DE2802666A1

DE2802666A1 - Photoempfindliche aufzeichnungsmaterialien und verfahren zu deren verwendung

Info

Publication number: DE2802666A1
Application number: DE19782802666
Authority: DE
Inventors: Frans Clement Heugebaert; Wilhelmus Dr Janssens; Hendrik Emmanuel D Kokelenberg
Original assignee: Agfa Gevaert AG
Current assignee: Agfa Gevaert AG
Priority date: 1977-01-25
Filing date: 1978-01-21
Publication date: 1978-07-27
Also published as: JPS5393821A; BE863052A; GB1595221A; FR2378300B1; FR2378300A1; US4220710A

Description

Patentabteilung

Photoempfindliehe Aufzeichnungsmaterialien und Verfahren zu deren Verwendung.

Die vorliegende Erfindung betrifft photoempfindliche Aufzeichnungsmaterialien sowie ein Verfahren zur Aufzeichnung durch Belichtung solcher Materialien mit informationsweise modulierter, aktivierender elektromagnetischer Strahlung.

In der DT-OS 2 436 132 wird ein Verfahren zur Herstellung einer wiedergabefähigen Informationsaufzeichnung beschrieben, worin als Bilderzeugungsstoff eine Organotellurverbindung verwendet wird.

Gemäss einer Ausführungsform dieses Verfahrens wird eine bilderzeugende Organotellurverbindung, welche Halogen, vorzugsweise Chlor, direkt an ein Telluratom gebunden sowie mindestens einen, eine Carbonylgruppe umfassenden, organischen Substituenten enthält, bildweise mit Hilfe eines photobelichteten Photoreduktionsmittels, z.B. eines mehrkernigen Chinons, reduziert.

Das folgende Rr-aktionsschema erläutert dieses Verfahren, worin ein Tellurmetallbild erzeugt wird : A-G 1583/GV.974

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⁵PQ + 2 RH * PQ.H_£ + R-R

(R¹ViPe-Cl₃ + 2 PQ.H_p-^2 PQ + 2 R¹H + Te ₊ ^ 2 2 2 _{2 HC}

_HC1

Hierin bedeuten :

PQ ein Photoreduktionsmittel, z.B. Phenanthrenchinon,

PQ den ersten angeregten Singlett-Zustand dieses Chinons, ^ PQ den Triplett-Zustand dieses Chinons,

RH einen Wasserstoffdonor, z.B. eine organische Hydroxylverbindung,

PQ.Hp das Photoreduktionsmittel im reduzierten Zustand und (R )p.Te.Clp eine reduzierbare Organotellurverbindung mit R z.B. (C₆H

Ein Nachteil von Aufzeichnungsmaterialien, die nur diese Verbindungen enthalten, ist ihre ziemlich geringe Lichtempfindlichkeit.

Gemäss der vorliegenden Erfindung wird ein lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial mit verbesserter Empfindlichkeit geliefert, das als Gemisch in einem Bindemittelmedium enthält :

(1) als Bilderzeugungssubstanz eine Organotellurverbindung, die Halogen direkt an das Telluratom gebunden sowie mindestens einen eine Carbonylgruppe umfassenden organischen Substituenten enthält,

(2) ein Photoreduktionsmittel,

(3) eine Wasserstoffdonorverbindung, der durch das photobelichtete Photoreduktionsmittel Wasserstoff entzogen werden kann, sowie

(²O einen organischen Reduktionsmittelvorlaufer, aus welchem durch die Wirkung einer Säure eine Verbindung freigesetzt werden kann, die zur Reaktion der genannten Organotellurverbindung befähigt ist; dieser Vorläufer ist vorzugsweise G V. 974-

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ein Vorläufer, der die folgenden Eignungsversuche A \xnd B erfolgreich-durchläuft»

EJKnunKsversuch A :

Eine 1 gew.-%ige Lösung der Verbindung (4) in einem inerten Lösungsmittel, z.B. Methylenchlorid, wird eine Woche bei Raumtemperatur gehalten. Es dürfen sich nicht mehr als 10 % der geprüften Verbindung zersetzt haben. Als Verfahren zur Abtrennung der nicht-angegriffenen Menge der Verbindung wird die Dünnschichtchromatographie verwendet.

EiKnunRsversuch B :

1 mmol der Verbindung (4) wird in 2 mmol Phenyl-1,2-ethandiol in einem 50-ml-Reagenzglas gelöst. Diese wird unter dem verminderten Druck von 20 mm Hg bei 20⁰C- gesetzt. Man führt Chlorwasserstoff gas in das Rohr ein bis ein Druck von 1 kg/cm2 wieder erreicht wird. Hierauf wird das verschlossene Glas auf einem Ölbad 3 min bei 17O^QC erhitzt. Nach dieser Behandlung sollten sich mehr als 50 % der geprüften Verbindung zersetzt haben. Wie im Versuch A wird die Dünnschichtchromatographie zur Abtrennung der nicht-angegriffenen Menge der Verbindung verwendet.

