DE29801666U1 - Vorrichtung für die Herstellung von Targets für Zerstäubungskathoden - Google Patents

Vorrichtung für die Herstellung von Targets für Zerstäubungskathoden

Info

Publication number
DE29801666U1
DE29801666U1 DE29801666U DE29801666U DE29801666U1 DE 29801666 U1 DE29801666 U1 DE 29801666U1 DE 29801666 U DE29801666 U DE 29801666U DE 29801666 U DE29801666 U DE 29801666U DE 29801666 U1 DE29801666 U1 DE 29801666U1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
plate
frame
base plate
plates
target
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE29801666U
Other languages
English (en)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
WC Heraus GmbH and Co KG
Original Assignee
Leybold Materials GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Leybold Materials GmbH filed Critical Leybold Materials GmbH
Priority to DE29801666U priority Critical patent/DE29801666U1/de
Publication of DE29801666U1 publication Critical patent/DE29801666U1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3435Target holders (includes backing plates and endblocks)
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

LEYBOLD MATERIALS GmbH Wilhelm-Rohn-Straße 25
63450 Hanau
Vorrichtung für die Herstellung von Targets für Zerstäubungskathoden
Die Erfindung betrifft- eine Vorrichtung zur Herstellung von Targets für Zerstäubungskathoden mit einer, Targetgrundplatte und mit einem auf dieser aufgesetzten, zusammen mit der Targetgrundplatte eine Schmelzwanne bildenden Rahmen.
Bekannt ist ein Target für die Sputterkathode einer Vakuumbeschichtungsvorrichtung (DE 195 35 894) mit einem das zu zerstäubende Material zumindest teilweise umschließenden Rahmen zur Halterung des plattenförmig ausgebildeten Targets auf der Kathodenrückenplatte und ■ mit . einer zwischen Rahmen und der Kathodenrückenplatte angeordneten Trennfolie oder Zwischenlage aus nachgiebigem Werkstoff, beispielsweiseeiner Kohlenstof folie, und mit einer Vielzahl sich vom Rahmen aus zu einer zur Targetebene parallelen Ebene .jeweils ein Stück weit in
den Targetwerkstoff hinein erstreckenden, mit den Rahmenteilen fest verbundenen Bolzen, Zungen oder leistenförmigen Vorsprüngen zur Halterung des Targetwerkstoffs in den von den Rahmenteilen umschlossenen Zwischenräumen.
Die Herstellung dieses Targets erfolgt in einem ersten Verfahrensschritt, in dem der Rahmen aus einem metallischen Werkstoff, vorzugsweise aus Kupfer, auf eine aufheizbare, horizontal ausgerichtete ebene Platte,, vorzugsweise aus Edelstahl, aufgelegt und mit dieser verschraubt oder verpratzt wird, wobei in einem zweiten Verfahrensschritt der vom Rahmen umgriffene Raum mit aufgeschmolzenem - Targetwerkstoff, beispielsweise mit flüssigem· Zinn/ ausgegossen wird, bis der Schmelzenspiegel die Oberseite des Rahmens erreicht hat, worauf hin in einem dritten Schritt die Schmelze gleichmäßig auf Raumtemperatur abgekühlt und anschließend der Rahmen mit dem erstarrten Target von der Edelstahlplatte abgelöst wird.
Bekannt ist weiterhin ein Target für die Sputterkathode einer Vakuumbeschichtungsvorrichtung (DE 197 35 4 69) mit einem das zu zerstäubende Material zumindest teilweise umschließenden Rahmen zur Halterung des plattenförmig ausgebildeten Targets auf der Kathodenrückenplatte und mit sich vom Rahmen aus ein Stück weit in den Targetwerkstoff hinein erstreckenden und vom Targetwerkstoff umschlossenen, Kühlkanäle bildenden Hohlprofilen, wobei die Hohlprofile eine symmetrische Konfiguration aufweisen und die Symmetrieebene parallel zur
Targetebene verläuft und von der Targetvorderfläche den gleichen Abstand aufweist wie von der Targetrückfläche.
Auch in diesem Falle erfolgt die Herstellung des Targets, indem in einem ersten Verfahrensschritt der Rahmen aus einem metallischen Werkstoff, vorzugsweise aus Kupfer, auf eine aufheizbare, horizontal ausgerichtete ebene Platte, vorzugsweise aus Edelstahl, aufgelegt und mit dieser verschraubt oder verpratzt wird und in einem zweiten Verfahrensschritt der vom Rahmen umgriffene Raum mit aufgeschmolzenem Targetwerkstoff, beispielsweise mit flüssigem Zinn, ausgegossen wird, bis der Schmelzenspiegel die Oberseite des Rahmens erreicht hat, worauf hin in einem dritten· Schritt die Schmelze gleichmäßig auf Raumtemperatur abgekühlt und anschließend der Rahmen mit dem erstarrten Targetwerkstoff von der Edelstahlplatte abgelöst und auf die Kathodenrückenplatte aufgeschraubt oder aufgepratzt wird.
Schließlich hat man bereits eine Vorrichtung vorgeschlagen (Patentanmeldung DE 196 27 533.4) mit einem Rahmen zur Halterung des Targets auf der Kathodenrückenplatte und mit zumindest einem auf der Kathodenrückenplatte oder einer Trennfolie aufliegenden oder unmittelbar oberhalb dieser angeordneten und sich ein Stück weit in den Targetwerkstoff hinein erstreckenden und vom .Targetwerkstoff zumindest auf den den Targetvorderflächen und den. den Rahmenteilen zugekehrten Seiten umschlossenen, die Kühlkanäle bildenden Hohlprofilzuschnitten.
