DE19627533A1 - Target für die Sputterkathode einer Vakuumbeschichtungsanlage und Verfahren zu seiner Herstellung - Google Patents
Target für die Sputterkathode einer Vakuumbeschichtungsanlage und Verfahren zu seiner HerstellungInfo
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- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3435—Target holders (includes backing plates and endblocks)
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
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- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
Description
Die Erfindung betrifft ein Target für die Sputter
kathode einer Vakuumbeschichtungsanlage mit einem
das zu zerstäubende Material zumindest teilweise
umschließenden Rahmen zur Halterung des platten
förmigen Targets auf der Kathodengrund- oder Rüc
kenplatte und ein Verfahren zu seiner Herstellung.
Um eine bessere Kühlung bei der Kathodenzerstäu
bung von Targets zu erreichen, ist es bekannt
(DE-A-36 03 646), den plattenförmig ausgeformten
Targetwerkstoff mit Hilfe von Klemmen oder Pratzen
auf der Kathodengrundplatte, die im allgemeinen
mit einer Wasserkühlung versehen ist, fest zu ver
binden.
Bekannt ist weiterhin eine Targetanordnung für ei
ne Kathodenzerstäubungsanlage mit geschlossener
Kathodengestalt, mit einem Targetkörper, der mit
tels einer lösbaren Befestigungseinrichtung an ein
Kühlsystem ankoppelbar ist, wobei zwischen dem
Targetkörper und dem Kühlsystem eine Trennmembran
vorgesehen ist, die zum einen mit dem Kühlsystem
und zum anderen mit dem Targetkörper durch ge
trennte Befestigungseinrichtungen in Verbindung
steht (DE-A-43 01 516).
Bekannt ist auch eine Zerstäubungskathode
(DE-A-42 01 551), die nach dem Magnetronprinzip
arbeitet, mit einem Kathodenkörper, der mit einem
eine Zerstäubungsfläche und eine Umfangsfläche
aufweisenden Target ausgestattet ist, wobei hinter
dem Target ein Magnetsystem mit ineinander liegen
den Polen entgegengesetzter Polarität zur Erzeu
gung von magnetischen Feldlinien vorgesehen ist,
die aus dem Target austreten und nach Durchlaufen
von bogenförmigen Bahnen wieder in das Target ein
treten, wobei die außerhalb der Erosionszone lie
genden Randbereiche des Targets von einem parallel
zur Zerstäubungsfläche verlaufenden, einen Innen
rand aufweisenden Fortsatz der Dunkelraumabschir
mung überdeckt sind. Die Dunkelraumabschirmung ist
elektrisch schwimmend angeordnet und durch einen
Spalt vom Target getrennt, der derart groß ist,
daß zwischen Target und Dunkelraumabschirmung kein
Plasma zünden kann, so daß nur das frei liegende
Target zerstäubt wird.
Schließlich ist eine Kathodenzerstäubungsvorrich
tung mit hoher Zerstäubungsrate bekannt
(EP-A-0 431 253) mit einer Kathode, die auf einer
ihrer Oberflächen das zu zerstäubende und auf ei
nem Substrat abzulagernde Material aufweist, mit
einer derart angeordneten Magneteinrichtung, daß
von der Zerstäubungsfläche ausgehende und zu ihr
zurückkehrende Magnetfeldlinien einen Entladungs
bereich bilden, der die Form einer in sich ge
schlossenen Schleife hat und mit einer außerhalb
der Bahnen des zerstäubten und sich von der Zer
stäubungsfläche zum Substrat bewegenden Materials
angeordneten Anode, wobei an der Kathode eine Trä
gerplatte fest angeordnet ist, deren der Kathode
zugewandte Seitenfläche von nutenförmigen Kanälen
durchzogen ist, wobei in die Kanäle von Kühlmit
teln durchflossene Rohre eingelegt sind, deren
Querschnittsprofile den Querschnittsprofilen der
Kanäle entsprechen, so daß die Rohre mit ihren Au
ßenwänden Kontakt mit den Innenwänden der Kanäle
bzw. der Außenfläche der Kathode haben.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zu
grunde, ein Target besonderer Größe zu schaffen,
das sich zum einen zum Beschichten von großflächi
gen Substraten, z. B. Fensterscheiben eignet und
zum anderen preiswert herstellbar ist. Insbesonde
re soll die Kühlung der Targetwerkstoffe während
des Sputterbetriebs besonders effektiv sein.