Zu einer Klasse, organischer Reduktionsmittelvorläufer, woraus durch Wirkung einer Säure ein Reduktionsmittel für die Organotellurverbindung freigesetzt werden kann, gehören para- und ortho-Dihydroxyary!verbindungen, wovon mindestens eine deT Hydroxylgruppen verestert ist und die gegebenenfalls verbleibende Hydroxylgruppe veräthert wurde. Durck säurekatalysierte Hydrolyse kann die Hydroxylgruppe wieder im freien Zustand erhalten werden, so dass die betreffende Verbindung wieder ihre reduzierenden Eigenschaften erhält.

Eine weitere Klasse säureempfindlicher organischer Reduktionsmittelvorläufer leitet sich von Pyrazolidin-3-on-Reduktions- -.-■.-mitteln ab, worin das aktive Wasserstoffatom in 2-Stellung

^GV*⁹⁷⁴ 809830/0916

zeitweilig blockiert wird, beispielsweise durch Reaktion mit einem Isocyanat oder einem Säurehalogenid.

Typische Beispiele für beide Klassen von Reduktionsmittelvorläufern, welche die Anforderungen der oben beschriebenen
Eignungsversuche A und B erfüllen, sind in der folgenden Tabelle 1 aufgeführt.

Tabelle 1

Verbin dung Nr.	Chemische Struktur	Schmelzpunkt (Fp) oder Siedepunkt (Sp) ⁰C
1	OCOCH, I Cy OCH₃	Sp 140-144 (0,05 mm Hg)
2	I ² ^=/ OCH₃	Fp etwa 200
3	*I (I I /"\/^t^/'iTT** OCOCH₃	Fp etwa 200
4	H₂C N-CONH- ^ZS H₂C- C=O	Fp 132

GV. 974-

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Λ"

H₂C N-CONH-^3·-^ΝΟρ

C
H₂C — C=O

Fp 181

N-CONHC₂H 0=0

135

H₀C N-CONHCO

²I λ H₂C-C=O

Fp 182

N-CONHCO

₂
HC-C—C=O

Pp 164

H₀C N-COCH₀Cl — C=O

Pp 97

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Herstellung der Verbindung 1

1 mol 4—Methoxynaphthol wird in Dioxan gelöst. Unter Stickstoff wird bei Ruckflusstemperatur 1 mol Acetylchlorid zugesetzt.

Man erhitzt weiter zum Rückfluss. Dann wird das Lösungsmittel abgezogen und der Rückstand zweimal unter vermindertem Druck destilLiert. Sp der Verbindung 1: 140 bis 144°C/O,5 mm Hg.

Herstellung der Verbindung 2

1 mol der Monochloressigsaureesters von 1-(4-Methoxy)-naphthol Ίο und 1,5 mol Pyridin werden 8 h in Chloroform zum Rückfluss erhitzt.. Dann wird das Reaktionsgemisch gekühlt, Äther zugesetzt und das verbleibende viskose Ol einige Male mit Äther gewaschen. Das gewaschene Produkt wurde in Chloroform wieder gelöst und durch langsames Abziehen des Chloroforms zur Kristallisation gebracht. Fp : ca. 200⁰C.

Herstellung der Verbindung 3

0,4 mol 9,10-Phenanthrenchinon, 13,40 ml Essigsaureanhydrid,

2 mol Natriumacetat und 3,8 mol Zinkstaub werden durch Rühren gemischt und 2 h am Rückflusskühler erhitzt. Darauf wird das Reaktionsgemisch gekühlt und die Feststoffe durch Absaugen isoliert.

Die Feststoffe werden in 1 1 Essigsäure gekocht und dann zur Entfernung des Zinkstaubs filtriert. Der aus dem Filtrat durch Eindampfen erhaltene Rückstand wird in Acetonitril gekocht und ergibt die Verbindung 3- Fp : ca. 200⁰C.

Herstellung der Verbindung 4

1 mol i-Phenyl-pyrazolidin-3-on und 1 mol Phenylisocyanat werden in 1,5 1 Toluol gelöst und 8 h zum Rückfluss erhitzt.

Dann wird das Lösungsmittel unter vermindertem Druck abgezogen un-1 der verbleibende Rückstand aus Äthanol umkristallisiert, was die Verbindung 4 ergibt. Fp : 132°C.

GV.974

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Herstellung; der Verbindung ^

1 mol. 1-Phenyl-pyrazolidin-3-on und 1 mol p-Nitrophenylisocyanat werden in 3 1 Toluol gelöst und 4 h zum Rückfluss erhitzt. Das Reaktionsgemisch wird heiss filtriert. Das beim Abkühlen erhaltene kristalline Produkt hatte einen Fp von 182°C.

