7 in derNähe des Teils der Entwickler-Entfernungsplatte vorgesehen, welcher an der Hülse 2 anliegt. Die Form dieser Öffnungen kann vorzugsweise ein Quadrat mit einer Seitenlänge von beispielsweise 10mm sein..

In der vorbeschriebenen Ausführung wird die Entwicklungshülse in der Richtung des Pfeils b gedreht, wodurch dann der Entwickler in dem Behälter in der Pfeilrichtung bewegt wird, um dadurch eine Entwicklerschicht auf der Oberfläche der Hülse auszubilden, und mittels der Abstreichschneide 5 gleichmäßig mit einer Dicke von etwa 8um aufgebracht wird. Nach dem gleichmäßigen Aufbringen des Ent-Wicklers wird die Entwicklerschicht gegenüber dem photoempfindlichen Material 1 angeordnet, auf welchem ein'elektrostatisches, latentes Bild ausgebildet ist,-so daß bei einer weiteren Drehung der Hülse das latente Bild entwikkelt wird. Nach der Beendigung der Entwicklung wird die Entwicklerschicht mittels der Platte 6„ die entweder an der Abdeckung 8^ oder an dem vorderen Ende der Wandung 5a des Behälters angebracht ist, von der Oberfläche der Hülse 3 abgeschabt; der entfernte Entwickler geht dann durch die Öffnungen 7 hindurch, die in der Nähe des Teils der Platte 6 ausgebildet sind, der an der Hülse 3 anliegt, und der Entwickler haftet dann wieder an der Oberfläche der Entwicklungshülse .

Wenn in diesem Fall die Fluidität des magnetischen Ent-Wicklers T hoch ist, geht der Entwickler durch die Öffnungen 7 in der Platte 6 hindurch; wenn jedoch die Fluidität

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des magnetischen Entwicklers T niedrig ist, wird es für den Entwickler schwierig, ständig durch dies e Öffnungen 7 hindurchzugehen. Folglich muß ein Magnetfeld erzeugt werden, das den magnetischen Entwickler nahe bei den öffnungen 7 anzieht, so daß der Entwickler durch die Öffnungen in der Platte hindurchgeht.

Das heißt, wenn ein Magnetpol N₃ oder S₃ im Inneren der Hülse 2 an einer Stelle angeordnet ist, die diesen öffnungen gegenüberliegt, wie in Fig.2A oder 2B dargestellt ist, kann der magnetische Entwickler, der mittels der Platte 6 abgeschabt worden ist, ohne weiteres durch die Öffnungen 7 hindurchgehen. Die Stärke des Magnetpols N, oder S^ an der Hülse 2 liegt vorzugsweise in der Größenordnung von 450 bis 850 Gauß; ein stärkeres Magnetfeld schafft eine größere Sicherheit, daß der Entwickler durch die Öffnungen 7 hindurchgeht. Das Abschaben bzw. das Entfernen des Entwicklers mittels der Platte 6 an der Hülse 2 und das Hindurchgehen des Entwicklers durch die Öffnungen in der Platte 6 läßt sich in zufriedenstellender Weise durchführen, ohne daß sich der Entwickler an dem vorderen Ende der Platte 6 anhäuft, selbst wenn die Hülse 2 gleichmäßig gedreht wird. Durch die Teile S₁ und 8_, die in der Bewegungsrichtung der Entwicklerschicht vor und nach dem Behälter 5 angeordnet sind, ist ein Verstreuen von Entwickler verhindert.

