DE2045056C - Lichtempfindliches Gemisch und seine Verwendung in photographischem Aufzeichnungsmaterial - Google Patents
Lichtempfindliches Gemisch und seine Verwendung in photographischem AufzeichnungsmaterialInfo
- Publication number
- DE2045056C DE2045056C DE19702045056 DE2045056A DE2045056C DE 2045056 C DE2045056 C DE 2045056C DE 19702045056 DE19702045056 DE 19702045056 DE 2045056 A DE2045056 A DE 2045056A DE 2045056 C DE2045056 C DE 2045056C
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- compound
- organic
- light
- sensitizing
- kosar
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 title description 8
- 231100000489 sensitizer Toxicity 0.000 claims description 17
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 15
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 claims description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000000975 dye Substances 0.000 claims description 6
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 230000001235 sensitizing Effects 0.000 claims description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 4
- 230000002378 acidificating Effects 0.000 claims description 4
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 claims description 4
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 claims description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 3
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 231100000202 sensitizing Toxicity 0.000 claims description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000003595 spectral Effects 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- -1 cyclic radical Chemical class 0.000 description 15
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 7
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002301 Cellulose acetate Polymers 0.000 description 3
- UGZICOVULPINFH-UHFFFAOYSA-N acetic acid;butanoic acid Chemical compound CC(O)=O.CCCC(O)=O UGZICOVULPINFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- GGMQZPIDPNAGFP-UHFFFAOYSA-N 1,1-dibromo-1,2,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C(Cl)(Br)Br GGMQZPIDPNAGFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UESSERYYFWCTBU-UHFFFAOYSA-N 4-(N-phenylanilino)benzaldehyde Chemical compound C1=CC(C=O)=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 UESSERYYFWCTBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003512 Claisen condensation reaction Methods 0.000 description 2
- AQRYNYUOKMNDDV-UHFFFAOYSA-M Silver behenate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O AQRYNYUOKMNDDV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 2
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 2
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POJPQMDDRCILHJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,2-hexabromoethane Chemical compound BrC(Br)(Br)C(Br)(Br)Br POJPQMDDRCILHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGVPXEPSTZMAFF-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2-pentabromoethane Chemical compound BrC(Br)C(Br)(Br)Br OGVPXEPSTZMAFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVJRAJZMOVQFEC-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetrabromo-5,6-dimethylbenzene Chemical group CC1=C(C)C(Br)=C(Br)C(Br)=C1Br WVJRAJZMOVQFEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTEKOJQFKOIXMU-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(trichloromethyl)benzene Chemical group ClC(Cl)(Cl)C1=CC=C(C(Cl)(Cl)Cl)C=C1 OTEKOJQFKOIXMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-Hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQMUGNMMFTYOHK-UHFFFAOYSA-N 1-methoxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(OC)=CC=CC2=C1 NQMUGNMMFTYOHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUIVKBHZENILKB-UHFFFAOYSA-N 2,2-Dibromo-2-cyanoacetamide Chemical compound NC(=O)C(Br)(Br)C#N UUIVKBHZENILKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSWSUDFFJVJMLG-UHFFFAOYSA-N 2,2-dibromo-1,3-diphenylpropane-1,3-dione Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(Br)(Br)C(=O)C1=CC=CC=C1 GSWSUDFFJVJMLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWXBJMWVQGJFJE-UHFFFAOYSA-N 3-[4-(N-phenylanilino)phenyl]prop-2-enal Chemical compound C1=CC(C=CC=O)=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WWXBJMWVQGJFJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTGCZBEERTTDQ-UHFFFAOYSA-N 4-Methoxy-1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(OC)=CC=C(O)C2=C1 BOTGCZBEERTTDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- 125000002373 5 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- NTPLXRHDUXRPNE-UHFFFAOYSA-N Acetanisole Chemical compound COC1=CC=C(C(C)=O)C=C1 NTPLXRHDUXRPNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFVTZJHWGZSXFD-UHFFFAOYSA-N Biphenylene Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C2=C1 IFVTZJHWGZSXFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUNNTRBJLDQJMD-UHFFFAOYSA-N BrC(Br)(Br)C1=C(C(=NN=N1)C(Br)(Br)Br)C(Br)(Br)Br Chemical compound BrC(Br)(Br)C1=C(C(=NN=N1)C(Br)(Br)Br)C(Br)(Br)Br HUNNTRBJLDQJMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M CHEMBL593252 Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OKJPEAGHQZHRQV-UHFFFAOYSA-N Iodoform Chemical compound IC(I)I OKJPEAGHQZHRQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- KNSXNCFKSZZHEA-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C KNSXNCFKSZZHEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 description 1
- REQPQFUJGGOFQL-UHFFFAOYSA-N dimethylcarbamothioyl N,N-dimethylcarbamodithioate Chemical compound CN(C)C(=S)SC(=S)N(C)C REQPQFUJGGOFQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229960003172 iodoform Drugs 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atoms Chemical group N* 0.000 description 1
- 230000003000 nontoxic Effects 0.000 description 1
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- IJAPPYDYQCXOEF-UHFFFAOYSA-N phthalazin-1(2H)-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NN=CC2=C1 IJAPPYDYQCXOEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003097 polyterpenes Polymers 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000001412 tetrahydropyranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Description
j N - Ar - (CH = CH)n - C - R ^f n^len'LaV-rungsbJdmgungen vor der \
'. D / wendung der lichtempfindlichen Blatter oder K;
■ R; sind diese Sensibilisatoren jedoch meist wenig su\-
ist, in der R einen aromatischen oder hetero- Zahlreiche dieser bekannten Sensibilisatoren u
cyclischen Rest bedeutet, der keine elektronen- 5 hahcn einc basische (iruppe. /B. eine Dimeth,
anziehenden Substituenten trägt. R1 und R2 aminogruppe. die nut den organischen Halogen-
entweder aromatische Reste bedeuten oder {,indungen eine chemische Umsetzung eir-eht * .-
miteinander verbunden zusammen mit dem zu cjncr Verringerung oder dem Verlust an Ud-
Stickstoffatom einen 5- oder 6gliedrigen empfindlichkeit führt. /. B. durch vorzeitige Sa υ u
heterocyclischen Rest bilden, Ar einen zwei- 3 bildung. Andere bekannte Sensibilisatoren, wie di ■
wertigen aromatischen Rest darstellt und CyaninfarbstoiTe, sind Salze starker Säuren m
η den Wert 1 oder 2 hat und wobei das Keton schwachen Basen die auf Grund ihrer sauren Reaf
keine Aminogruppen enthält, die basischer tjon mjt siiurCemplindlichen Bestandteilen in den,
sind als der Diphenyiaminorest. ljchtempfindi.chen System während der Lagerung
2. LtchtempfindlichesGem.sch nach Anspruch I. reagieren. Da 1 arbstoflc in ,der &j^"h a £"
dadurch gekennzeichnet, daß der Sensibilisator meinen }\^η^^™ηξ£Ά™^ für Bc-
und die organische Halogenverbindung im Mol- lassen sich diese ^^'^.^^^hfeiche Sensib.-verhältnis
1:20 bis 2: 1 vorhanden sind. sch.chtungssysteme vcra^"^ ^J^ Wege her
3. Verwendung des lichtempfindlichen Ge- 40 lisatoren können ™™1^^£%Z davon,
misches gemäß Anspruch 1 und 2 in photograph.- gestellt und gerem.g *ζ*^ gieren, sind sie
schem Aufzeichnung.materia«. «^^S^scUilng zu remigen
^^S^g
„nd /u lagern. Die gelben Azoverbindungen sind