Diese Aufgabe wird gemäß der Erfindung gelöst
durch zumindest einen auf der Kathodenrückenplatte
oder Trennfolie aufliegenden oder unmittelbar
oberhalb dieser angeordneten und sich ein Stück
weit in den vom Rahmen umschlossenen Raum in ver
flüssigtem Zustand eingegossenen Targetwerkstoff
hinein erstreckenden und vom Targetwerkstoff zu
mindest auf den den Targetflächen und den den Rah
men zugekehrten Seiten vom Targetwerkstoff um
schlossenen, einen Kühlkanal bildenden Hohlprofil
zuschnitt.
Weitere Einzelheiten und Merkmale der Erfindung
sind in den Patentansprüchen näher beschrieben und
gekennzeichnet.
Die Erfindung läßt die verschiedensten Ausfüh
rungsmöglichkeiten zu; eine davon ist in den an
hängenden Zeichnungen näher dargestellt, und zwar
zeigen:
Fig. 1 das Endstück eines Targetrahmens mit
eingelegten Kühlrohren in perspektivi
scher Ansicht und im Querschnitt,
Fig. 2 das Endstück der Ausführungsform gemäß
Fig. 1, jedoch mit mit Targetwerkstoff
ausgefüllten Zwischenräumen,
Fig. 3 eine alternative Ausführungsform mit in
die Rückenplatte eingeschnittenen Nuten
für die Kühlrohre und
Fig. 4 die Rahmenteile eines Targets, die mit
einer Edelstahlplatte zum Ausgießen mit
Targetwerkstoff fest verbunden sind im
Schnitt und in der perspektivischen
Teildarstellung.
Das Target besteht aus vier Profilzuschnitten
3, 4, 5, . . . , die alle zusammen einen länglichen,
rechteckigen Rahmen bilden und einen kürzer bemes
senen Mittelsteg 7, der so zwischen den Rahmentei
ien 3, 4, 5, . . . angeordnet ist, daß er sich einer
seits parallel zu den beiden Seitenteilen 3, 4 er
streckt und andererseits Spalte A, . . . mit den bei
den Kopfteilen 5, . . . bildet. Die seitlichen Rah
menteile 3, 4 und auch die beiden Kopfteile 5, . . .
sind jeweils mit seitlich abstehenden Vorsprüngen
bzw. Zungen 3a, 3b, . . ., 4a, 4b, . . . versehen, die sich
bis in die vom Mittelteil und den Seitenteilen ge
bildeten Zwischenräume B bzw. C erstrecken. Auch
das Mittelteil 7 ist mit sich in die Zwischenräume
B,C erstreckenden Zungen 7a, 7b, . . . bzw.
7a′, 7b′, . . . versehen, die sich bis in die Zwi
schenräume B,C erstrecken.
Wie die Zeichnung gemäß Fig. 1 zeigt, sind auf
die Folie 20 Kühlrohre 21, 21′ bzw. 22, 22′ aufge
legt, deren obere umlaufende Ränder punktförmig
mit den Zungen verschweißt sind, wobei diese
Punktverschweißungen p₁, p₂, . . . die Aufgabe erfül
len, die Rohre bzw. Hohlprofilzuschnitte 21, 21′
bzw. 22, 22′ in ihrer Position zu fixieren.