Da die Entwickler-Entfernungsplatte vorgesehen ist, bevor Entwickler nach einer Beendigung der Entwicklung neu

^JU zugeführt wird, kann die Oberfläche der Hülse immer sauber gemacht werden und dann der Entwickler aufgebracht werden; hierdurch kann dann eine gleichmäßige und beständige Entwicklung erhalten werden, ohne daß der Entwickler

auf der Oberfläche der Entwicklungshülse schmilzt. 35

In Fig.3A und 3B sind weitere Ausführungsformen der Er-

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findung dargestellt. Diese Ausführungsformen weisen im allgemeinen den gleichen Aufbau wie die Ausführungsformen der Fig.2A und 2B auf, mit der Ausnahme, daß eine Entwickler-Entfernungsplatte 6 mrter der Hülse vorgesehen ist» Um in diesem Fall zu verhindern? daß.der abgeschabte Entwickler nach unten fällt, ist ein Magnetpol S- im Inneren der Hülse an der Stelle angeordnet, die den in der Platte vorgesehenen Öffnungen gegenüberliegt. Durch Anbringen der Platte an einer das Verstreuen des Entwicklers verhindernden Abdeckung 8.. ,. die (in der Bewegungsrichtung der Schicht) vor dem Behälter 5 vorgesehen ist (Fig.3A) oder durch Anbringen derPlatte an der vorderen Wandung 5a des Behälters 5 (Fig.3B) ist verhindert, daß der Entwickler aus der Abdeckung S₁ oder dem Behälter 5 herausfällt. Die Abdeckung 8.. ist mittels einer Schiene abnehmbar an dem Behälter 5 angebracht, und ist besonders wirksam, wenn nahe bei der Platte 6 Entwickler verstreut wird. Die Abdeckung dient auch als Sammelbehälter, in welchem der aus dem trichterförmigen Behälter herausfallende Entwickler aufgenommen wird. Die Bewegung des Entwicklers ist im allgemeinen dieselbe wie die in den Ausführungsformen der Fig.2A und 2B; der mittels der Platte 6 entfernte Entwickler geht jedoch durch die öffnungen 7 in dieser Platte hindurch und wird ,während er wieder an der Oberfläche der Entwicklungshülse haftet, gesammelt in den Behälter 5 befördert; hierdurch wird er in ausreichender Weise aufgerührt, so daß er sich mit dem Entwickler in dem Behälter mischt. Danach wird eine Entwicklerschicht von neuen auf der Entwicklungshülse ausgebildet, so daß sie für eine 3" Entwicklung benutzt werden kann.

In Fig.4A und 4B sind noch .weitere Ausführungsformen der Erfindung dargestellt. In diesen Ausführungsformen ist als Entwickler-Halteeinrichtung ein Band 9 anstelle einer ^OJ Entwicklungshülse verwendet, und magnetischer Entwickler wird auf dieses Band aufgebracht, welches in Pfeilrich-

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tung bewegt wird. Eine Entwicklung wird dann mit Hilfe des Bandes 9,auf welches magnetischer Entwickler aufgebracht worden ist, an einer Stelle durchgeführt, die einem, das elektrostatische, latente Bild tragenden Teil 1 gegenüberliegt. Es ist eine Hülse 2 vorgesehen, welche im Inneren eine Magnetrolle 3 aufweist und das Band 9 antreibt. Ferner ist eine drehbare Rolle 10 vorgesehen. Das Band 9 läuft über die Hülse 2 und die Rolle 10 und wird um diese herum bewegt. Durch ein die Rückseite tragendes Teil 11 aus nichtmagnetischem Material ist das Band 9 in die vorgesehene Lage gebracht. Mittels einer Abstreichschneide 4 wird die Dicke der Schicht aus magnetischem Entwickler auf dem Band 9 reguliert. Einer der Pole eines Magneten 12 ist an der Stelle auf derRückseite des Bands 9 angeordnet., welche dem vorderen Ende der Abstreichschneide gegenüberliegt, wodurch gewährleistet ist, daß die Dicke der Entwicklerschicht genau reguliert wird. Eine Entwickler-Entfernungsplatte (eine Phosphorbronze-Platte) 6 mit Öffnungen am vorderen Ende ist an einer ein Verstreuen des Entwicklers verhindernden Abdeckung 8- angebracht, die in Förderrichtung vor einem trichterförmigen Behälter 5 angeordnet ist, über welchen magnetischer Entwickler T (Fig.4A) zugeführt wird; das Ende der Platte 6 liegt auf dem Band 9 auf. (Fig.4A) Eine Entwickler-Entfernungsplatte (eine Phosphorbronze-Platte) 12 mit Öffnungen am vorderen Ende kann auch an der Wandung 5a eines Behälters 5 angebracht sein, über welchen magnetischer Entwickler T zugeführt wird. Das Ende der Platte 12 liegt ebenfalls an dem Band 15 an (Fig.4B). Das Ende der Phosphorbronze-Platte 6 liegt in der Weise an dem Band 9 an, daß das Ende entgegengesetzt zu der Richtung verläuft, in welcher derEntwickler auf dem Band zurückkommt; der andere Pol des Magneten 12 ist an dieser Stelle auf der Rückseite des Bandes angeordnet, welche den Öffnungen gegenüberliegt, die am Ende der Platte 6 ausgebildet sind. Der Magnet kann ein Dauer- oder ein Elektromagnet sein

