DE3004480A1 - Verfahren zur herstellung von kontakten an halbleiterbauelementen - Google Patents

Verfahren zur herstellung von kontakten an halbleiterbauelementen

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DE3004480A1
DE3004480A1 DE19803004480 DE3004480A DE3004480A1 DE 3004480 A1 DE3004480 A1 DE 3004480A1 DE 19803004480 DE19803004480 DE 19803004480 DE 3004480 A DE3004480 A DE 3004480A DE 3004480 A1 DE3004480 A1 DE 3004480A1
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silicon nitride
semiconductor body
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Withdrawn
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DE19803004480
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German (de)
English (en)
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Joseph Palen Perry
Robert Henry Wakefield
John Michael Young
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TDK Micronas GmbH
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Deutsche ITT Industries GmbH
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    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • H01L21/033—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising inorganic layers

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FR2449332B1 (fr) 1983-10-28
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IT1209190B (it) 1989-07-16
JPS55110039A (en) 1980-08-25
GB2042801A (en) 1980-09-24

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