Gemäß Fig. 2 sind bei einem komplettierten Target
die in Fig. 1 erkennbaren Partien oder Räume zwi
schen den Hohlprofilzuschnitten 21, 21′ bzw.
22, 22′, den einander zugekehrten Seitenwänden der
Rahmen- bzw. Kopfteile 3 bis 5, dem Mittelsteg 7
und den Zungen 3a, 3b, . . ., 7a, 7b mit Targetwerkstoff
23 ausgegossen.
Zur Herstellung eines Targets ähnlich demjenigen
nach Fig. 3 werden zunächst die Rahmenteile
3, 4, 5, . . ., 7 auf eine Edelstahlplatte 9′′ mit Hilfe
von Schrauben 18, 19, . . . aufgeschraubt, derart, daß
die Rahmenteile spaltenfrei auf der Oberseite der
Edelstahlplatte 9′′ aufliegen. In einem weiteren
Arbeitsgang werden die einzelnen Kühlrohre 16, 17,
die in diesem Falle einen kreisförmigen Quer
schnitt aufweisen, auf die Edelstahlplatte 9′′
auf- bzw. in die Nuten 24, 25 eingelegt, so daß ein
Verrutschen der Kühlrohre 16, 17 ausgeschlossen
wird. Danach werden Edelstahlplatte und Rahmenteile
3, 4, 5, . . ., 7 auf eine Temperatur erwärmt, die et
wa der Schmelztemperatur des Targetwerkstoffs 23
entspricht; anschließend wird dann das aufge
schmolzene Targetmaterial 23 von oben her in die
Zwischenräume eingegossen, bis der Schmelzenspie
gel diese Zwischenräume vollständig ausfüllt. Nach
dem Gießvorgang und dem Erkalten des Targetwerk
stoffs 23 und der Edelstahlplatte 9′′ können die
Schrauben 18, 19, . . . gelöst und der Rahmen zusammen
mit dem Targetwerkstoff 23 als eine einzige kom
pakte Einheit von der Edelstahlplatte 9′′ abgeho
ben werden und anschließend mit der Kathodengrund
platte 9 verschraubt werden (wie dies am Ausfüh
rungsbeispiel nach Fig. 2 dargestellt ist).
Es ist klar, daß die Werkstoffe für die Edelstahl
platte 9′′ und die Rahmenteile (3, 4, 5, . . .) so ge
wählt werden müssen, daß sich der Targetwerkstoff
23 nicht mit dem Werkstoff der Rahmenteile und der
Platte untrennbar verbindet.
Vor der Montage des aus dem Targetwerkstoff 23,
den Rahmenteilen 3, 4, 5, . . . 7 und den Kühlrohren
21, . . . 22 . . . bzw. 16, 17 gebildeten kompakten
Blocks auf der Kathodenrückenplatte 9 mit Hilfe
der Schrauben 10, 11, 12, . . . kann auch eine Trennfo
lie 20 auf die Rückenplatte 9 aufgelegt werden.
Um ein Verrutschen der Kühlrohre 21, . . . 22, . . . wäh
rend des Ausgießens der Räume zwischen den Rahmen
teilen 3, 4, 5, . . . 7 zu verhindern, können die Kühl
rohre 21, . . . 22, . . . auch an den Zungen 3a, 3b, . . .
bzw. 7a, 7b, . . . bzw. 7a′, 7b′, . . . bzw. 4a, 4b, . . . mit
Hilfe von Schweißpunkten p₁, p₂, . . . arretiert werden
(siehe Fig. 1).
