DE2911971A1

DE2911971A1 - Verfahren zum herstellen eines raumtemperaturhaertenden siliconschaumes

Info

Publication number: DE2911971A1
Application number: DE19792911971
Authority: DE
Inventors: Peter Hagen; Ursula Huebel; Reinhard Dipl Chem Dr Jonas
Original assignee: HAGEN PERENNATORWERK; Dow Corning GmbH
Current assignee: HAGEN PERENNATORWERK; Dow Silicones Deutschland GmbH
Priority date: 1979-03-27
Filing date: 1979-03-27
Publication date: 1980-10-09
Also published as: DE2911971C2

Description

Verfahren zum Herstellen eines raumtemperatur-
härtenden Siliconschaumes Zusatz zu Patent (Patentanmeldung P 29 09 443.7) Gegenstand des Hauptpatents ist ein Verfahren zum Herstellen eines raumtemperaturhärtenden Siliconschaumes, das sich dadurch kennzeichnet, dass eine Einkomponenten.
Siliconmasse mit einem niedrigsiedenden Lösungsmittel vermischt über ein Ventil aus einem Beutel durch einen auf diesen wirkenden Flächendruck ausgepresst wird.
Das im Hauptpatent wiedergegebene Verfahren hat gute Ergebnisse erbracht. Jedoch liegt der Erfindung die überraschende Erkenntnis zugrunde, dass sich dieses Verfahren noch wesentlich vereinfachen und verbessern lässt.
Es wird daher erfindunysgemäss vorgeschlagen, die Einkomponenten-Siliconmasse zusätzlich zu oder anstelle von niedrigsiedendem Lösunysmittel vor dem Auspressen aus dem Beutel mit unter höherem Druck als die Atmophäre stehendem Gas zu vermischen. Das Beimischen von Gas zu der Einkomponenten-Siliconmasse erbringt eine wesentliche Verbilligung, da das niedrigsiedende Lösunysmittel zumindest zum Teil eingespart werden kann. Ausserdem treten bei dem Ausschäumen der Einkomponenten-Siliconmasse wesentlich weniger oder überhaupt keine Lösungsmitteldämpf mehr auf, so dass auch die durch solche Lösungsmitteldämpfe hervorgerufenen Gefahren (Verpuffungsgefahr) Belästigung des Personals und Umweltbelastung wesentlich herabgesetzt oder sogar völlig vermieden werden.
Überraschend wurde gefunden, dass sich das Einbringen von Gas in die Einkomponenten-Siliconmasse unter höherem Druck als die Atmosphäre in sehr einfacher Weise dadurch ausführen lässt, dass die Einkomponenten-Siliconmasse in einem Folienbeutel aus die Diffusion des jeweiligen Gases zulassendem Material untergebracht und über eine vorher festgelegte Zeitdauer in einem das Gas unter erhöhtem Druck enthaltenden Raum oder Behälter gelagert wird.
Hierbei kann die Lagerungsdauer 1 Woche bis ein viertel Jahr, beispielsweise etwa 6 Wochen sein. Der Druck des durch Diffusion in die Einkomponenten-Siliconmasse einzubringenden Gases kann zwischen 2 atü und beispielsweise 50 atü liegen. Je höher der Druck des Gases gewählt wird, desto kürzer kann naturgemäss auch die Lagerungsdauer sein.
Als besonders vorteilhaft hat es sich herausgestellt, eine Lagerungsdauer von 6 Wochen und einen Druck des in die Einkomponenten-Siliconmasse einzuführenden Gas bei etwa 10 atü vorzusehen. Unter diesen Bedingungen lässt sich das Verfahren in der Weise ausführen, dass die in einem Folienbeutel untergebrachte Einkomponenten-Siliconmasse in eine Zweikammer-Druckpackung gebracht und in den den Folienbeutel umgebenden Raum der Zweikammer-Druckpackung solches Gas als den Flächendruck auf den Beutel ausübendes Medium eingepresst wird, wie es in die Einkomponenten-Siliconmasse eingeführt werden soll, und dass man die so gefüllte Zweikammer-Druckpackung vor Gebrauch über mindestens die vorher festgelegte Zeitdauer, also beispielsweise 6 Wochen, lagert. Als besonders vorteilhaft hat es sich für das erfindungsgemässe Verfahren herausgestellt, dass Luft als in die Einkomponenten-Siliconmasse 1 einzuführendes Gas benutzt werden kann. Obwohl die in diesem Zusammenhang bevorzugt zu benutzenden Einkomponenten Siliconmassen als RT0Siliconmassen, also unter der Einwirkung von Luftfeuchtigkeit vernetzend ausgebildet sind, hat es sich herausgestellt, dass Pressluft - wenn ausreichend trocken - keine nachteilige Wirkung auf die Einkomponenten-Siliconmasse ausübt, wenn sie in diese eindiffundiert.
Ausführunysbeispiel: Zusammensetzung einer zu verschäumenden RTV-Siliconmasse in Gewichtsprozenten: 30,9% OH-endgestopptes Polydimethylsiloxan 50.000 cp 11% Stethyl-endgestopptes Polydimethylsiloxan 1.000 cp 4,09% mit Luftfeuchtigkeit reagierender Siliconvernetzer 50% Kreide 4% hochdisperse Kieselsäure 0,01% auf den Vernetzer abgestimmter Katalysator.
Lagerung in Zweikammer-Druckpackungen: a) in einem Beutel aus Hochdruck-Polyäthylen mit Wandstärke von 0,5 bis 0,9 mm werden 110 ml der oben beschriebenen Einkomponenten-Siliconmasse eingefüllt.
Der so gefüllte Beutel wird in eine Druckdose von 158 ml eingesetzt. In den Zwischenraum zwischen der Beutelwand und der Dosenwand wird trockene Pressluft mit einem Druck von 9 atü eingepresst.
Die so gefüllte Zweikammer-Druckpackung wird vor dem Verbrauch 6 Wochen lang gelagert.
b) Grösse 2: ein Beutel aus Hochdruck-Polyäthylen mit Wandstärke von 0,5 bis 0,9 mm und Fassungsvermögen von 420 ml wird mit der oben angegebenen Einkomponenten-Siliconmasse gefüllt und in eine Druckdose mit 605 ml Fassungsvermögen eingesetzt. In den Zwischenraum zwischen der Dosenwand und der Beutelwand wird trockene Pressluft mit 9 atü Druck eingepresst.
Die so gefüllte Zweikammer-Druckpackung wird vor dem Gebrauch 10 Wochen lang gelagert.
Bei den Zweikammer-Druckpackungen beider Grössen ist während der angegebenen Lagerzeit so viel Luft durch den Beutel aus Hochdruck-Polyäthylen in die Einkomponenten-Siliconmasse diffundiert, dass beim Öffnen des Auslassventils der Zweikammer-Druckpackung die austretende Einkomponenten-Siliconmasse unter der Wirkung der in sie diffundierten Luft aufschäumt.
Andererseits ist die im Zwischenraum zwischen der Dosenwand und der Beutelwand verbleibende Druckluft hoch genug, um die Einkomponenten-Siliconmasse vollständiy aus dem Beutel auszupressen.