"^: Herstellung der Verbindung 6

1 mol i-Phenyl-pyrazolidin-3-on und Λ mol Äthylisocyanat werden in 1,5 1 Toluol gelöst und 8 h zum Rückfluss erhitzt. Nach dem Abkühlen wird das Reaktionsgemisch mit Hexan verdünnt. Der erhaltene Niederschlag wird aus Toluol/Hexan umkristallisiert. Fp : 135°G.

Herstellung der Verbindung 7

1 mol i-Phenyl-pyrazolidin-3-on und 1 mol Benzoylisocyanat wurden in Λ 1 Toluol am Rückflusskühler erhitzt. Das Reaktionsgemisch 15- wird abgekühlt und ergibt die feste Verbindung 7· Fp : 182⁰C.

Herstellung der Verbindung 8

1 mol 1-Phenyl-3,3'-dimethyl-pyrazolidin-3-on und 1 mol Benzoylisocyanat werden in 1 1 Toluol zum Rückfluss erhitzt. Das Reaktionsgemisch wird abgekühlt und ergibt die feste Verbindung 8. Fp : 163°C.

Herstellung- der Verbindung 9

1 mol Chloracetylchlorid wird zu 1,2 mol 1-Phenyl-pyrazolidin-3-on und 1,2 mol Pyridin, gelöst in 4 1 Benzol, gegeben. Nach

2 h Rückflusskochen wird das Reaktionsgemisch abgekühlt und mit Wasser gewaschen. Die Benzolschicht wird abgetrennt und das Benzol abgedampft. Der Rückstand wird in Essigester gelöst und durch Zugabe von Hexan wird die Verbindung 9 ausgefällt. Fp : 94°C.

Ein weiterer säureempfindlicher Reduktionsmittelvorläufer, der zur Verwendung gemäss der vorliegenden Erfindung geeignet _: ist und eine als Diäther maskierte Hydroxylgruppe enthält, besitzt die folgende Struktur :

^GV·⁹⁷⁴ 809830/0916

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0-CH CH₀

Diese Verbindung wird hergestellt durch Zugabe von Dihydropyran

(H C >) ^ ^VCH= CH

zu 4-Methoxy-Ά-naphthol, wie in der DT-OS 2 433 83I beschrieben.

Die Wasserstoffdonorverbindung (3) ist eine herkömmliche Quelle für labilen Wasserstoff, wie sie beispielsweise in der US-PS 3 881 930 beschrieben wird. Darin werden speziell Wasserstoffdonorverbindungen beschrieben, die ein Wasserstoffatom besitzen, welches an ein Kohlenstoffatom gebunden ist, woran auch das Sauerstoffatom einer Hydroxylgruppe und/oder das dreiwertige Stickstoffatom eines Aminsubstituenten gebunden ist.

Bevorzugte Wasserstoffdonorverbindungen (3)» denen Wasserstoff durch das genannte photobelichtete Photoreduktionsmittel entzogen werden kann, entsprechen der folgenden allgemeinen Formel

10 ^{H H} 11 R^IU_C -Z-C-R¹'

OH OH

worin bedeuten :

10 11
R und R , die gleich oder verschieden sein können, jeweils Wasserstoff, eine Kohlenwasserstoffgruppe einschliesslich einer geradkettigen, verzweigtkettigen und cyclischen Kohlenwassers toff gruppe, die substituiert sein kann, beispielsweise

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Alkyl, Hydroxyalkyl, Cycloalkyl oder Aryl oder eine Alkcxycarbonylgruppe, z.B. CpHc-O-CO-,

Z eine Einfachbindung, eine Ithinylengruppe R¹² E¹3

oder die Gruppe

ι ι

= G—y , worin η eine ganze Zahl, beispielsweise 1 und 2,

Ί 2 ^ Ί 5 ··

und R und R , die gleich oder verschieden sein können, jeweils Wasserstoff oder eine Alkylgruppe, z.B. Methyl, bedeuten oder zusammen Teil eines carbocyclischen oder heterocyclischen Rings, z.B. Phenylen, bilden.

Typische Beispiele solcher Wasserstoffdonorverbindungen sind in der folgenden Tabelle 2 aufgeführt.

Tabelle 2

Nummer der Verbindung	R¹⁰	Z	R¹¹	Siedepunkt (Sp) oder Schmelzpunkt Ci¹P) ⁰C
1	H	-	H	Sp 198
2	o-	-	H	Pp 67
3	H₃C-	-	H	Pp 189
4-	H-C t>	-	-OH₃	Sp 183
5	H	-C^C-	H	Fp 52-54-
6	H		H	Pp 112
7	HO(CH₂)^-	-	H	Sp 178/5 mm Hg
8	C_oH_c0C- 2 5 η 0	—	O₂H₅O-O- 0	Sp 280

Die Herstellung dieser Verbindungen ist dem Fachmann bekannt. Eine besonders geeignete Wasserstoffdonorverbindung ist Phenyl-1,2-äthandiol (Verbindung 2 der Tabelle 2).