Bezugszeichenliste
3 Profilzuschnitt, Seitenteil
3a, 3b, . . . Zunge
4 Profilzuschnitt, Seitenteil
5 Kopfteil
7 Profilzuschnitt, Mittelsteg
7a, 7b, . . . Zunge
7a′, 7b′, . . . Zunge
9, 9′ Rückenplatte
10 Schraube
11 Schraube
12 Schraube
13 Targetvorderfläche
14, 14′ Nut, Ausnehmung
15, 15′ Nut, Ausnehmung
16 Hohlprofilzuschnitt, Kühlrohr
17 Hohlprofilzuschnitt, Kühlrohr
18 Schraube
19 Schraube
20 Folie, Trenn-, Isolierfolie
21, 21′ Kühlrohr, Hohlprofilzuschnitt
22, 22′ Kühlrohr, Hohlprofilzuschnitt
23 Targetwerkstoff
24 Nut
25 Nut
3a, 3b, . . . Zunge
4 Profilzuschnitt, Seitenteil
5 Kopfteil
7 Profilzuschnitt, Mittelsteg
7a, 7b, . . . Zunge
7a′, 7b′, . . . Zunge
9, 9′ Rückenplatte
10 Schraube
11 Schraube
12 Schraube
13 Targetvorderfläche
14, 14′ Nut, Ausnehmung
15, 15′ Nut, Ausnehmung
16 Hohlprofilzuschnitt, Kühlrohr
17 Hohlprofilzuschnitt, Kühlrohr
18 Schraube
19 Schraube
20 Folie, Trenn-, Isolierfolie
21, 21′ Kühlrohr, Hohlprofilzuschnitt
22, 22′ Kühlrohr, Hohlprofilzuschnitt
23 Targetwerkstoff
24 Nut
25 Nut
Claims (10)
1. Target für die Sputterkathode einer Vakuumbe
schichtungsvorrichtung mit einem das zu zer
stäubende Material (23) zumindest teilweise
umschließenden Rahmen (3, 4, 5, 7) zur Halterung
des plattenförmig ausgebildeten Targets auf
der Kathodenrückenplatte (9, 9′) und mit zu
mindest einem auf der Kathodenrückenplatte
(9) oder einer Trennfolie (20) aufliegenden
oder unmittelbar oberhalb dieser angeordneten
und sich ein Stück weit in den Targetwerk
stoff (23) hinein erstreckenden und vom Tar
getwerkstoff zumindest auf den den Targetvor
derflächen (13) und den den Rahmenteilen
(4, 5, 6) zugekehrten Seiten umschlossenen, die
Kühlkanäle bildenden Hohlprofilzuschnitten
(21, 21′, . . . 22, 22′, . . . bzw. 16, 17).
2. Target nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß die Kathodenrückenplatte (9′) mit
Nuten oder Ausnehmungen (14, 14′; 15, 15′) ver
sehen ist, in die die Kühlkanäle bildenden
Hohlprofilzuschnitte (21, 21′; 22, 22′) mit ih
ren der Targetvorderfläche (13) abgewandten
Partien hineinragen, wobei die der Targetvor
derfläche (13) zugekehrten Partien der Hohl
profilzuschnitte (21, 21′; 22, 22′) vom Target
werkstoff (23) umschlossen sind.
3. Target nach Anspruch 2, dadurch gekennzeich
net, daß die Ausnehmungen oder Nuten
(14, 14′; 15, 15′ bzw. 24, 25) in der Rückenplat
te (9, 9′) bzw. in der Stahlplatte (9′′) so
bemessen und konfiguriert sind, daß die Hohl
profilzuschnitte (21, 21′; 22, 22′ bzw. 16, 17)
ohne Spalte zu bilden in diese einsetzbar
sind.
4. Target nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß die sich in einer zur Targetvorder
fläche (13) parallelen Ebene erstreckenden
Bolzen, Zungen oder Vorsprünge
(3a, 3b, . . . 4a, 4b, . . . 7a, 7b) mit den Rahmentei
len (3, 4, 5 . . . 7) verschraubt, verschweißt oder
verzapft sind.
5. Target nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß der Rahmen (3, 4, 5 . . . 7)
aus mehreren Metallprofilzuschnitten gebildet
ist, wobei die einzelnen Zuschnitte miteinan
der verschraubt oder vermittels Steckverbin
dungen zusammengefügt sind.