Auch dieses Target wird hergestellt, indem in einem ersten Verfahrensschritt der Rahmen aus einem metallischen Werkstoff auf eine aufheizbare, horizontal ausgerichtete ebene Platte aus Edelstahl aufgelegt und mit dieser verschraubt oder verpratzt wird und in einem zweiten Verfahrensschritt der vom Rahmen umgriffene Raum mit aufgeschmolzenem Targetwerkstoff ausgegossen wird, bis der Schmelzenspiegel die Oberseite des Rahmens erreicht hat, und indem in einem dritten Schritt die Schmelze gleichmäßig auf Raumtemperatur abgekühlt und anschließend der Rahmen mit. dem erstarrten Targetwerkstoff von der Edelstahlplatte abgelöst und auf die Kathodenrückenplatte aufgeschraubt oder aufgepratzt wird.
Die bekannten Verfahren und Vorrichtungen zum Herstellen von Targets haben den Nachteil, daß sich die Bodenplatte zusammen mit dem auf ihr befestigten Rahmen regelmäßig infolge der für den Schmelzvorgang notwendigen Aufheizung auf Schmelztemperatur verformt mit dem Ergebnis, daß die erstarrten Targetplatten Verformungen aufweisen, die oftmals so gravierend sind, daß diese auch durch anschließende spanabhebende Nacharbeit nicht behebbar sind.
Der vorliegenden Neuerung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, einen direkt kühlbaren Gießtisch bzw. eine Targetgrundplatte zu schaffen, die die Herstellung von großflächigen Targets des in Frage
stehenden Typs ermöglicht, ohne daß Verformungen an den fertigen Targets auftreten.
Diese Aufgabe wird- erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Targetgrundplatte aus einer Kopfplatte und einer zu dieser in einer parallelen Ebene und mit Abstand zur Kopfplatte angeordneten Fußplatte gebildet ist, wobei in den Raum zwischen beiden Platten Hohlprofilzuschnitte mit rechteckigem Querschnitt eingelegt sind, deren Längskanten mit den beiden Platten verlötet oder verschweißt sind.
Vorzugsweise sind die Kopfplatte und Fußplatte etwa gleich groß'bemessen und mit einer rechteckigen Konfiguration versehen, wobei parallel den umlaufenden Kanten -der beiden Platten zwischen diesen Hohlprofilzuschnitte angeordnet sind, die zusammen einen in den von ihnen begrenzten Raum eingelegten weiteren, kürzer bemessenen Hohlprofilzuschnitt umschließen und so zusammen mit den beiden Platten einen ringförmigen Kanal bilden, der über ■ in ,der Fußplatte vorgesehene Stutzen mit einer Kühlmittelquelle verbunden ist.
Die Neuerung läßt die verschiedensten Ausführungsmöglichkeiten zu; eine davon ist in der anhängenden Zeichnung schematisch :näher dargestellt, die eine Targetgrundplatte mit integriertem Kühlsystem in perspektivischer Ansicht und im Schnitt zeigt.
Die als Parallelflach konfigurierte Targetgrundplatte besteht im wesentlichen aus fünf Hohlprofilzuschnitten, von denen die drei Hohlprofile
• · I
4,5,6 in Längsrichtung der Targetgrundplatte parallel zueinander und beabstandet zwischen einer Kopfplatte 7' und einer Fußplatte 3 und die beiden Hohlprofile 8,9 quer zu den Hohlprofilen 4,5,6 angeordnet sind, wobei die beiden Hohlprofile 8,9 kürzer als die drei Hohlprofile 4,5,6 und das mittlere 5 der drei Hohlprofile 4,5,6 kürzer . als die beiden äußeren bemessen sind. Durch diese Anordnung der fünf Hohlprofile 4,5,6 bzw'. 8,9 zwischen den beiden gleich bemessenen Platten 3,7 ergibt sich ein geschlossener, rechteckig verlaufender Kanal 10, der über zwei Stutzen 11,12 an eine Kühlmittelquelle anschließbar ist, wozu . die Stutzen 11,12 mit der Fußplatte 3 verschweißt sind. Die Hohlprofilzuschnitte 4,5,6 bzw. 8,9 sind aus Kupfer-Vierkantrohr gebildet, wobei ihre einander parallelen Kanten mit den aus Kupfer bestehenden Platten 3 bzw. 7 verschweißt sind. Das Verschweißen erfolgt zweckmäßigerweise unter Formiergas (&zgr;. &Bgr;. Argon), wobei jeweils die Stirnflächen 3a, 7a der Platten 3,7 mit den jeweils korrespondierenden, einander gegenüberliegenden Flächen 4a,4b bzw. 6a,6b usw. der Hohlprofile 4,6 bzw. 8,9 verschweißt sind, so daß zwei umlaufende Schweißnähte 13,14 entstehen. Die Kopfplatte 7 ist mit Reihen von Schraubbolzen 15,15',... versehen, derenuntere Enden mit der Kopfplatte 7 verschweißt sind. Diese Schraubbolzen 15,15',... dienen der Befestigung eines Rahmens 16 und eines Mittelsteges 17; zwei Teile, die zusammen mit der Kopfplatte 7 eine Wanne zum Eingießen des Targetwerkstoffs bilden.
Es ist klar, daß an Stelle von mit der Kopfplatte 7 verschweißten Schraubbolzen auch in die Kopfplatte eingeschnittene Gewindelochbohrungen vorgesehen sein können, in die dann nach dem Aufsetzen des Rahmens 16 und des Mittelstegs 17 Maschinenschraube eingedreht werden können.
Schließlich können an Stelle der quer zu.den Profilzuschnitten 4,5,6 eingesetzten beiden Profile 8,9 auch zwei rechteckige Blechzuschnitte (nicht dargestellt) mit den Stirnseiten der beiden Profile 4,6 und den korrespondierenden Stirnflächen der Platten 3,7 verschweißt werden, die dann den Kanal 10 an beiden Enden verschließen.