Jede Verbindung, die durch photoinduzierte Wasserstoffabstraktion von einer Wasserstoffdonorverbindung (3) Reduktionsver-GV.974

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- 'yi -

mögen gegenüber der Tellurverbindung erhält, kann als Verbindung (2) des Photoreduktionsmittels verwendet werden.

Einen Überblick über Photoreduktionsmittel gibt Research Disclosure vom Oktober 1974, Seite 14 bis 17, Nr. 12617·

Zur erfindungsgemässen Verwendung bevorzugte Photoreduktionsmittel (2) sind aromatische Diketone, insbesondere 1,2- und 1,4-Benzochinone mit mindestens einem ankondensierten, aromatischen carbocyclischen Ring.

Beispiele für Photoreduktionsmittel sind in der folgenden Tabelle 3 zusammen mit ihrem ungefähren spektralen Empfindlichkeitsbereich aufgeführt.

Tabelle 3

Photoreduktionsmittel	Spektraler Empfindlich
	keitsbereich (nm)
9,1O-Phenanthrenchinon	200 - 400 - 500
	U.V. sichtbar
1,1'-Dibenzoylferrocen	4-00 - 600
1-Phenyl-1,2-propandion	400 - 500
2-Hydroxy-1,4-naphthochinon	400 - 500
Benzil	400 - 450
Furil	400 - 480
DiacetyIferrocen	400-450
Acetylferrocen	400 - 45O
1,4-Bis(phenylglyoxal)-benzol	400 - 500
o-Naphthochinon	bis ca. 560
4, 5-Pyrenchinon	bis ca. 53O
4-, 5,9,10-Pyrenchinon	bis ca. 550

Für die Reduktion der genannten Organotellurverbindungen sind 9,10-Phenanthrenchinon und 2-tert-Butylanthrachinon besonders zufriedenstellend.

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: 28Ü2666

Im folgenden werden Beispiele für Photoreduktionsmittel mit einem Empfindlichkeitsbereich bis etwa 4-00 nm und deshalb nur im Ultraviolett brauchbar angegeben : Benzophenon, Aceto phenon, 1,5-Diphenyl-1,3»5-pentantrion, Ninhydrin, 4,4'-Dibrombenzophenon, 2-tert-Butylanthrachinon und 1,8-Dichloranthrachinon.

Reduzierbare Organotellurverbindungen (1)_v die im erfindungs-..gemessen Verfahren gute Ergebnisse erzielen, entsprechen der folgenden allgemeinen Formel :

.1».; ^H _y

worin bedeuten :

R eine organische Gruppe, die über ein Kohlenstoffatom an_; das Telluratom gebunden ist und mindestens eine Carbonyl-

gruppe enthält,
χ 1, 2 oder 5 sowie
x ■+ y = 'Λ.

Solche Verbindungen werden ebenso wie die Herstellung in der DT-OS 2 456 132 beschrieben.

Eine bevorzugte Klasse von Bilderzeugungsstoffen sind Organotellurverbindungen entsprechend der folgenden allgemeinen lOrmel : '

(Ar-CO-CH₂)₂TeCl₂

worin Ar eine aromatische Gruppe, einschliesslich einer substituierten aromatischen Gruppe, z.B. Phenyl, Methoxyphenyl, Tolyl oder Naphthyl bedeutet.

Bis(phenacyl)-tellurdichlorid wird als Bilderzeugungsstoff zur erfindungsgemässen Verwendung in Kombination mit einem Photoreduktionsmittel, einem Wasserstoffdonor und mindestens einem der genannten säureempfindlichen Reduktionsmittelvorläufer be-

-J₀ yorzugt.

Die erfindungsgemässen photoempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien enthalten Photoreduktionsmittel, Tellurverbindung, //asser-

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stoffdonor und säureempfindlichen Eeduktionsmittelvorläufer im Gemisch in einem Bindemittelmedium.

Besonders geeignete Bindemittel zur Verwendung in den erfindungs· gemässen Aufzeichnungsmaterialien sind organische Polymermaterialien.

Typische Beispiele hierfür sind cyanäthylierte Stärken, Cellulosen und Amylosen mit einem Cyanäthyl-Substitutionsgrad von mindestens 2 f Polyvinylbenzophenon; Polyvinylidenchlorid; Polyäthylenterephthalat; Celluloseester und -äther, wie Celluloseacetat, Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Methylcellulose, Ithylcellulose, Hydroxypropylcellulose, Polyvinylcarbazol, Polyvinylchlorid ; Polyvinylmethylketdn, Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, Polyvinylmethyläther, Polyacryl- und Polymethacrylalkylester, wie Polymethylmethacrylat und PoIyäthylmethacrylat ; Copolymeres von Polyvinylmethyläther und Maleinsäureanhydrid; verschiedene Qualitäten von Polyvinylformalharzen wie die sogenannten 12/85, 6/96 E, 15/95 S, 15/95 E, B-79, B-98 und dergleichen, die unter dem Warenzeichen "POEMVAH" von der Monsanto Company, St. Louis, Mo., TJSA, vertrieben werden.