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und das Magnetfeld, das die öffnungen am Ende der Platte 6 erreicht, kann ein Wechselmagnetfeld sein (dies gilt auch "für die Ausführungsformen in Fig.2A und 2B sowie in Fig.3A und 3B). Der durch das Ende der Platte 6 abgeschabte Entwickler sammelt sich etwas an der..Stelle, an welcher die Platte 6 anliegt; der Entwickler geht dann durch die am Ende der Platte 6 vorgesehenen Öffnungen hindurch und i»/ird in den Behälter 5 befördert, um dort einen im wesentlichen stabilen Zustand anzunehmen. 10

Die den vorbeschriebenen Ausführungsformen gemeinsamen Wirkungen sind folgende;

(a) Das leichte Ersetzen der Entwickler-Entfernungsplatte;
(b) Ein leichtes Entfernen einer unerwünschten

Beimengung, wie Papiermehl u.a.; und (c) Die Leichtigkeit, mit welcher der einmal entfernte Toner über die in der Platte ausgebildeten Öffnungen wieder in den Behälter zurückgeleitet wird.

In Fig.5 ist noch eine weitere Ausführungsform der Erfindung dargestellt. In Fig.5 ist auf einem das elektrostatische, latente Bild tragenden Teil 1, wie beispielsweise ^ZJ einer photoempfindlichen Trommel oder einen isolierenden

₇ ein elektrostatisches, latentes Bild ausgebildet. Das Teil 1 ist in Richtung eines Pfeils a bev/egbar. Eine nichtmagnetische Entwicklungshülse 2 (die beispielsweise aus einem rostfreien Metall, Bronze, Kunststoff, Kautschuk u.a. hergestellt istj ist in einem sehr geringen Abstand bezüglich des das elektrostatische Bild tragenden Teils 1 angeordnet. Die Hülse 2 ist in der Pfeilrichtung b drehbar. Dieser sehr geringe Abstand ist so eingestellt, daß der dadurch gebildete Spalt größer.als die Dicke der Entwick-

lerschicht ist, die auf der Hülse als der Entwickler-Halteeinrichtung ausgebildet ist. In der Hülse 2 ist eine

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magnetische Rolle 3, welche so, wie dargestellt, magnetisiert ist, feststehend angeordnet. Durch die Magnetkraft dieser magnetischen Rolle ist eine Entwicklerschicht T auf der Oberfläche der Hülse ausgebildet. Die Dicke der Entwicklerschicht wird durch eine (beispielsweise aus Eisen hergestellte). Abstreichschneide 4 gesteuert bzw. reguliert, die in der Nähe der Oberfläche der Hülse angeordnet ist. Der Abstand zwischen dem vorderen Ende dieser Abstreichschneide und der Hülse ist beispielsweise auf 200μπι eingestellt.

