DE2800254A1 - Verfahren zur herstellung von hochreinem silizium - Google Patents
Verfahren zur herstellung von hochreinem siliziumInfo
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Description
Dr.-Ing. Ernst STRATMANN _r
Schadowplatz 9, 4000 Düsseldorf 1
Düsseldorf, 30. Dez. 1977
Westinghouse Electric Corporation
Pittsburgh, Pa., V. St. A~.
Pittsburgh, Pa., V. St. A~.
Verfahren zur Herstellung von hochreinem Silizium
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von hochreinem
Silizium.
Bekannte Verfahren zur Herstellung von hochreinem Silizium sind im allgemeinen durch hohe Kosten und niedrige Kapazität
gekennzeichnet. Bei einem Verfahren zur Herstellung von hochreinem Silizium müssen folgende Verfahrensschritte ausgeführt
werden: (1) karbothermische Reduzierung von Silica zu metallurgischem
Silizium, (2) Umsetzung des metallurgischen Siliziums zu einer Zwischenverbindung wie SiHCl3, (3) reinigen der Zwischenverbindung
und (4) zersetzen der Zwischenverbindung zu Silizium.
Das durch dieses Verfahren hergestellte Silizium ist sehr kostspielig
und daher ökonomisch bei vielen Anwendungsfällen ungeeignet, insbesondere bei Anwendung für Solarzellen, also für
die Gewinnung von elektrischer Leistung mit Hilfe von Sonnenlicht.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zur Herstellung von hochreinem Silizium zu schaffen, das wirtschaftlicher arbeitet.
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Die Erfindung wird durch die Merkmale des Hauptanspruchs gelöst,
besteht also aus einem Verfahren für die Herstellung von hochreinem Silizium, das durch folgende Verfahrensschritte gekennzeichnet
ist:
a) Schaffung eines Lichtbogenheizers mit im Abstand angeordneten Elektroden, die eine mit einer Reaktionskammer in
Verbindung stehende Lichtbogenkammer bilden,
b) Auslösen eines elektrischen Lichtbogens in einem Axialspalt zwischen den Elektroden,
c) Einführen eines Lichtbogengases, welches zumindest aus Wasserstoff, Kohlenmonoxid und/oder einem inerten Gas besteht,
durch den Spalt, um einen länglichen Lichtbogenstrom zu schaffen, der sich in die Reaktionskammer erstreckt,
d) Zuführen einer Menge eines Alkalimetall- oder Erdalkalimetallreduktionsmittels
in den Lichtbogenstrom,
e) Zuführen einer Menge Siliziumhalid in den Lichtbogenstrom, um dieses Halid mit dem Metallreduktionsmittel zu reagieren
und Reaktionsprodukte einschließlich flüssigem Silizium und einem Salz des Metallreduktionsmittels zu erzeugen,
f) Tangentiales Einschießen der Reaktionsprodukte in die Reaktionskammer,
um das flüssige Silizium zu veranlassen, sich zentrifugal von dem gasförmigen Beiproduktsalz zu
trennen und
g) Ablagern des flüssigen Siliziums auf einer nach unten sich erstreckenden Oberfläche, um dem flüssigen Silizium zu
ermöglichen, in einen zugehörigen Aufnahmebehälter zu fließen.
Der Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens liegt darin, daß es einen elektrischen Lichtbogenheizer verwendet, um die sehr
hohen Temperaturen zu erzeugen, die zur Reduzierung eines Siliziumhalids zu einem flüssigen elementaren Silizium sowie einem
in Dampfform vorliegenden Beiproduktsalz dienen, wobei dieses Silizium die sogenannte "Solarzellengüte" aufweist, die für
die Herstellung von großflächigen fotovoltaischen Anordnungen benötigt wird. Somit wird elementares Silizium von geschmolzenem
Zustand erzeugt, das geeignet ist, um nachfolgend zu großflächigen
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Solarzellenanordnungen verarbeitet zu werden. Das Verfahren ist abhängig von der Anwendung eines elektrischen Lichtbogenheizers,
der die erforderliche Verfahrensenergie liefert, ohne daß das geschmolzene Siliziumprodukt verunreinigt wird.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand von Ausführungsbeispielen näher erläutert, die in den Zeichnungen dargestellt sind.
Es zeigt:
Fig. 1 ein Flußdiagramm;
Fig. 2 eine teilweise geschnittene Draufsicht auf den Reaktor, der drei Lichtbogenheizer aufweist;
Fig. 3 einen vertikalen Schnitt längs der Linie III-III
der Fig. 2;
Fig. 4 eine teilweise geschnittene Ansicht einer anderen Ausführungsform der Erfindung; und
Fig. 5 eine teilweise geschnittene Seitenansicht längs der Linie IV-IV der Fig. 4.