Besonders brauchbar ist Polyvinylformal 15/95 E, ein weisses, frei fliessendes Pulver mit einem Molekulargewicht im Bereich von 24 000 bis 40 000 und einem JOrmalgehalt, ausgedrückt als % des Polyvinylformals, von etwa 82 #, einer hohen thermischen Beständigkeit, ausgezeichneten mechanischen Dauerhaftigkeit sowie Beständigkeit gegen Materialien, wie aliphatische Kohlenwasserstoffe und mineralische, tierische und pflanzliche Öle.

Eine trockene photographische Beschichtung, die die oben erwähnten Bestandteile enthält, kann durch Lösen des Bindemittels oder des Gemisches von Bindemitteln in einem geeigneten inerten Lösungsmittel gebildet werden, als Dispersions- oder Lösungsmedium für die anderen Bestandteile dienen und aus der Beschichtungsmischung durch Abdampfen entfernt werden, so dass eine feste photographische Aufzeichnungsschicht auf einem geeignet

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gewählten !Träger zurückbleibt. Es kann jede bei photographischen Silberhalogenidmaterialien anzutreffende Art von Trägern verwendet werden, z.B. Papier und Kunststoffilm. ■

Das Photoreduktionsmittel wird im Aufzeichnungsmaterial in einer Menge verwendet, die vorzugsweise der Organotellurverbindung mindestens äquimolar ist. Die Schichtstärke der Organo--

tellurverbindung liegt vorzugsweise im Bereich von 1 bis 10 g/m Die Menge der Wasserstoffdonorverbindung beträgt vorzugsweise mindestens 50 Gew.-% der Organotellurverbindung.

Die Menge des säureempfindlichen Reduktionsmittelvorläufers ist nicht kritisch. Beträchtliche Verbesserungen der Empfindlichkeit werden mit Mengen zwischen 50 und 100 Gew.-% der Organotellurverbindung erzielt.

Die vorliegende Erfindung umfasst ein Aufzeichnungsverfahren, worin das oben definierte Aufzeichnungsmaterial verwendet wird. Dieses Verfahren umfasst als Schritte die bildweise Belichtung dieses Materials mit aktivierender elektromagnetischer Strahlung, für welche das Photoreduktionsmittel empfindlich ist, sowie das gleichmässige Erhitzen zur Entwicklung eines Tellurbildes in den photobelichteten Teilen des Materials.

Eine infonnationsweise UV-Belichtung wird normalerweise in Kombination mit einem aromatischen Diketon als Photoreduktionsmittel verwendet.

Die thermische Entwicklung geschieht vorzugsweise im Temperaturbereich von 80 bis 200⁰C und dauert im allgemeinen in Abhängigkeit von der Temperatur ca. 30 bis 300 s.

Die zur Erzeugung des Metallbildes erforderliche Hitze kann auf verschiedene Weise zugeführt werden. So kann das Aufzeichnungsmaterial durch Wärmetransport von heissen Körpern, z.B. Platten oder Walzen oder durch Kontakt mit einem warmen Gasstrom, z.B. Heissluft, entwickelt werden. Ausserdem kann das Metallbild mit Hilfe von Infrarot-Bestrahlung gebildet werden.

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Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung. Alle Prozentangaben sind, wenn nicht anders angegeben, Gewichtsprozent.

Beispiel 1 Kontrollmaterial C

2,4 g 2-tert-Butylanthrachinon, 3,8 g 1-Phenyl-1,2-äthandiol und 1,5 g Bis(phenacyl)-tellurdichlorid werden in 50 ml Methylenchlorid gelöst.

Die erhaltene Lösung wird mit 50 g einer 25 %igen Lösung von VINYLITE VAGH (Warenname der Union Carbide and Garbon, New York, N.Y., USA für ein Copoly(vinylchlorid/vinylacetat/vinylalkohol) (91:3=6) in Methylethylketon sowie 1 ml 2 tigern Silikonöl in Methylenchlorid als Beschichtungshilfe gemischt.

Die erhaltene Beschichtungsmischung wird durch Tauchbeschichtung auf einen Polyäthylenterephthalatfilm-Träger in einer Schicht-

stärke von 2 g/m der genannten Organotellurverbindung aufgebracht.

Die Beschichtung wurde unter Ventilation zuerst 4· h bei 30⁰C und daruaf 18 h bei 4-5⁰C getrocknet.

Das erhaltene photoempfindliche Aufzeichnungsmaterial C wird 100 s durch einen Stufenkeil mit der Konstanten 0,3 in der Belichtungsvorrichtung "SPEKTRAPROOF" (Warenname) der Siegfried Theimer GmbH, Obersatzbach, BRD, die mit einer bei einem Maximum von etwa 350 nm emittierenden 2000 Watt-Lampe ausgestattet ist, belichtet.