Um die Dickenregulierung der Entwicklerschicht genauer und wirksamer vornehmen zu können, ist ein Magnetpol im Inneren der Hülse an einer dem vorderen Ende der Schneide gegenüberliegenden Stelle angeordnet. Die Entwicklerschicht, deren Dicke reguliert worden ist, erreicht dann die Entwicklungsstelle, die dem das elektrostatische, latente Bild tragenden Teil gegenüberliegt.und es wird dann eine Entwicklung nach einem der vorstehend beschriebenen Entwicklungsverfahren durchgeführt. Nach der Beendigung derEntwicklung hat sich die Dicke der Entwicklerschicht bereits entsprechend dem elektrostatischen, latenten Bild in der Weise geändert, daß der Teil der Schicht, welcher dem bildtragenden Teil entspricht, dünner wird, der Teil der Schicht, welcher dem kein Bild tragenden Teil entsprochen hat, seine ursprüngliche Dicke beibehält, und der Teil der Schicht, welcher dem Halbtonteil entsprochen hat, in seine rDicke entsprechend dem Poter.tial des elektrostatischen, latenten Bilds geändert wird.

Auf der Oberfläche der Hülse hat sich nach der Beendigung der..Entwicklung nicht nur, wie bereits beschrieben, die Schichtdicke geändert, sondern es hat sich auch die Charakteristik bzw. die Beschaffenheit des Entwicklers geändert. Folglich ist in dieser Ausführungsform eine Entwickler-Entfernungsrolle 6¹, an welche eine der Polarität des Entwicklers entgegengesetzte Spannung angelegt worden ist,

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in der Nähe der Oberfläche der Hülse an einer Stelle angeordnet, die (in der Bewegungsrichtung der Entwicklerschicht) vor einem Behälter 5 liegt, so daß der Entwickler nach der Beendigung der Entwicklung elektrostatisch an die Hülse angezogen wird und von dieser entfernt wer-: den kann. Der Entwickler auf der Rolle 6¹ wird an der Oberfläche der Hülse durch eine Schneide 13 gesammelt. Ura ein Verstreuen des Entwicklers zu verhindern, ist eine Abdeckung 8- vorgesehen.

Mit Hilfe der Rolle 6'( die in der Bewegungsrichtung an einer vor dem Behälter 5 liegenden Stelle vorgesehen ist/ kann somit die Oberfläche der Entwicklungshülse immer sauber gemacht werden und dann derEntwickler aufgebracht werden. Somit sind auch alle vorerwähnten Schwierigkeiten gelöst und sichergestellt, daß eine gleichbleibende und beständige Entwicklung aufrechterhalten ist.

Bei dieser Ausführungsform wird die Entwicklungshülse in Richtung des Pfeils b gedreht; dadurch wird dann der Entwickler in dem Behälter in der Pfeilrichtung bewegt, wodurch eine Entwicklerschicht auf der Oberfläche der Hülse ausgebildet ..wird, und zwar wird der Entwickler mittels der Abstreichschneide 4 gleichförmig in einer Dicke von etwa 80μπι aufgebracht. Nach der gleichförmigen Aufbringung des Entwicklers wird die Entwicklerschicht gegenüber dem photoempfindlichen Teil 1 angeordnet, auf welchem ein elektrostatisches, latentes Bild angeordnet ist, und bei einer weiteren Drehung der Hülse wird dann das latente Bild entwickelt. Nach der Beendigung der Entwicklung wird die Entwicklerschicht durch die Rolle 6¹ von der Oberfläche der Entwicklungshülse entfernt, und der entfernte Entwickler wird von der Rolle 6¹ mittels einer Sammelschneide 13 aufgefangen und in den Behälter weiterbefördert. 35

In Fig.6A ist eine weitere Ausführungsform der Erfindung

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dargestellt. In Fig.6A haben die Teile, die mit den gleichen Bezugszeichen wie in Fig.5 bezeichnet sind, gleiche oder ähnliche Funktionen. In Fig.6 ist zum Entfernen des Entwicklers auf der Hüioe eine Platte 3 4, welche gegen die Oberfläche der Hülse gedrückt wird, im Inneren des Trichters 5 angeordnet, um dadurch den Entwickler von der Oberfläche der Entwicklungshülse in dem Behälter 5 zu entfernen. Dadurch sind dann auch alle eingangs angeführten Schwierigkeiten beseitigt.