Claims

Patentansprüche 1) Verfahren zum Herstellen eines raumtemperaturhärtenden Siliconschaumes, bei dem eine Einkomponenten-Siliconmasse mit einem niedrigsiedenden Lösungsmittel vermischt, über ein Ventil aus einem Beutel durch einen auf diesen wirkenden Flächendruck ausgepresst wird, nach Patent (Patentanmeldung P 29 09 443.7), dadurch gekennzeichnet, dass die Einkomponenten-Siliconmasse zusätzlich zu oder anstelle von niedrigsiedendem Lösungsmittel vor dem Auspressen aus dem Beutel mit unter höherem Druck als die Atmosphäre stehendem Gas vermischt wird.
2) Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Einkomponenten-Siliconmasse in einem Folienbeutel aus die Diffusion des jeweiligen Gases zulassendem material untergebracht und über eine vorher festgelegte Zeitdauer, beispielsweise 6 Wochen, in einem das Gas unter erhöhtem Druck, beispielsweise 10 atü, enthaltenden Raum oder Behälter gelagert wird.
3) Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die in einem Folienbeutel untergebrachte Einkomponenten-Siliconmasse in eine Zweikammer-Druckpackung gebracht und in den den Folienbeutel umgebenden Raum der Zweikammer-Druckpackung solches Gas als den Flächendruck auf die Beutelrand ausübendes Medium eingepresst wird, wie es in die Einkomponenten-Siliconmasse eingeführt werden soll, und dass die so gefüllte Zweikammer-Druckpackung vor Gebrauch über mindestens die vorher festgelegte Zeitdauer gelagert wird.
4) Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass Luft als in die Einkomponenten-Siliconmasse einzuführendes Gas benutzt wird.
5) Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3 dadurch gekennseichnet, dass Stickstoff als in die Einkomponenten-Siliconmasse einzuführsndes Gas benutzt wird.