Gemäß den Fig. 1 bis 3 kann das Verfahren in einem Reaktor ausgeführt werden, der allgemein mit 11 bezeichnet ist. Der
Reaktor 11 wird von den in Fig. 1 dargestellten zugehörigen Strukturen gestützt. Der Reaktor 11 umfaßt eine Zentrifugaloder
Plasmakammer 13, zumindest einen, vorzugsweise mehrere
Lichtbogenheizer 15, eine erste Entlüftungs- oder Auslaßeinrichtung
17 für die gasförmigen Nebenprodukte und einen zweiten Auslaß oder Auslaßeinrichtung 19 für elementares Silizium.
Das Lichtbogengas wird in das System bei 21 durch die Lichtbogenheizer
15 eingeführt, wie im folgenden noch näher erläutert wird. Das Gas verläßt zusammen mit den leichteren Nebenprodukten,
einschließlich Salzdämpfen den Reaktor durch die Auslaßeinrich-
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tung 17, die mit einem zyklonartigen Trenner 23 versehen sind, um das Gas und das Salz voneinander zu trennen, wobei ersteres
zu einem Wärmeaustauscher 25 übertragen wird, um es zu kühlen und mit Hilfe einer Pumpe 27 in die Lichtbogenheizer am Einlaß
21 zurückzuführen. Kühlgas kann am Einlaß 29 des Trenners eingeführt werden, um die Verdampfungshitze des flüssigen Salzes
zu entfernen. Das Salz verläßt das untere Ende des Trenners 23, von wo es zu einer Elektrolysezelle 31 geleitet wird, um
das Salz in seine Primärelemente zu dissoziieren, wie in Natrium oder Magnesium und Chlor oder Brom. Das metallische Natrium
oder Magnesium fließt durch einen Reiniger 33 zu einem Einlaß 35, wo es in den Reaktor eingeführt wird.
Das sich ergebende Chlor aus der Zelle 31 wird zu einem Chlorinator
37 geführt, wo es zusammen mit Siliziumdioxid, das am Einlaß 39 eingeführt wird, und einem kohligen Material wie Koks,
eingeführt beim Einlaß 41, mit dem Chlor reagiert, um Siliziumtetrachlorid (SiCl4), andere Halide sowie Kohlendioxid zu erzeugen,
die einem Wascher 43 zum Zwecke der Trennung zugeführt werden. Das Siliziumtetrachlorid wird weiter durch einen Zyklontrenner
45 geführt, um irgendwelche Fremdmaterialien wie FeCl3 zu entfernen, von wo das Tetrachlorid zu einem Verdampfer 49
und von dort zum Reaktor 11 an einem Einlaß 51 geführt wird.
Das Endprodukt ist elementares Silizium, das durch die Auslaßeinrichtung
19 in eine Gußform 53 (Fig. 1) tropft, die eine von mehreren gleichartigen Formen ist, welche auf einer rotierbaren
Plattform 55 angeordnet sind, durch welche Plattform eine Vielzahl von gleichartigen Gußformen 53 gefüllt werden kann.
Danach können auf Wunsch Barren von der Form 53 entfernt werden und einer Einschmelzstufe 57 zugeführt werden, um das Silizium
weiter zu raffinieren, beispielsweise durch Entgasen. Selbstverständlich kann alternativ das Silizium auch für die direkte
Verarbeitung zu Einkristallen oder zu großflächigen Blechen verwendet werden.
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Wie in Fig. 2 dargestellt ist, ist der Lichtbogenheizer bzw. sind die vorzugsweise verwendeten drei Lichtbogenheizer 15
von ähnlicher Konstruktion und Wirkungsweise, wie es in der US-Patentschrift 3 765 870 beschrieben ist. In der vorliegenden
Beschreibung werden daher nur die Grundstruktur und die grundlegende Wirkungsweise des Lichtbogenheizers 15 beschrieben.