Wenn bei derAAusführungsform in Fig.6A die Platte 14 fehlte, nahm der Entwicklungs-Reflexionsschwärzungsgrad nach einer etwa einstündigen Benutzung von 1,2 auf 0,5 ab;.wenn jedoch die Oberfläche der Entwicklungshülse mittels der platte gereinigt wurde, bliebt der Entwicklungsschwärzunggrad unverändert und lag bei 1,2. In diesem Fall war die Tatsache, daß eine Verschlechterung des Bildes durch Vorsehen der Entwickler-Entferungsplatte verhindert werden konnte, der Tatsache zuzuschreiben, daß durch die Platte feines Pulver entfernt wurde, welches sonst während des Entwicklungsvorgangs nicht entfernt werden konnte und welches fest an der Oberfläche der Entwicklungshülse haftete, und da ß durch die Platte das Siliziumdioxid entfernt werden konnte, welches dem Entwickler -zur Verbesserung der Ladeeigenschaften und der Fluidität des Entwicklers zugesetzt war,und das ebenfalls fest an der Entwicklungshülse haftete. In diesem Fall kann auch als sehr vorteilhaft angeführt werden, daß der Umstand sehr verbessert werden konnte, daß eine bestimmte Komponente des Entwicklers an

der Oberfläche der Entwicklungshülse haftet ,durch die ein ausreichender Kontakt zwischen dem Entwickler und der Entwicklungshülse verhindert ist, und daß der Entwickler nicht in ausreichendem Maße reibungselektrisch geladen werden konnte. Ferner kann die Abschab- oder Entfernungs-

einrichtung mit öffnungen ohne weiteres an einer bestimmten Stelle angeordnet und angebracht werden, indem eine

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t solche Abschabeinrichtung innerhalb des Behälters gegen die Oberfläche der Hülse gedrückt wird; außerdem ist durch die Verwendung der mit Öffnungen versehenen Abschabeinrichtung sichergestellt, daß eine ausreichende Menge Toner hindurchbefördert wird. Eine ähnliche Wirkung könnte auch dadurch erhalten werden, daE ein dünner Metalldraht 15 über die ganze Längsabmessung der Oberfläche der Entwicklungshülse unter einem Winkel bezüglich derAchse der Hülse in Anlage gebracht wird, wie in Fig„6B dargestellt ist. Wenn in diesem Fall ein Kupferdraht mit einem Durchmesser von 0,2mm schräg über eine Hülse gespannt wurde, die einen Außendurchmesser von 30mm und eine Länge von 350mm hatte (wenn der Winkel ,den der Draht mit der Achse der Hülse bildet, θ und tan θ = ·=-*■ ist) betrug, um die Hülsenoberfläche zu reinigen, die Spannung des Metall-

drahtes 1kg oder mehr. Wenn die Spannung wesentlich ßer als dieser Wert war, konnten die vorerwähnten Substanzen, die für das Haften an der Hülsenoberfläche verantwortlich waren, entfernt werden. 20

Aufgrund der Konstruktion und der Arbeitsweise der vorbeschriebenen Ausführungsformen sind die Spuren einer vorherigen Entwicklung in der Entwicklerschicht auf der Entwicklerhalteeinrichtung beseitigt und infolgedessen wird

■" kein Geisterbild während des nächsten Entwicklungszyklus erzeugt. Außerdem wird, selbst wenn über lange Zeit entwickelt wird, keine dünne Entwicklerschicht auf der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung ausgebildet, so daß das Laden durch Reibung sehr gut aufrechterhalten wird

und dadurch eine gute Entwicklungsdurchführung gewährleistet ist. Ferner wird die für eine Entwicklung benutzte Entwicklerschicht erstmal entfernt und es wird eine frische Entwicklerschicht neu ausgebildet, so daß es auf diese Weise zu keiner Anhäufung von Entwickler kommt. Ferner

kann eine bemerkenswerte Wirkung dadurch erhalten werden, daß die Materialien des Entwicklers ausgewählt werden