45 hinsichtlich ihrer Lichtabsorption beschrankt, und
in zahlreichen Fällen scnsibilisierrn sie organische
Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches Ge- Halogenverb.ndungen nur ungenügend
misch aus einer photulytisch spaltbaren organischen L chtcmpfindl.che Gemische. ^J'e "neph£ y ««-h
Halogenverbindung mit einem polarographischen spaltbare organische Haloge '^Af"" ^
Halbwellen-Reduktionsnotential oberhalb etwa 50 polarographischen Ha ^"«"-^/^
-0,9 Volt und einer sensibilisierend wirkenden von oberhalb etwa -09 Volt und_ eine
Ν,Ν'-disubstituierten p-Aminoarylvinylverbindung substituierte Ρ-Α™'"0">!ν™^^™7^^5
sowie gegebenenfalls einer photopolymerisierbaren sind bekannt aus der d™«^cn Auslegschri«
Verbindung oder gegebenenfaUs einer im sauren l 220 732. Lichtempfindliche Gern sehe, d.c eine pho
Medil iarbänderide'n Verbindung und seine Ver- 55 tolytisch spaltbare organische »^«Jg^^f
wendung in photographischem . Aufzeichnungs- ein aminoarylsubst.tuiertes Keton und eine larb
material liefernde Leucoverbindung enthalten, sind aus der
Organische Halogenverbindungen werden in der britischen Patentschrift 1 161058 bekannt Schheßl.ch
Reprographie in weitem Umfang zur Herstellung sind aus der deutschen Auslegeschnft 1 175
νοϊ lichtempfindlichen Aufzeichnungsmater.alien ver- 6o lichtempfindliche Gemische bekannt,die eine pho owendet
Diese Verbindungen können als Photo- lytisch spaltbare organische Halogenverbindung eine
initiatoren für die nach einem radikalischen Mechanis- photopolymerisierbare V.nylverbindung und einen
mus verlaufende Photographic (ζ. B. Auskopier- und Sensibilisator enthalten. ivMpmnfindiieh«
Ausbleichsysteme), die Photopolymerisation und Abgabe der_ Erfindung ist ein hchte^findhch«
photoinduzierte säurekatalysierte Reaktionen der ver- 65 Gemisch der eingangs genannten Zusammensetzung
schiedensten Art eingesetzt werden. Mit diesen orga- anzugeben, das lagerstabil ist und es; ©»la™J; ^e
nischen Halogenverbindungen können die verschie- organische Halogenver'undung bei grolieren weuendensten
lichtempfindlichen Produkte Tür Druck-, längen photolytisch zu spalten.
Der Gegenstand der Erfindung geht von einem lichtempfindlichen Gemisch aus
(a) einer photolytisch spaltbaren organischen Halogenverbindung mit einem polarographischen
Halbwellen-Reduktionspotential oberhalb etwa etwa -0,9 Volt und
(b) einer sensibilisierend wirkenden N,N'-disubstituierten
p-Aminoarylvinylverbindung sowie gegebenenfalls einer photopolymerisierbaren Verbindung
oder gegebenenfalls einer im sauren to Medium farbändernden Verbindung aus und
ist dadurch gekennzeichnet, daß die sensibili
sierend wirkende Verbindung mindestens ein ungesättigtes Keton der allgemeinen Formel
R1 O
N-Ar- (CH CH)1, ( R
20
;-! in der R einen aiomatischcn oder heteroe
iischen Rest bedeutet, der keine elektronen-.i
η/lohenden Substituenten tragt. R, und R,
entweder aromatische Reste bedeuten oder mit
einander verbunden zusammen mit dem Sticks'.ulfatom
einen 5- oder 6gl;?drigen heterocyclischen
R~st bilden. Ar einen zweiwertigen aromatischen Rest darstellt und η den Wert I oder 2
hat und wobei das Keton keine Aminogruppen cithält, die basischer snd als der Diphenylnminorest.
In der vorstehend angegebenen allgemeinen Formel
für die ungesättigten Ketone können die Reste R1
und R2 z. B. eine Phenyl- oder Naphthylgruppe oder einen anderen Arylrest bedeuten. Als heterocyclische
Reste kommen z. B. (arbazol-, Phenothia/in- und Phenoxazinreste in Frage. Der zweiwertige
aromatische Rest Ar ist vorzugsweise eine Phenylen- oder Diphenylengruppe. Die verschiedenen
Reste des ungesättigten Ketons können auch substituiert sein, sofern nur die erhaltene Verbindung keine
Aminogruppen enthält, die basischer sind als der Diphenylaminorest. Der Rest R enthält vorzugsweise
keine Elektronen anziehenden Gruppen, wie die Nitro- oder Azogruppe, er kann jedoch Elektronen
abgebende Gruppen enthalten, wie Alkylreste, Arylreste, Äther- oder Thioäthergruppen, Halogenatome
oder sekundäre aromatische Aminogruppen.