Die Lichtbogenheizer 15 (siehe Fig. 2) sind jeweils einphasige, sich selbst stabilisierende Wechselstromeinrichtungen, die Leistungspegel
bis zu etwa 35 kW aufnehmen können, oder auch bis zu etwa 10 000 kW bei dreiphasigen Anordnungen. Bei der Ausführung
der vorliegenden Erfindung werden vorzugsweise drei Lichtbogenheizer vorgesehen, ein Heizer für jede Phase der dreiphasigen
Wechselstromleistungsquelle. Wie in Fig. 2 dargestellt ist, besitzen die Lichtbogenheizer 15 zwei ringförmige Kupferelektroden
59, 61, die bei 63 ungefähr 1 Millimeter Abstand voneinander aufweisen, um eine Leitungsfrequenzleistungsquelle
von etwa 4 kV aufzunehmen. Ein Lichtbogen 65 tritt in dem Spalt oder Raum 63 auf und einströmendes Ausgangsgas bläst den Lichtbogen
65 sofort von dem Spalt in das Innere der Lichtbogenkammer 69. Das Ausgangsgas 67 muß mit Silizium kompatibel sein
und kann aus einer Gruppe ausgewählt werden, die aus inertem Gas, Wasserstoff, Kohlenmonoxid oder Mischungen daraus besteht.
Der Lichtbogen 65 rotiert mit der Geschwindigkeit von etwa 1000 Umdrehungen pro Sekunde durch die Wechselwirkung des Lichtbogenstromes
(mehreren 1000 Ampere Wechselstrom) mit einem Gleichstrommagnetfeld, das von intern montierten Feldspulen 71, 73
erzeugt wird. Die Geschwindigkeiten ergeben eine sehr hohe Betriebswirtschaftlichkeit für die Anordnung dieser Art und
der längliche Lichtbogen 65 wird schließlich durch den Gasabwärtsstrom in Richtung auf die Reaktionskammer 13 getrieben,
möglicherweise sogar in diese hinein. Das Ausgangsmaterial wird über Einlaßtore 35, 51 eingefügt und auf Reaktionsbedingungen
durch die lichtbogenerhitzten Gase aufgeheizt.
Die miteinander reagierenden Materialien sind Halide des Siliziums,
sowie Alkalimetalle oder Erdalkalimetalle, wie beispielsweise Natrium und Magnesium, wobei letzteres aus wirtschaft-
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lichen Gründen vorzuziehen ist. Das Siliziumhalid ist jedoch nicht auf Tetrachlorid begrenzt, sondern kann irgendwelche Halide
umfassen, wie beispielsweise Tetrabromide. Wenn sie in die Abstromlichtbogenzone
eingeführt werden, reagieren die durch die Einlaßtore 35, 51 eingeführten Materialien im wesentlichen gemäß
der folgenden Formeln miteinander:
SiCl4 + 4Na —>
Si + 4NaCl^ (1)
SiCl + 2Mg > Si + 2MgClA (2)
SiBr4 + 2Mg —> Si + 2MgBr2^ (3)
Die vorstehenden Formeln sind Beispiele für eine Anzahl von Möglichkeiten, die für die Herstellung der entsprechenden Metalle
zur Verfügung stehen, es sei daher darauf hingewiesen, daß das Silizium entweder als ein Chlorid oder Bromid eingeführt werden
kann, welches wiederum mit entweder Natrium oder Magnesium reagiert, um die in den Formeln 1, 2 und 3 angegebenen Produkte
zu erzeugen. Damit die vorgenannten Reaktionen in richtiger Weise Silizium erzeugen, muß dieses Silizium im geschmolzenen
Zustand bei einer Temperatur erzeugt werden, die größer ist als der Siedepunkt des als Nebenprodukt anfallenden Salzes,
wodurch dieses nachfolgend von dem in flüssiger Phase vorliegenden Siliziums getrennt werden kann, wobei sich das Salz im
gasförmigen Zustand befindet. Die unterste Reaktionstemperatur für die vorgenannten Formeln muß oberhalb des Siedepunktes von
jedem der Salze liegen, d. h. vom Chlorid oder Bromid des Natriums oder Magnesiums. Die maximale Temperatur liegt über
3000° K (2727° C). In der folgenden Tabelle wird eine Liste der Schmelzpunkte von Silizium sowie der Siedepunkte von mehreren
Verbindungen oder Salzen aufgeführt:
Silizium 1410° C MgCl2 1412° C
NaCl 1413° C MgBr2 1284° C
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280Ü2SA
Wie in den Fig. 2 und 3 dargestellt ist, sind die Lichtbogenheizer
15 mit der Zentrifugal- oder Plasmakammer 13 tangential verbunden. Die Kammer 13 ist vorzugsweise zylindrisch (siehe
Fig. 3)/ um die zentrifugale Trennung der leichten und schweren Nebenprodukte der vorgenannten Reaktionen zu verbessern, wobei
die leichteren, gasförmigen Produkte wie die Salze den Reaktor 11 über die Auslaßeinrichtungen 17 verlassen, während die schwereren
Elemente durch die Auslaßeinrichtungen 19 austreten.