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können, indem nur der Anfangsentwicklung und der Fixierung Beachtung geschenkt wird; dadurch kann dann der Auswahlbereich der Materialien erweitert werden. Ein weiterer großer Vorteil der Erfindung besteht darin, daß der Entwickler auf der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung immer durch frischen Entwickler ersetzt wird, so daß es nicht zu Unregelmäßigkeiten in der Entwicklerschicht auf der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung kommt, was der Fall wäre, wenn Entwickler mit einer hohen BaI-lungskraft verwendet wird. Wenn der Entwickler ,der nicht zur Entwicklung beigetragen hat, lange Zeit unbeweglich auf der Entwicklerhalteeinrichtung zurückbleibt, wird die Ballungskraft des Entwicklers oder die Adhäsionskraft zwischen dem Entwickler und der Halteeinrichtung größer und die Dicke der Entwicklerschicht nimmt zu. wodurch es dann schwierig wird, eine unveränderliche Bildreproduzierbarkeit zu erhalten. Dieses Problem kann jedoch dadurch gelöst werden, daß wie bei der Erfindung der Entwickler auf der Halteeinrichtung in Bewegung versetzt wird. Der Rei-

^O nigungsschritt bei der Entwicklerhalteeinrichtung ist gemäß der Erfindung notwendig, um, wie oben beschrieben, den Entwickler gleichmäßig laden zu können und um ein Zusammenballen des Entwicklers zu verhindern; der Reinigungsschritt muß jedoch bei der Entwicklerhalteeinrichtung

nicht immer durchgeführt werden; es kann jedoch eine entsprechend hohe Wirkung erreicht werden, wenn beispielsweise ein Reinigungsschritt nach Beendigung von 100 Entwicklungsschritten durchgeführt wird. Wenn die Reinigung durchgeführt wird, wird die Einrichtung im Hinblick auf

die Wiederverwendung des entfernten Entwicklers kompliziert, und in der Einrichtung, welche die an dem Behälter angeordnete Entfernungsplatte aufweist, kann beispielsweise die Entfernungsplatte intermittierend an der Entwicklerhalteeinrichtung in Anlage gebracht und von dieser getrennt werden, damit sich der Entwickler auf der Vorderseite der Entfernungsplatte sammelt und ohne weiteres

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] für eine Wiederverwendung verfügbar ist.

Obwohl sich die vorstehende Beschreibung auf ein Entwicklungsverfahren in einem Einkomponentenentwickler bezieht, «j gilt dies auch für ein gemischtes System aus Träger- und Tonerpartikeln, und das Gemisch aus Tonerpartikeln und einem Ladungssteuermittel, einem Schmiermittel, einem Schleifmittel u.a. liegt im Bereich einer Einkomponentenentwicklung. In den vorstehenden Ausführungsformen ist das ein latentes Bild tragende Teil immer im Hinblick auf ein elektrostatisches, latentes Bild beschrieben worden; es ist jedoch auch bei magnetischen latenten Bildern anwendbar. In diesem Fall dürfen magnetfelderzeugende Einrichtungen, welche das magnetische, latente Bild stören.

nicht innerhalb der magnetischen Hülse gegenüber dem magnetischen latenten Bild angeordnet werden. Ferner ist in den vorstehenden Ausführungsformen die magnetische Rolle als feststehend und die Entwicklungshülse als drehbar beschrieben worden; genauso gut kann aber auch die magnetische Rolle drehbar sein und die Entwicklungshülse feststehend und es können auch andere Relativbewegungen angewendet werden. Ferner ist die Entwicklerhalteeinrichtung bezüglich einer nichtmagnetischen Entwicklungshülse beschrieben worden, welche jedoch auch die Form eines Bandes haben kann.