Urgesättigte Ketone der vorstehenden allgemeinen Formel, in der η den Wert 2 hat, können durch
Claisen-Kondensation von p-Diphenylaminozimtaldehyd mit Ketonen erhalten werden, die eine benachbarte Methyl- oder Methylengruppe enthalten.
Ungesättigte Ketone der vorstehenden allgemeinen Formel, in der π den Wert 1 hat, können durch Basen
katalysierte Claisen-Kondensation von p-Diphenylaminobenzaldehyd
mit Ketonen erhalten werden, die eine benachbarte Methyl- oder Methylengruppe enthalten. Hierbei werden 1-substituierte 3-(p-Diphenylaminophenyl)-2-propen-1
-on-Verbindungen erhalten. Die ungesättigten Ketone sind Farbstoffe, die keine leicht verfügbaren Elektronen aufweisen
und daher in Gegenwart von basenempfindlichen Stoffen stabil sind. Diese ungesättigten Ketone sind
z.B. in der belgischen Patentschrift 710 239 beschrieben.
Das Mengenverhältnis vom Sensibilisator zur organischen Halogenverbindung kann in verhältnismäßig
breiten Grenzen schwanken, zur Erzielung einer maximalen Empfindlichkeit liegt das Molverhältnis
jedoch vorzugsweise bei etwa 1:20 bis 2:1.
Unter dem Einfluß von Licht photolytisch spaltbare organische Halogenverbindungen sind bekannt. Die
erfindungsgemäß bevorzugt verwendeten organischen Halogenverbindungen sind bei Raumtemperatur feste
oder flüssige Stoffe mit einem polarographischen Halbwellen-Reduktionspotential von etwa -0,9 Volt.
Typische Beispiels für diese Halogenverbindungen «sind Hexabromäthan, Tetrabrom-o-xylol, Dibromtetrachloräthan,
Dibromtrichloräthan, Pentabromäthan, Dibromcyanacetamid, tris-Tribrommethyltriazin,
Dibromdibenzoylmethan, Trijodmethan, Tetrabromdinuoräthan,
Tribromchmaldin und Hexachlorp-xylol.
Durch die Erfindung wird erreicht, daß die organische
Halogenverbindung bei höheren Wellenlängen in lösung photolytisch gespalten werden. Die erfindungsgemäß
verwendeten Sensibilisatoren sind gegenüber den organischen Halogenverbindungen im
Dunkeln unter Normalbeding'.'.nger praktisch inert,
d. h.. sie sinti während mindestens 3 Monaten, im
allgemeinen mindestens 6 Monaten, stabil. Die als Sensibilisatoren verwendeten ungesättigten Ketone
enthalten keine Alkylaminogruppen. die mit den organischen Halogenverbindungen unter Lichtausschluß
reagieren können.
Die erfindungsgemäß verwendeten Sensibilisatoren
sind in organischen Lösungsmitteln, wie Aceton. Methyläthylketon oder Athylenglykolmonomethyläthcr
löslich, sie lassen sich leicht herstellen und reinigen. Infolge der hohen Wirksamkeit dieser Sensibilisatoren
können wender teure und ungiftige
organische Halogenverbindungen verwendet werden.
Beim Beschichten auf ein Substrat zusammen mit einem monomeren Acrylsäureester werden bei der
Belichtung freie Radikale gebildet, welche die Polymerisation des Monomers initiieren. Klebrige polymerisierte
Bereiche werden durch Entwicklung mit einem Tonerpulver nicht klebrig gemacht und geben
das Bild wieder. Die nicht polymerisierten und unbelichteten Bereiche können auf einfaches Papier
übertragen und anschließend mn einem Pulver entwickelt werden, wobei man eine Kopie des ursprünglichen
Lichtbildes erhält. Das nicht polymerisierte Monomer kann auch auf eine hydrophile Metalloberfläche
übertragen und anschließend unter Bildung einer Offset-Druckform polymerisiert werfen. Eine
weitere Anwendungsmöglichkeit der bei der Photolyse gebildeten Säure besteht im Ausbleichen von
Farbstoffen, wobei man von transparenten Kopiervorlagen Direktpositive mit hoher Auflösung erhält.