Die Kammer 13 ist zwischen einer peripheren Wand 79 und sich gegenüberliegenden Endwänden 81, 83 angeordnet. Die obere Endwand
81 ist vorzugsweise von der peripheren Wand 79 nach oben hin abgeschrägt und schließt am unteren Ende der Auslaßeinrichtungen
17 an, so daß die gasförmigen Nebenprodukte in leichterer Weise aus der zentrifugalen Zone innerhalb der Kammer
13 zur Auslaßeinrichtung 17 gerichtet werden. In ähnlicher
Weise ist die untere Endwand 83 nach unten hin geneigt, siehe die in Fig. 3 dargestellte Ausführungsform, und schließt an
die Auslaßeinrichtungen 19 an, die mit der Barrenform oder der Sammelkammer 53 für das während der Reaktion gebildete Silizium
in Verbindung stehen. Die periphere Wand 79 und die Endwände 81, 83 werden vorzugsweise mit Hilfe von Wasserkühleinrichtungen
85 von herkömmlicher Bauart gekühlt.
Erfindungsgemäß umfaßt die Kammer 13 eine innere Wand oder
eine Auskleidung 87, die im wesentlichen konzentrisch und im Abstand zu der peripheren Wand 79 und den Endwänden 81, 83
angeordnet ist. Die innere Wand 87 umfaßt vorzugsweise einen nach oben und innen geneigten oberen Wandteil 89, und einen
unteren Wandteil 91. Der Abstand 93 zwischen der peripheren Wand und den Endwänden 79, 81, 83 und den inneren Wänden 87,
89, 91 wird in geeigneter Weise aufrecht erhalten, wie beispielsweise mit Hilfe von gestützten Abstandsringen 95 (Fig. 3).
Die inneren Wandeinrichtungen, einschließlich der Wände 87, 89, 91 sind so ausgeführt, daß sie bei hohen Wandtemperaturen
arbeiten. Während sich das flüssige Silizium zentrifugal von
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den kühlen Gasprodukten trennt, die die Reaktionskammer 13
über den Auslaß verläßt, wie durch den Pfeil 97 angedeutet, lagert sich das flüssige Silizium auf den inneren Wänden 87,
89, 91 ab, um eine verfestigte Siliziumschicht 97 zu bilden, deren Dicke durch das Wärmeübergangsgleichgewicht festgelegt
wird, wobei die Dicke auf einige Zentimeter begrenzt ist. Die inneren Wände 87, 89, 91 werden mit Hilfe von Wärmestrahlung
zu den wassergekühlten Außenwänden 79, 81, 83 gekühlt. Die Dicke der verfestigten Siliziumschicht 97 hängt von dem Temperaturgradienten
durch die Wand wie auch vom thermischen Gleichgewichtszustand innerhalb der Kammer ab, einschließlich der Zone
zwischen der inneren Wand 87 und der peripheren Wand 79. Entsprechend verbleibt die Oberfläche der Siliziumschicht 97, die
von der inneren Wand 87 am weitesten entfernt ist, flüssig und läuft an der Schichtoberfläche abwärts und tritt am unteren
Ende davon in die Barrenform 53 aus. Zu diesem Zweck ist das untere Ende der inneren Wand 91 vorzugsweise mit einem Flansch
oder einem Tropfflansch 101 versehen, der sich in die Auslaßeinrichtung 19 erstreckt und dadurch verhindert, daß das geschmolzene
Silizium sich auf die die Auslaßeinrichtung 19 bildenden Wände ablagert oder diese berührt. Somit bildet sich in
der Barrenform 53 ein Siliziumbarren 103.
Eine andere Ausführungsform der Erfindung ist in den Fig. 4
und 5 gezeigt, in denen ein Reaktor allgemein mit der Bezugszahl 105 gekennzeichnet ist und Teile umfaßt, die Bezugszahlen
besitzen, die ähnlich zu denen des Reaktors 11 (Fig. 2 und 3) sind. Insbesondere ist der Reaktor 105 (Fig. 4 und 5) auf einer
unterschiedlichen Achse angeordnet, so daß der unterste Teil des Reaktors 105 ein Teil der peripheren Wand 79 ist, wobei
die Auslaßeinrichtungen 19 so angeordnet sind, daß während der Sammlung an der Metallschicht 99 sich das abwärts fließende
flüssige Silizium in den Auslaßeinrichtungen 19 ansammelt. Die Gasauslaßeinrichtungen 17 sind in der Endwand 81 in ähnlicher
Weise angeordnet, wie es beim Reaktor 11 der Fall war. In allen
übrigen Punkten besitzt der Reaktor 105 ähnliche strukturelle Anordnung und Arbeitsweisen wie der Reaktor 11.
