DE2817256A1 - Verfahren zur entwicklung einer mit fotoaetzgrund bedeckten flaeche - Google Patents

Verfahren zur entwicklung einer mit fotoaetzgrund bedeckten flaeche

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DE2817256A1
DE2817256A1 DE19782817256 DE2817256A DE2817256A1 DE 2817256 A1 DE2817256 A1 DE 2817256A1 DE 19782817256 DE19782817256 DE 19782817256 DE 2817256 A DE2817256 A DE 2817256A DE 2817256 A1 DE2817256 A1 DE 2817256A1
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DE19782817256
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German (de)
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Roland W Anderson
John E Vander Mey
William R Schevey
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Honeywell International Inc
Original Assignee
Allied Chemical Corp
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/325—Non-aqueous compositions

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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JPS53138676A (en) 1978-12-04

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