Das lichtempfindliche Gemisch der Erfindung kann auch zusammen mit Tetrahydropyranylderivaten aromatischer
Hydroxy- und Aminoverbindungen verwendet werden. Die bei der Photolyse gebildete
Säure zersetzt diese Derivate unter Bildung der entsprechenden freien Hydroxy- oder Aminoverbindungen,
die Silber- oder andere Metallkomplexe unter Bildung sichtbarer Bilder reduzieren können.
Xerographisch verarbeitbare lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterialien,
die photolytisch spaltbare organische Halogenverbindungen enthalten, können ebenfalls mit den erfindungsgemäß verwendeten ungesättigten
Ketonen sensibilisiert werden. Beispiele
für lichtempfindliche Aufzeichnungsmaterialien dieser Art sind aus der USA.-Patentschrift 3 081 165 bekannt,
wo ihre Verwendung bei xerographischen Bildaufzeichnungsverfahren beschrieben ist, die als
Elektrochemographie bezeichnet werden. Bei diesem Verfahren wird ein elektrostatisches latentes Bild
durch Belichtung einer dektrochemographisch empfindlichen Oberfläche oder- Schicht unter Bildung
eines elektrisch leitenden latenten Bildes erzeugt, das ein elektrostatisch latentes Bild durch selektive
Ableitung einer elektrostatischen Oberflächenladung bildet. Dieses Verfahren verläuft entweder einmal
oder mehrmals, ohne daß es nötig ist, jedesmal erneut bildmäßig zu belichten.
Beschichtungen, Schichten, Filme oder Bahnen, die mit dem lichtempfindlichen Gemisch der Erfindung
hergestellt werden, wobei normalerweise ein Bindemittel zugesetzt wird, sind ungewöhnlich stabil
und können unter normalen Tempeiaturbedingungen lange Zeit gelagert werden. Die erhalteren Arfzeichnungsmaterialien
absorbieren Licht im sichtbaren Spektralberei':h.
Nachstehend wird eine Vorschrift zur Herstellung der erfindungsgemäß verwendeten Sensibilisatoren
gegeben.
Eine Lösung von 37,5 g (0,137MoI) p-Diphenylaminobenzaldehyd
(J. Organic C'hem. 30 (1965), S. 3717) und 23,0 g (0,153 Mol) p-Methoxyacetophenon
in 200 ml 95%igem Äthanol wird bei 35" C
tropfenweise unter Rühren mit 15 ml 50%iger Kalilauge (0,170 Mol) versetzt. Nach 16- bis 18stündigem
Rühren werden die hellgelben Kristalle abfiltriert, mit Äthanol gewaschen und an der Luft getrocknet.
Es werden 51,5 2 (92,5% der Theorie) rohes l-(p-Methoxyphenyl)-3-(p-diphenylarii:nophenyl)-2-propen-1
-on vorn F. 140 bis 145 C erhalten. Das Produkt wird in heißer' Benzol gelöst, mit Aktivkohle behandelt,
filtriert und mit der Hälfte seines Volumens Hexen versetzt und auskristallisieren gelassen. Ausbeute
39,0 g (70% der Theorie) F. 146 bis 147° C.
Nach dem vorstehend beschriebenen Verfahren werden die in Tabelle I aufgerührten Sensibilisatorfarhstofi'e
hergestellt:
Fortsetzung
-=/ . R |
Scbrop·, | 1C | λ^ΟΗ A | |
217 bis | 218 | 412 | ||
O | ||||
OCH3 | ||||
<> | - OCH3 | 131. bis | 134 | 405 |
L* | ||||
-CH3 | 149 bis | 150 | 402 | |
CH3 |
Unter Verwendung der in Tabelle 1 aufgeführten Sensibilisatoren werden lichtempfindliche Beschichtungsmassen
hergestellt und in üblicher Weise auf einen Polyester-Schichtträger in einer Stärke von
0,0762 mm aufgetragen.
5gewichtsprozentige Lösung von Celluloseacetat-butyrat in Aceton (26% Butyrylgruppen,
20,5% Acetylgruppen.