2-5 Das belichtete Material wird durch Iminütiges Gesamterhitzen auf 160⁰C entwickelt.

ErfindungsKemässes Aufzeichnungsmaterial A

Die -lerstellung des Aufzeichnungsmaterials A ist die gleiche wie die für das Kontrollmaterial C beschriebene, mit der Ausnahme, dass zusätzlich 1,4 g der säureempfindlichen Reduktionsmittelvorläuferverbindung 7 der Tabelle 1 in der Beschich-

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tungsmischung verwendet werden

Trocknung,· Belichtung und Erhitzen des Materials A geschehen wie für das Kontrollmaterial G beschrieben.

In der beiliegenden Figur 1 sind die Kurven für Dichte (D).

2 —2 gegen Photonbelichtungsenergie pro cm (erg.cm ) der auf

. . - dem Kontrollmaterial G (Kurve C) und dem Material A (Kurve A) erhaltenen Keilbilder wiedergegeben.

Aus. diesen Kurven wird geschlossen, dass das Material A mehr als, lOOmal empfindlicher ist als das_; Kontrollmaterial C.

ο Beispiel 2

ErfihdunKSKemässes Aufzeichnungsmaterial B

2,7 g 2-tert-Butylanthrachinon, 3,8 g 1-Phenyl-1,2-äthandiol ' und-1,5-gBis(phenacyl)-tellurdichlorid-werden in 40 ml Methylenchlorid gelöst.

Die erhaltene Lösung wird mit 50 g einer 12,5 #igen Lösung von VINYLITE VAGH (Warenname) in einem Gemisch von Dichlorffiethan und Dichlorethylen (50/50 Volumen) und 1 ml einer 2 %igen Lösung von Silikonöl in Methylenchlorid gemischt.

Zu diesem Gemisch werden 1,4 g der säureempfindlichen Eeduktionsmittelvorläuferverbindung 8 der Tabelle 1 gegeben und die Beschichtungslösung wird in einer Schichtstärke von 1,9 g

2
der Organotellurverbindung pro m . -auf einen Polyäthylenterephthalatträger aufgetragen. = -...:-""-.--

Trocknung, Belichtung und Erhitzen des erhaltenen Aufzeichnungsmaterials B geschehen wie für das Kontrollmaterial C aus Beispiel 1 beschrieben.

Die erhaltene Kurve für Dichte^ (D.) gegen erg.cm für das Material B ist in Figur 1 als Kurve B wiedergegeben. Die Empfindlichkeit des Materials B ist beträchtlich höher als die des Kontrollmaterials 0.

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Beispiel ff Erfindunpsgemässes Aufzeichnungsmaterial D

1,7 g 2-tert-Butylanthrachinon, 0,7 g Phenanthrenchinon, 3 g 1-Phenyl-1,2-äthandiol und 1,5 6 Bis(phenacyl)-tellurdichlorid werden in 50 ml Methylenchlorid gelöst.

Die erhaltene Lösung wurde mit 33 g einer 25 %igen Lösung von VINYLITE VAGH (Warenname) in Methylethylketon und 1 ml eines 2 %igen Silikonöls in Methylenchlorid gemischt.

Zu diesem Gemisch werden 1,6 g säureempfindliche Reduktionsmittelvorläuferverbindung 9 der Tabelle 1 gegeben und die BeSchichtungslösung wird auf einen Polyäthylenterephthalatträger in einer Schicht;
verbindung aufgetragen.

ρ träger in einer Schichtstärke von 1,9 g/m der Organotellur-

Trocknung und Belichtung des Materials D geschahen wie für Material 0 in Beispiel 1 beschrieben.

Die Entwicklung wurde durch Erhitzen des Materials D auf über 5 min durchgeführt.

Die erhaltene Kurve für Dichte (D) gegen erg.cm" für das Material D ist in Figur 2 als Kurve D wiedergegeben.

Beispiel 4- ErfindunpsKemässes AufzeichnunRsmaterial E

Die Herstellung des Aufzeichnungsmaterial E geschieht wie für das Material D beschrieben, mit Ausnahme der Verwendung von 2,2 g der säureempfindlichen Reduktionsmittelvorläuferverbindung 2 aus Tabelle 1 anstelle der 1,6 g der Verbindung 9·

Die Beschichtung wird in einer Schichtstärke von 2 g/m der Organotellurverbindung durchgeführt.

Trocknung, Belichtung und Entwicklung geschehen wie in Beispiel 3 beschrieben.

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Die erhaltene Kurve für Dichte (D) gegen erg.cm für das Material E ist in Figur 2 als Kurve E dargestellt.