6. Target nach einem oder mehreren der vorherge
henden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
die den Rahmen bildenden Profilzuschnitte ei
nen im wesentlichen rechteckigen Querschnitt
aufweisen und die Zungen oder leistenförmigen
Vorsprünge (3a, 3b, . . . 4a, 4b, . . . 7a, 7b, . . .) mit
den dem Targetwerkstoff (23) zugekehrten Sei
tenflächen der Profilzuschnitte verschweißt
sind.
7. Target nach einem oder mehreren der vorherge
henden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
die den Rahmen bildenden Profilzuschnitte mit
einem Überzug aus Nickel versehen sind.
8. Target nach einem oder mehreren der vorherge
henden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
der Rahmen (3, 4, 5, . . . 7) eine längliche, etwa
rechteckige Konfiguration aufweist, wobei
zwischen den langen, einander parallelen Rah
menseitenteilen ein sich längs zu diesem er
streckender Mittelsteg (7) vorgesehen ist,
dessen Länge kürzer bemessen ist als die Län
ge der beiden Seitenteile (3, 4) des Rahmens.
9. Target nach einem oder mehreren der vorherge
henden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß
die die Kühlkanäle bildenden Hohlprofilzu
schnitte (21, . . . 22, . . ., 16, 17) mit den Zungen
oder Vorsprüngen 3a, . . . 4a, . . . 7a, . . . 7a′) durch
Löten oder Punktschweißen partiell verbunden
sind.
10. Verfahren zur Herstellung eines Targets für
die Sputterkathode einer Vakuumbeschichtungs
vorrichtung mit einem das zu zerstäubende Ma
terial (23) zumindest teilweise umschließen
den Rahmen (3, 4, 5, . . . 7) zur Halterung des
plattenförmig ausgebildeten Targets auf der
Kathodenrückenplatte (9,9′) mit einem ersten
Verfahrensschritt, in dem der Rahmen
(3, 4, 5, . . . 7) aus einem metallischen Werk
stoff, vorzugsweise aus Kupfer, auf eine auf
heizbare, horizontal ausgerichtete ebene
Platte (9′′), vorzugsweise aus Edelstahl,
aufgelegt und mit dieser verschraubt oder
verpratzt wird und in einem zweiten Verfah
rensschritt der vom Rahmen (3, 4, 5 . . . 7) um
griffene Raum mit aufgeschmolzenem Target
werkstoff (23), beispielsweise mit flüssigem
Zinn, ausgegossen wird, bis der Schmelzen
spiegel die Oberseite des Rahmens
(3, 4, 5, . . . 7) erreicht hat, worauf hin in ei
nem dritten Schritt die Schmelze gleichmäßig
auf Raumtemperatur abgekühlt und anschließend
der Rahmen mit dem erstarrten Targetwerkstoff
von der Edelstahlplatte (9′′) abgelöst und
auf die Kathodenrückenplatte (9, 9′) aufge
schraubt oder aufgepratzt wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1996127533 DE19627533A1 (de) | 1996-07-09 | 1996-07-09 | Target für die Sputterkathode einer Vakuumbeschichtungsanlage und Verfahren zu seiner Herstellung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1996127533 DE19627533A1 (de) | 1996-07-09 | 1996-07-09 | Target für die Sputterkathode einer Vakuumbeschichtungsanlage und Verfahren zu seiner Herstellung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19627533A1 true DE19627533A1 (de) | 1998-01-15 |
Family
ID=7799277
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1996127533 Withdrawn DE19627533A1 (de) | 1996-07-09 | 1996-07-09 | Target für die Sputterkathode einer Vakuumbeschichtungsanlage und Verfahren zu seiner Herstellung |
Country Status (1)
Country | Link |
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DE (1) | DE19627533A1 (de) |
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- 1996-07-09 DE DE1996127533 patent/DE19627533A1/de not_active Withdrawn
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