Claims (2)

Schutzansprüche
1. Vorrichtung zur Herstellung von Targets für Zerstäubungskathoden mit einer 'Targetgrundplatte und mit einem auf diese aufgesetzten, zusammen mit der Targetgrundplatte eine Schmelzwanne bildenden Rahmen (16), wobei die Targetgrundplatte. aus einer Kopfplatte (7) und einer zu dieser in einer parallelen Ebene und mit Abstand zur Kopfplatte (7) angeordneten Fußplatte (3) gebildet ist, wobei in den Rahmen zwischen beiden Platten (3,7) Hohlprofilzuschnitte (4,5,6 bzw. 8,9) mit rechteckigem .Querschnitt eingelegt sind, deren Längskanten mit den beiden Platten (3,7) verlötet oder verschweißt sind.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß Kopfplatte (7) und Fußplatte (3) etwa gleich groß bemessen sind und eine rechteckige' Konfiguration aufweisen, wobei parallel den umlaufenden Kanten der beiden Platten (3,7) zwischen diesen Hohlprofilzuschnitte (4,6 bzw. 8,9) angeordnet sind, die zusammen einen in den von ihnen begrenzten Raum eingelegten weiteren, kürzer bemessenen Hohlprofilzuschnitt (5) umschließen und so zusammen mit den Platten (3,7) einen ringförmigen Kanal (10) bilden, der über in der Fußplatte (3) vorgesehene Stutzen (11,12) mit einer Kühlmittelguelle verbunden ist.
DE29801666U 1998-02-02 1998-02-02 Vorrichtung für die Herstellung von Targets für Zerstäubungskathoden Expired - Lifetime DE29801666U1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE29801666U DE29801666U1 (de) 1998-02-02 1998-02-02 Vorrichtung für die Herstellung von Targets für Zerstäubungskathoden

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE29801666U DE29801666U1 (de) 1998-02-02 1998-02-02 Vorrichtung für die Herstellung von Targets für Zerstäubungskathoden

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE29801666U1 true DE29801666U1 (de) 1998-04-02

Family

ID=8052045

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE29801666U Expired - Lifetime DE29801666U1 (de) 1998-02-02 1998-02-02 Vorrichtung für die Herstellung von Targets für Zerstäubungskathoden

