DE2909443A1 - Verfahren zum herstellen eines raumtemperaturhaertenden siliconschaumes - Google Patents

Verfahren zum herstellen eines raumtemperaturhaertenden siliconschaumes

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Ursula Huebel
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Dow Silicones Deutschland GmbH
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HAGEN PERENNATORWERK
Dow Corning GmbH
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Description

  • Verfahren zum Herstellen eines raumtemperaturhärtenden Siliconschaumes ===============================================~~~=~====~~~=== Es ist bekannt, daß sich Zweikomponenten-Siliconmasse in raumtempqaturhärtender Form verschäumen läßt. Hierbei stellt sich wie beim Herstellen von Einkomponenten-Polyurethanschaum jedoch das Problem ein, daß eine mehr oder weniger starke Nachschäumung unvermeidlich ist.
  • Durch diese Nachschäumung läßt sich einerseits aus der eingesetzten Naterialmenge das sich ergebende Schaumvolumen nicht genau dosieren und andererseits sind deshalb Materialverluste nie vermeidbar.
  • Aufgabe der Erfindung ist es daher, ein Verfahren zur Herstellung eines raumtemperaturhärtenden Siliconschaumes zu schafen, bei dem sich das ergebende Schaumvolumen reproduzierbar und genau aus der eingesetzten Materialmenge dosieren läßt und Materialverluste vermieden werden.
  • Zur Lösung dieser Aufgabe wird erfindungsgemäß eine Einkomponenten-Siliconmasse mit einem niedrigsiedenden Lösungsmittel vermischt- über ein Ventil aus einem Beutel durch einen auf diesen wirkenden-Flächendruck ausgepreßt.
  • Der Erfindung liegt die überraschende Erkenntnis zugrunde, daß sich Einkomponenten-Silicone in Verbindung mit niedrig siedendem Lösungsmittel aus dem Beutel von Zweikammer-Druckpackungen verschäumen lassen und dabei die Nachschäumung praktisch vollkommen vermieden-werden kann.
  • Als besonders vorteilhaft hat es sich im Rahmen der Erfindung gezeigt, wenn man die Siliconmasse unter Einfluß der Luftfeuchtigkeit vernetzend einstellt. Die mit dem niedrigsiedenden Lösungsmittel versetzte, luftfeuchtigkeitsvernetzende (RTV-) Siliconmasse wird - nachdem sie durch Preßluft- oder Stickstoff-Flächendruck über ein Ventil aus der Zweikammer-Druckpackung ausgepreßt worden ist - durch Verdunsten des niedrigsiedenden Lösungsmittels aufgeschäumt. Man kann diesen Aufschäumvorgang entsprechen schnell ablaufen lassen und die Siliconmasse so einstellen, daß sie genügend schnell Haut bildet, so daß der sich bildende Schaum "stehen" bleibt undhicht mehr nachschäumt. Hierzu kann die Siliconmasse acetat-, amin-, benzamid- oder oxymvernetzend eingestellt werden.
  • Als Lösungsmittel kommen niedrigsiedende halogenierte Kohlenwasserstoffe, wie Monofluortrichlormethan oder 1,1,2,2-Tetrafluordichlorethan, oder auch Petroläther in Betracht. Als besonders vorteilhaft wurde gefunden, daß sich auch hochgefüllte Sili-conmassen im erfi-ndungsgemäßen Verfahren besonders gut verschäumen lassen.
  • Im Rahmen des erfindungsgemäßen Verfahrens können Siliconpolymere verschiedenster Art eingesetzt werden, bevorzugt Siliconpolymere der Methyltypen und Phenyltypen.
  • Ausführungsbeispiele Beispiel 1: Zusammensetzung einer zu verschäumenden RTV-Siliconmasse in Gewichtsprozenten 30,9% OH-endgestopptes Polydimethylsiloxan 50.000 cp 11°,' Methyl-endgestopptes Polydimethylsiloxan 1.000 cp 4,09% mit Luftfeuchtigkeit reagierender Siliconvernetzer 50% Kreide 4% hochdisperse Kieselsäure 0,01% auf den Vernetzer abgestimmter Katalysator.
  • Beispiel 2: Zusammensetzung einer zu verschäumenden RTV-Siliconmasse in Gewichtsprozenten .
  • 37% OH endgestopptes Polydimethylsiloxan 50.000 cp 11,4% Nethyl-endgestopptes Polydimethylsiloxan 1,000 cp 6,08% -mit Luftfeuchtigkeit reagierender Siliconvernetzer, 41% Kreide 4,5% hochdisperse Kieselsäure 0,-0Z% auf den Vernetzer abgestimmter Katalysator Beispiel 3: Zusammensetzung eines aufzuschäumenden Gemisches in Gewichtsprozenten: 77% Siliconmasse nach Beispiel 1 23% 1,1,2,-Tetrafluordichlorethan Beispiel 4: Zusammensetzung eines aufzuschäumenden Gemisches in Gewichtsprozenten: 80% Siliconmasse nach Beispiel 2 20% 1,1,2,2-Tetrafluordichlorethan

Claims (9)

  1. PATENTANSPRÜCHE 1.) Verfahren zum Herstellen eines raumtemperaturhärtenden Siliconschaumes, dadurch gekennzeichnet, daß eine Einkomponenten-Siliconmasse mit einem niedrigsiedenden Lösungsmittel vermischt über ein Ventil aus einem Beutel durch einen auf diesen wirkenden Flächendruck angepreßt wird.
  2. 2.) Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Siliconmasse unter Einfluß der Luftfeuchtigkeit vernetzend eingestellt wird.
  3. 3.) Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Lösungsmittel niedrigsiedende Kohlenwasserstoffe verwendet werden.
  4. 4.) Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Lösungsmittel niedrigsiedende, halogenierte Kohlenwasserstoffe, beispielsweise Monofluortrichlormethan oder 1 2t2-Tetrafluordichloräthan verwendet werden.
  5. 5.) Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Lösungsmittel Petroläther verwendet wird.
  6. 6.) Verfahren nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch ein Mischungsverhältnis: 60 bis 90 Gew.% Siliconmasse und 10 bis 40 Gew.V Lösungsmittel.
  7. 7.) Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß hochgefüllte Einkomponenten-Siliconmasse verwendet wird.
  8. 8.) Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Siliconmasse aus 15 bis 85 Gew.% OH-endgestopptem Siliconpolymer, 0 bis 35 Gew.% Siliconöl, 1 bis 25 Ges % mit Luftfeuchtigkeit reagierender Siliconvernetzer, 0 bis 2 Gew.% auf den Siliconvernetzer abgestimmten Katalysator und 5 bis 70 Gew.% Füllstoff besteht.
  9. 9.) Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß eine Einkomponenten-Siliconmasse benutzt wird, die Siliconpolymeres vom Methyltyp oder Phenyltyp enthäit
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