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-H-

Leerseite

Claims (1)

1. T D, * W Patentanwälte:

   GD D:pl.-Chem. G. Bühling

   RUPE - PeLLMANN

   Dipl.-Ing. R. Kinne Dipl.-Ing. R Grupe Dipl.-Ing. B. Pellmann

   Bavariaring 4, Postfach 20 2403 8000 München 2

   Tel.: 0 89 - 53 96 53 Telex: 5-24845 tipat

   cable: Germaniapatent München

   15. Februar 1980 DE 0232

   Patentansprüche

   .j Entwicklungseinrichtung , gekennzeichnet

   durch eine Entwicklerhalteeinrichtung (2; 9), die in

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   einem sehr geringen Abstand bezüglich eines ein latentes Bild tragendenTeils (1) angeordnet ist; durch eine Entwicklerzuführeinrichtung (5)_/ durch welche der Entwickler der Obeifläche der Entwicklerhalteeinrichtung (2; 9) zugeführt wird; durch eine Reguliereinrichtung (4) zum Regu. -

   lieren der Dicke einer Entwicklerschicht (T) auf der Entwicklerhalteeinrichtung (2; 9), und durch ein Entwicklerentfernungsteil (6), das an der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung (2; 9) anliegt, um den Entwickler (T) auf der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung (2) zu ent-

   fernen und um den entfernten Entwickler der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung (2) an einer Stelle wieder zuzuführen, bevor die Zuführung von Entwickler beendet ist und nachdem die regulierte Entwicklerschicht für eine Entwicklung verwendet worden ist.

   2. Entwicklungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch g e kenn ze ichnet, daß das Entwicklerentfernungs*-

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   ] teil (6) Durchgangsöffnungen (7) in der Nähe des Teils aufweist., welche^an der Oberfläche der Entwicklungshaiteeinrichtung (2; 9) anliegt, wodurch der entfernte Entwickler für eine Wiederverwendung verfügbar ist.

   3. Entwicklungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch g e-

   kennzeichnet, daß das Entwicklerentfer nungsteil (6; 14) irgendwelchen auf der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung (2) zurückgebliebenen Entwickler vor einer Zuführung von Entwickler durch die Entwicklerzuführeinrichtung (5) entfernt.

   4. Entwicklungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch g ekennzeichnet, daß das Entwicklerentfernungsteil

   (6) an einer Wandung (5a) der Entwicklerzuführeinrichtung (5) angebracht ist.

   5. Entwicklungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch g ekennzeichnet, daß das Entwicklerentfernungsteil (14) innerhalb der Entwicklerzuführeinrichtung (5) vorgesehen ist.

   6. Entwicklungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch g ekennzeichnet, daß das Entwicklerentfernungstel (6; 14) die Form einer Schneide hat und die Schneide elastisch federnd an der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung (2; 9) anliegt.

   7_ Entwicklungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch g ekennzeichnet, daß das Entwicklerentfernungsteil (6¹) eine Rolle ist, deren Oberfläche elastisch federnd an der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung (2) anliegt.

   8. Entwicklungseinrichtung, insbesondere nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine endlose Entwick-

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   lerhalteeinrichtung (2; 9), die mit einem sehr geringen Abstand bezüglich eines ein latentes Bild tragenden Teils (1) angeordnet ist; eineEntwicklerzuführeinrichtung (5), mittels welcher magnetische.·. Entwickler der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung (2; 9) zugeführt w±rd;eine Reguliereinrichtung (4) zum Regulieren der Dicke einer Entwicklerschicht auf der Entwicklerhalteeinrichtung (2; 9) , und durch ein Entwicklerentfernungsteil (6; 14), das an der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung (2; 9) an- liegtι um .den Entwickler auf der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung (2; 9) zu entfernen und um den entfernten Entwickler wieder der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung (2; 9) an einer Stelle zuzuführen, bevor die Entwicklerzuführung beendet ist und nachdem die Sregulierte Entwicklerschicht für eine Entwicklung verwendet worden ist, wobei das Entwicklerentferungsteil (6) Durchgang soff nungen (7) in der Nähe des Teils aufweist, welcher an der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung (2; 9) anliegt.

   9. Entwicklungseinrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, &ß die endlose Entwicklerhalteeinrichtung eine magnetische Rolle (3) und eine relativ

   dazu bewegbare nichtmagnetische Hülse (2) ist, welche die nc.