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE29801666U1 (de)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3603646A1 (de) * 1985-04-03 1986-10-16 Balzers Hochvakuum Gmbh, 6200 Wiesbaden Haltevorrichtung fuer targets fuer kathodenzerstaeubung
DE4025077C2 (de) * 1990-08-08 1992-09-17 Leybold Ag, 6450 Hanau, De
DE19508405A1 (de) * 1995-03-09 1996-09-12 Leybold Ag Kathodenanordnung für eine Vorrichtung zum Zerstäuben von einem Target-Paar
DE19607803A1 (de) * 1996-03-01 1997-09-04 Leybold Ag Vorrichtung zur Überwachung der Targetabnutzung von Sputterkathoden
DE19611433A1 (de) * 1996-03-22 1997-09-25 Leybold Materials Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Sputtertargets
DE19627533A1 (de) * 1996-07-09 1998-01-15 Leybold Materials Gmbh Target für die Sputterkathode einer Vakuumbeschichtungsanlage und Verfahren zu seiner Herstellung

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3603646A1 (de) * 1985-04-03 1986-10-16 Balzers Hochvakuum Gmbh, 6200 Wiesbaden Haltevorrichtung fuer targets fuer kathodenzerstaeubung
DE4025077C2 (de) * 1990-08-08 1992-09-17 Leybold Ag, 6450 Hanau, De
DE19508405A1 (de) * 1995-03-09 1996-09-12 Leybold Ag Kathodenanordnung für eine Vorrichtung zum Zerstäuben von einem Target-Paar
DE19607803A1 (de) * 1996-03-01 1997-09-04 Leybold Ag Vorrichtung zur Überwachung der Targetabnutzung von Sputterkathoden
DE19611433A1 (de) * 1996-03-22 1997-09-25 Leybold Materials Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Sputtertargets
DE19627533A1 (de) * 1996-07-09 1998-01-15 Leybold Materials Gmbh Target für die Sputterkathode einer Vakuumbeschichtungsanlage und Verfahren zu seiner Herstellung

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2634281C3 (de) Düsenplatte zum Ziehen von Glasfasern
DE2453612A1 (de) Verfahren zur bearbeitung eines grob bearbeiteten elektrodenrohstueckes fuer die herstellung einer funkenerosionselektrode
EP0770701A1 (de) Target für die Sputterkathode einer Vakuumbeschichtungsanlage und Verfahren zu seiner Herstellung
DE102008018899A1 (de) Vorrichtung zum Erwärmen oder Kühlen, insbesondere als Teil einer Werkzeugform zur Verarbeitung plastischer Massen, wie Kunststoffspritzgießform
DE2822828C3 (de) Einspann- bzw. Haltevorrichtung für Werkstücke
DE29908667U1 (de) Führungsgestell zum Anschweißen von Kühlrippen und eine Tragplatte eines Kühlkörpers
DE806469C (de) Stranggiessform und Stranggiessverfahren zur Herstellung von Gussbloecken aus Leicht- und Schwermetallen, insbesondere Stahl und Stahllegierungen
WO2012072324A1 (de) Blockförmiges pumpengehäuse einer fahrzeugbremsanlage und verfahren zu dessen herstellung
CH624793A5 (de)
DE1565454A1 (de) Verfahren zum Herstellen einer senkrechten Stossschweissnaht und Vorrichtung zum Durchfuehren dieses Verfahrens
DE29801666U1 (de) Vorrichtung für die Herstellung von Targets für Zerstäubungskathoden
DE69406021T2 (de) Verfahren zum Verschweissen von Teilen aus Aluminium oder einer Aluminiumlegierung
EP0671988B1 (de) Verfahren zum herstellen einer siebplatte für einen brennelement-fuss und entsprechendes brennelement
DE19809752A1 (de) Kondensator mit kaltfließgepreßten Elektroden
DE3147342C2 (de)
DE19801728C1 (de) Stranggießkokille
DE202005001310U1 (de) Verbundgußplatte
DE19608108C2 (de) Kühlvorrichtung
DE19627533A1 (de) Target für die Sputterkathode einer Vakuumbeschichtungsanlage und Verfahren zu seiner Herstellung
DE3315314A1 (de) Schweissmaschine zur durchfuehrung des kondensatorentladungsschweissens
DE3148239C2 (de)
DE19802482A1 (de) Vorrichtung für die Herstellung von Targets für Zerstäubungskathoden
EP1535678B2 (de) Zusammenbau von Kupferplattenkassetten
DE2549011B2 (de) Plattenkokille zum stranggiessen von metall, insbesondere von stahl
DE3800859C1 (en) Device for brazing components of light metal

Legal Events

Date Code Title Description
R207 Utility model specification

Effective date: 19980514

R163 Identified publications notified

Effective date: 19980602

R150 Utility model maintained after payment of first maintenance fee after three years

Effective date: 20010215

R157 Lapse of ip right after 6 years

Effective date: 20040901