Beispiel 5 ErfindunKSKemässes Aufzeichnungsmaterial F

Die Herstellung des Aufzeichnungsmaterials F geschieht wie für das Material D beschrieben, mit Ausnahme der Verwendung von 4- g der säureempfindlichen Reduktionsmittelvorläuferverbindung 3 aus Tabelle 1 anstelle von 1,6 g der Verbindung 9·

2 Die Beschichtung wird in einer Schichtstärke von 2 g/m der Organotellurverbindung durchgeführt.

Die Trocknung und Belichtung geschehen wie in Beispiel 3 beschrieben· Die Entwicklung geschieht durch 5minütiges Gesamterhitzen des belichteten Materials F bei 190⁰C.

Die erhaltene Kurve für Dichte (D) gegen erg.cm" für das Material F ist in Figur 3 als Kurve F wiedergegeben.

Beispiel 6
Kontrollmaterial C -

Die Herstellung des Kontrollmaterials C. ist die gleiche wie für das Material D beschrieben, mit der Ausnahme der Abwesenhext des säureempfindlichen Reduktionsmittelvorlaufers.

2 Die Beschichtung wird in einer Sehichtstärke von 1,9 g/m der Organoteliurverbindung durchgeführt.

Trocknung und Belichtung geschehen wie in Beispiel 1 beschrieben. Der Streif en CJj wird 5 min bei 170⁵C hitzeentwickelt, der Streifen Cj,' 5 min bei 19O⁰G und der Streif en G^' · 5 min bei 160⁰C.

Die Kurve für Dichte (D) gegen Photonenbelichtungsenergie pro cm*" (erg.cm" ), die für die Kontrollstreifen CJL erhalten wird, ist in Figur 2 als Kurve GJJ wiedergegeben, die für Kontrollstreifen CjJ als Kurve G^' in Figur 3 und die für Kontrollstreifen C"¹ als Kurve CJ," in Figur 4.

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■•>f-ispiel 7

Srfindungsgemässes Aufzeichnungsmaterial &

Die Herstellung des Aufzeichnungsmaterials G geschieht wie für Material D beschrieben, mit Ausnahme der Verwendung von 1 g des säureempfindlichen Reduktionsmittelsvorläufers 4- der Tabelle 1 anstelle von 1,6 g der Verbindung 9·

Trocknung und Belichtung geschehen wie in Beispiel 5 beschrieben. Die Entwicklung wird durch 5minütiges Gesamterhitzen des belichteten Materials G bei 160⁰G durchgeführt.

_2 Die erhaltene Kurve für Dichte (D) gegen erg.cm für das Material G ist in Figur 4- als Kurve G dargestellt.

Beispiel 8
ErfindunKSKemässes Aufzeichnungsmaterial H

Die Herstellung des Aufzeichnungsmaterials H geschieht wie für das Material D beschrieben, mit Ausnahme der Verwendung von 1,1 g des säureempfindlichen Reduktionsmittelvorläufers 5 aus Tabelle 1 anstelle von 1,6 g der Verbindung 9· Die Beschichtung

wird in einer Schichtstärke von 2 g/m der Organotellurverbindung durchgeführt.

Trocknung und Belichtung geschehen wie in Beispiel 3 beschrieben. Die Entwicklung geschieht durch 5minütiges Gesamterhitzen des belichteten Materials H bei 160⁰C.

Die erhaltene Kurve für Dichte (D) gegen erg.cm" für das Material H ist in Figur 4- als Kurve H wiedergegeben.

Beispiel 9 ErfindunKsgemässes Aufzeichnungsmaterial J

Die Herstellung des Aufzeichnungsmaterials J geschieht wie für Material D beschrieben, mit der Ausnahme der Verwendung von GV. 974-

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0,8 g des säureempfindlichen Reduktionsmittelvorlaufera 6 der Tabelle 1 anstelle von 1,6 g der Verbindung 9·

Die Beschichtung wird mit 2 g/m der Organotellurverbindung durchgeführt.

Trocknung und Belichtung geschehen wie in Beispiel 3 beschrieben. Die Entwicklung wird durch 5minütiges Gesamterbitzen des belichteten Materials J bei 16O⁰C durchgeführt.

Die erhaltene Kurve für Dichte (D) gegen erg.cm für das Material J ist in Figur 4 als Kurve J wiedergegeben.

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8 0 9 8 3 0/0916

Claims

Patentansprüche

y. Photoempfindliches Aufzeichnungsmaterial, dadurch gekennzeichnet, dass es im Gemisch in einem Bindemittelmediuia enthält :

(1) als bilderzeugenden Stoff eine Organotellurverbindung, welche, direkt an ein Telluratöm gebunden, Halogen, sowie mindestens einen mindestens eine Carbonylgruppe enthaltenden organischen Substituenten enthält, (2) ein Photoreduktionsmittel,

(5) eine Wasserstoffdonorverbindung, der Wasserstoff durch das photobelichtete Photoreduktionsmittel entzogen werden kann, sowie
(4) einen organischen Reduktionsmittelvorläufer, aus dem durch Wirkung einer Säure eine zur Reduktion der Organotellurverbindung befähigte Verbindung freigesetzt werden kann.

2. Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der organische Reduktionsmittelvorläufer die beschriebenen Eignungsversuche A und B erfolgreich durchläuft.

5. Material nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Organotellurverbindung der folgenden allgemeinen Formel entspricht :

worin bedeuten :

R eine organische Gruppe, die über 1 Kohlenstoffatom an das Telluratom gebunden ist und mindestens eine Carbonylgruppe enthält,
xi, 2 oder 3 und

χ + y s 4.

4. Material nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Organotellurverbindung der folgenden allgemeinen Formel :

GV.974

809 8 3 0/0916 _0RIGinal inspected

2802£86

entspricht, worin Ar eine aromatische Gruppe, einschlieeslich einer substituierten aromatischen Gruppe bedeutet.

5· Material nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Organotellurverbindung Bis(phenacyl)-tellurdichlorid ist.

6. Material nach einem der vorhergehenden Ansprüche,, dadurch gekennzeichnet, dass das Photoreduktionsmittel ein aromatisches Diketon ist.

7· Material nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass das aromatische Diketon 9,10-Phenanthrenchinon oder 2-tert-Butylanthrachinon ist.

8. Material nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Wasserstoffdonorverbindung ein Wasserstoffatom aufweist, welches an ein Kohlenstoffatom gebunden ist, woran ebenfalls das Sauerstoffatom einer Hydroxylgruppe und/oder das 3-wertige Stickstoffatom eines Aminsubstituenten gebunden sind.

9· Material nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Wasserstoffdonorverbindung der folgenden allgemeinen Formel entspricht :

10 ^{H H} 11 E ^IU_G - Z - C - R' '

I I

OH OH

worin bedeuten :

10 11
R und R , die gleich oder verschieden sein können, jeweils Wasserstoff, eine Kohlenwasserstoffgruppe, einschliesslieh eimer geradkettigen, verzweigtkettigen und cyclischen Kohlenwasserstoffgruppe, die substituiert sein kann, oder eine Alkoxycarbonylgruppe,

GV.974

809830/0916 original inspected

■ 3 ■'
- 22 -

28 O 2 6b b

Z eine Einfachbindung., eine Ethinylgruppe ^C0^

.B¹⁸H¹' .

oder die Gruppe ^-C = 0 ■ , worin η eine ganze Zahl

12 13
"bedeutet und R und R ■ , die gleich oder verschieden sein können, jeweils Wasserstoff oder eine Alkylgruppe bedeuten oder zusammen Teile eines carbocyclischen oder heterocyclischen Rings sind.

10. Material nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Wasserstoffdonorverbindung Phenyl—1,2-äthandiol ist.

11. Material nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der organische Reduktionsmittelvorläufer eine para- oder ortho—Dihydroxyarylverbindung ist, von welcher mindestens eine der Hydroxylgruppen verestert wurde und die gegebenenfalls verbleibende Hydroxylgruppe veräthert sein kann.

12. Material nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekenn- ^c zeichnet, dass der organische Reduktionsmittelvorläufer sich von einem Pyrazolidin-3-on-Reduktionsmittel ableitet, worin das aktive Wasserstoffatom in 2-Stellung zeitweilig durch Reaktion mit einem Isocyanat oder mit einem Säurehalogenid blockiert ist.

15· Material nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Bindemittelmedium ein organischer polymerer Stoff ist.

14. Material nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass es die Verbindungen (1) bis (4) in einer Schicht auf einem Träger enthält.

15· Material nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Organotellurverbindung im Material

2 in einer Schichtstärke von 1 bis 10 g/m enthalten ist*

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ORIGINAL INSPECTED

2602666

16. Material nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Photoreduktionsmittel in mindestens äquimolarer Menge zur Organote.llurverbindung enthalten ist. ·

17· Material nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Wasserstoffdonorverbindung in einer Menge von mindestens 50 Gew.-# der Organotellurverbindung enthalten ist.

18. Material nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die organische Eeduktionsmittelvorläuferverbindung in einer Menge zwischen 50 bis 100 Gew.-% der Organotellurverbindung enthalten ist.

19· Aufzeichnungsverfahren, dadurch gekennzeichnet, dass ein photoempfindliches Aufzeichnungsmaterial nach einem der Ansprüche 1 bis 18 bildweise mit elektromagnetischer Strahlung, für die das Ehotoreduktionsmittel empfindlich ist, belichtet und das belichtete Material zum Entwickeln eines Tellurbildes in den photobelichteten Gebieten gesamt erhitzt wird.

20. Aufzeichnungsverfahren nach Anspruch 19, dadurch gekenn- 2.0 zeichnet, dass das Gesamterhitzen im Temperaturbereich von 80'bis 200⁰C durchgeführt wird.

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