   Rolle (3) umgibt, und daß die magnetische Rolle (3) Magnetpole zumindest an einer Entwicklungsstelle und an einer Stelle aufweist, die der die Dicke der Entwicklerschicht steuernden Einrichtung (4) gegenüberliegt.

   10. Entwicklungseinrichtung nach Anspruch 9, dadurch g e-

   kennzeichnet, daß die die Dicke der Entwicklerschicht steuernde Einrichtung (4) die Eorm einer magnetischen Schneide hat.

   11. Entwicklungseinrichtung nach Anspruch 8, dadurch g e-

   kenn zeichnet, daß die Entwicklerzuführeinrichtung ein trichterförmiger Behälter (5) ist, der einen mag-

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   netischen Einkomponententoner (T) enthält.

   12. Entwicklungseinrichtung nach Anspruch 8, dadurch g ekennzeich.net, daß an.derEntwicklerzuführeinrichtung (5) eine ein Verstreuen verhindernden Abdeckung (S₁) angebracht ist, die einen anderen Teil der Oberfläche der Entwicklerhalteeinrichtung (2) umgibt.

   13. Entwicklungseinrichtung nach Anspruch 8, dadurch g ekennzeichnet, daß die endlose Entwicklerhalteeinrichtung ein Bndlosband (9) ist.

   14. Entwicklungseinrichtung nach Anspruch 8, dadurch g ekenn zeichne t,daß das Entwicklerentfernungsteil

   '5 (6) in einer Gegenrichtung bezüglich der Bewegungsrichtung der Entwicklerschicht (T) auf der Entwicklerhalteeinrichtung (2; 9) angebracht ist.

   15. Entwicklungseinrichtung nach Anspruch 8, dadurch g e 2" kennzeichnet, daß ein ein Magnetfeld erzeugender Teil (S₃, N₃) an der Seite der Entwicklungshaiteeinrichtung (2) vorgesehen ist, welche bei den Durchgangsöffnungen (7) liegt.

   ^itJ 16. Entwicklungseinrichtung ,in welcher der Entwickler reibungselektrisch geladen wird und auf eine zu entwickelnde Fläche aufgebracht wird, insbesondere nach Anspruch 1, gekennzeichnet, durch ein Entwicklerhalteteil (2; 9), das in einem sehr geringen Abstand bezüglich eines

   ein latentes Bild tragenden Teils (1) angeordnet ist; durch eine Abstreichsenneide (4) zum Steuern und Regulieren der Dicke einer Entwicklerschicht auf dem Halteteil (2;9), und durch ein Teil (6), das in Bewegungsrichtung nach der Entwicklungsstation an einer entsprechenden Stelle angeordnet ist, bevor die Entwicklerzuführung für den nächsten Entwicklungszyklus beendet ist, um den bei der

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   ' Entwicklung verwendeten Entwickler zu entfernen und auf dem Entwicklerhalteteil (2; 9) zu halten, wobei eine Entwicklung mittels Entwickler durchgeführt wird, der für jeden Entwicklongszyklus zugeführt worden ist. 5

   17. Entwicklungseinrichtnng ,in welcher der Entwickler durch die Reibung zwischen dem Entwickler und einer Entwicklerhalteeinrichtung reibungselektrisch geladen wird, insbesondere nach Anspruch 1 , gekennzeichnet

   '" durch eine Zuführstation, in welcher der Entwickler bei jedem Entwicklungszyklus der Entwicklerhalteeinrichtung (2; 9) zugeführt wird; durch eine Station, in welcher der Entwickler auf eine zu entwickelnde Oberfläche aufgebracht wird, und durch eineStation, die an einer vorbe-

   '^ stimmten Stelle in der Bewegungsrichtung nach der Entwicklungsstatdon und bevor die Entwicklerzuführung beendet ist, angeordnet ist, um von der Entwicklerhalteeinrichtung (2; 9) im wesentlichen allen verbliebenen Entwickler zu entfernen, nachdem er die Entwicklungsstation

   durchlaufen hat.

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