2,5% Hydroxylgruppen;
F. 215 bis 220 C) 3,0 g
1 -(2-Tetrahydropyranyloxy)-
4-methoxynaphthalin 0,02 g
Dibromtetrachloriithan 0,01 g
Sensibilisator 0,005 g
CH = CH-C-R
N(C6H5J2
SCH,
OCH3
Schmp., | C | A ma* A |
110 bis | 112 | 425 |
151 bis | 152 | 423 |
148 bis | 149 | 420 |
146 bis | 147 | 413 |
Nach dem Trocknen werden Proben der lichtempfindlichen Aufzeichnungsmaterialien mit einer
Wolframlampe durch ein Glasfilter belichtet, das Licht der Wellenlänge von mehr als 390 nm hindurchläßt.
Nach der Belichtung werden die belichteten Proben Fläche an Fläche mit einer Rezeptorfolie
(Bildempfangsmaterial) zusammengebracht, die mit einer Masse folgender Zusammensetzung beschichtet
ist:
55 Bestandteile
Silberbehenat
Phthalazinon-Toner
2,6-Di-tert-butyl-4-methylphenol Polyvinylbutyral (Bindemittel) ..
Zinkoxid
Polyterpenharz
Gewichtsteile
12,6
5,2
2,2
19,8
50,0
10,0
Hierauf werden die belichtete Probe und die Rezeptorfolie zusammen etwa 10 Sekunden auf HO0C erhitzt.
Das in Freiheit gesetzte 4-Methoxy-l-naphthol bewirkt eine selektive Reduktion des Silberbehenats
in den belichteten Bereichen. Man erhält ein dichtes
die für jede Beschichtung notwendig ist, um eine
Silberbilddichte von etwa 1 auf der Rezeptorfolie
zu erhalten. Dies zeigt die Zunahme der Empfindlichkeit gegenüber der Kontroliprobe ohne Sensibilisator an.
Kontrollversuch
kein Farbstoff
kein Bild bei 5 780000 (540000)
107 600 (10 000)
(C6Hs)2N -<
>-CH = CH-CO
jy \—γη = γη — co
CH
SCH3
= CH — CO-<f >-OCH,
160000 160000 160000
(15 000) (15000) (15000)
(C6Hs)2N
.OCH,
530000 (50000)
430000 (40000)
(C6Hs)2N ~/~\- CH = CH - CO -\~V CH3
320000 (30000)
CH,
Aus folgenden Bestandteilen wird eine Beschichtungslösung hergestellt:
Celluloseacetat-butyrat
(26% Butyrylgruppen,
20.5% Acetylgruppen,
2,5% Hydroxylgruppen;
F. 215 bis 22OC) «.75 g
aminophenyl)-2-propen-l-on
0.050 g
l,3.5-Tris-<tribrommethyl)-s-triazin 0.375 g
Aceton 50 ml
55
te
Die erhaltene Lösung wird im Dunkeln in einer Stärke von 0,0762 mm auf eine Polyesterfolie gleicher
Stärke aufgetragen. Die getrocknete, klebrige Beschichtung wird mit einer 0,025 mm starken PoIyesterfolie kaschiert und mit einer Wolframlampe
einer Beleuchtungsstärke von 43000 bildmäßig belichtet. Danach wird der Schutzfilm abgezogen und
die pbotopolymerisiertc Folie mit einem Tonerpulver
bestäubt und bei 150" C geschmolzen. Man erhält
eine Positivkopie des Originals.
Aus folgenden Bestandteilen wird eine Beschichtungslösung hergestellt:
(hergestellt nach USA.-Patent
2 909 520) 1,0 g
(Beispiel 8) 0,5 g
1 -(p-Methoxypheny I }-3-(p-dimethyl-
aminophenyl)-2-propen-l-on 0,01 g
Aceton 10 ml
Die erhaltene Lösung wird im Dunkeln auf einen PolyesterSlm in einer Stärke von 0,025 mtn aufgetragen. Nach Kontaktbelichtung durch ein Negativ
im Abstand von 15,24 cm von einer Photolampe während 10 Sekunden erhält man eine grüne Negativkopie des Originals, die durch 2minutiges Erhitzen
auf 1500C lichtunempfindlich gemadit werden kann.
2W084/42I
«i
Claims (1)
1. Lichtempfindliches Gemisch aus voV Halogenradikalen, wie Brom- oder Chlorrad.-
. , . . 5 " ';6 . ii;„.CÄ-„««fr<ili-ii»r«tnrpn sind und
(a) einer photolytisch spaltbaren organischen kalen, die starke Wasser
Halogenverbindung mit einem polarographi- daher in Gegenwart von W
sehen Halbwellen-Reduktionspotential ober- bilden. Ihre Verwendung
halb etwa-0,9 Volt und verfahren ist von J. Kosar
Cb) einer sensibilisierend wirkenden N.N'-disub- »Chemistry and Application öl
stituierten p-Aminoarylvinylverbindung sowie photographic Processes«, J. Wiley «sons ι*
gegebenenfaUs einer photopolymerisierbaren l965)>
S. 180 bis 181, beschrieben „„Lotf>
c:llir^
Verbindung oder gegebenenfaUs einer im radikale als auch die be. der Photolyse erzeugte Saure
sauren Medium farbändernden Verbindung, wurden in verschiedenen Systemen verwendet, hu
dadurch gekennzeichnet, daß denen Farbstoffe photochemisch erzeugt und zerstör,
die sensibilisierend wirkende Verbindung min- 3 wurden (vgl. J.'Kosar. S. 361 bis 3/uj.
destens ein ungesättigtes Keton der allge- Die Verwendung von Sensibi lsatoren zur vermeinen
Formel bi.iterunfc der spektralen 1 mpfindlichke« organmV
O Halouenverbindungen .st ebenfalls bekannt (-H....
- \ Ii 20 Zweck sind gelbe
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US85755269A | 1969-09-12 | 1969-09-12 | |
US85755269 | 1969-09-12 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2045056A1 DE2045056A1 (de) | 1971-12-16 |
DE2045056C true DE2045056C (de) | 1973-01-25 |
Family
ID=
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3617288A (en) | Propenone sensitizers for the photolysis of organic halogen compounds | |
DE1572136B1 (de) | Fotopolymerisierbares Gemisch | |
DE1060714B (de) | Material fuer elektrophotographische Reproduktion | |
DE1917543A1 (de) | Aromatische polycyclische Verbindungen als Sensibilisierungsmittel fuer photolysierbare organische Halogenverbindungen | |
DE1269488B (de) | Sensibilisierte photoleitfaehige Schicht | |
DE2043769A1 (de) | Elektrophotographisches Kopier verfahren | |
DE1060713B (de) | Material fuer die elektrophotographische Reproduktion | |
DE2253931C3 (de) | Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial, Auskopierverfahren sowie Verfahren zur Herstellung von Bildern | |
EP0201725B1 (de) | Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial | |
DE2251105A1 (de) | Photographisches verfahren und dabei verwendetes material | |
DE1772035C3 (de) | Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial | |
DE2045056C (de) | Lichtempfindliches Gemisch und seine Verwendung in photographischem Aufzeichnungsmaterial | |
DE2241563A1 (de) | Verfahren zum sensibilisieren von auskopiermaterialien | |
DE2041064A1 (de) | Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial | |
DE4232242C2 (de) | Elektrophotographischer Photorezeptor | |
DE1597784A1 (de) | Druckplatte mit photoaktiver Schicht | |
DE2007524A1 (de) | Lichtempfindliche Materialien | |
DE2162895C3 (de) | Lichtempfindliches Gemisch und seine Verwendung zur Herstellung von Kopierschichten und Verfahren zur Herstellung von Kopiermaterialien | |
EP0152047B1 (de) | Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial | |
DE2043355C3 (de) | Elektrophotographisches Aufzeichungs material | |
DE2109626C3 (de) | p- oder m-Xylolderivate und deren Verwendung als fotoleitendes Material für die Elektrofotografie | |
DE1797137A1 (de) | Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial | |
DE2045056B (de) | ||
DE2556597A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines lichtempfindlichen materials | |
DE2155108A1 (de) | Lichtempfindliche Masse, Verfahren zur Herstellung eines lichtempfindlichen Materials und seine Verwendung |