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Zusätzlich sollte das Äußere der Auskleidung 89 von einem inerten Gas abgedeckt sein, um eine Oxidation zu verhindern. Außerdem
sollte das inerte Gas in einer Richtung zirkulieren, die durch den Pfeil 107 angegeben ist, um das Eindringen von irgendwelchen
ungewünschten Materialien wie Magnesiumchlorid in die Gießkammer der Form 53 zu verhindern.
Ein Beispiel für das Verfahren zur Reduktion von Natrium aus Siliziumtetrachlorid wird im folgenden gegeben.
Die Gesamtreaktion bei der Lichtbogenreduktion von SiCl- unter
Anwendung von Natrium als Reduktionsmittel ist
4 Na (g) + SiCl4 (g) >
Si(f) + 4 NaCl (g) ,
(g = gasförmig, f = flüssig).
Die standardisierte freie Energieladung für diese Reaktion bei Temperaturen oberhalb von 1700° K, d. h. oberhalb des Schmelzpunktes
von Silizium und des Siedepunktes von Natriumchlorid ist sehr negativ und daher sollte die Reaktion vollständig sein.
Beispielsweise ist bei 2200° K die standardisierte freie Energieänderung -112.3Kcal/Mol Silizium. In ähnlicher Weise ist die
Änderung der standardisierten freien Energie für die Magnesiumreduktion bei 2200° K -76.9 Kcal/Mol. Das theoretische Energieerfordernis
für die Natriumreduktion, die bei dieser Temperatur ausgeführt wird, beträgt 4,63 kWh/kg Si für einen Lichtbogenheizer,
der bei 75 % Wirkungsgrad und einer anfänglichen Reaktionstemperatur von 25° arbeitet. Dieses Erfordernis bezieht
sich auf eine Verfahrensanordnung, bei der der Lichtbogenheizer
direkt auf das Siliziumtetrachlorid einwirkt. Für den Fall, bei dem eine Gasmischung aus 66 % H7 und 33 % Argon als Wärmeübertragung
smedium bei einem Enthalpiepegel von 26460 BTU/kg verwendet wird, wird pro kg Silizium eine Menge von 1,1354 kg
Wasserstoff-Argon-Mischung benötigt. Wenn die Wasserstoff-Argon-
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Mischung mit einer Temperatur von 2200° K aus dem Reduktionsreaktor austritt und alle meßbare Wärme in dem Gas verlorengeht,
beträgt das Gesamtenergieerfordernis bei einem Wirkungsgrad von 75 % des Lichtbogenheizers 5,31 kWh/kg Si. Ähnliche
Berechnungen zeigen, daß das theoretische Energieerfordernis für eine Magnesiumreduktion bei 75 %igem Lichtbogenheizungswirkungsgrad
für direkte Zuführung von SiCl. in den Lichtbogenheizer 3,13 kWh/kg Si beträgt, während bei Anwendung von Lichtbogenheizgas
aus 66% H2 und 33 % Ar bei einem 75 %igem Wirkungsgrad
3,59 kWh/kg Si erforderlich sind.
Die Chlorierungs- und Elektrolyseschritte des vorgeschlagenen Verfahrens erfordern ebenfalls einenEnergieeingang. Beispielsweise
erfordert der Natriumregenerationsschritt 16,5 kWh/kg Na
(54,2 kWh/kg Si) während Magnesium 19,8 kWh/kg Magnesium (34,4
kWh/kg Si) erfordern. Das Energieerfordernis für den Chlorierungsschritt hängt von der Zusammensetzung des silicahaltigen
Ausgangsmaterials ab, wie auch von der Kohlenstoffquelle und den Chlorierungstemperaturen.
Die Rohmaterialerfordernisse sind 2,14 kg Silica/kg Silizium,
ein Minimum von 0,86 kg Kohlenstoff sowie das zu ergänzende Natriumchlorid oder Magnesiumchlorid sowie das gegebenenfalls
erforderliche Lichtbogenheizungswärmeübergangsgas.
Schließlich können, obwohl das Silizium vorzugsweise zentrifugal abgetrennt wird, auch andere Einrichtungen benutzt werden,
wie beispielsweise die Kondensation von Silizium in einer Kondensationskammer
.
Entsprechend schafft der erfindungsgemäße Reaktor eine neuartige
Anordnung aus einem Lichtbogenheizer und einer Reaktionskammer, die geeignet ist entweder für einphasigen oder auch für dreiphasigen
Betrieb, d. h., daß drei oder sechs Lichtbogenheizer vorgesehen werden, wobei im letzteren Fall jeder Lichtbogenheizer
zwei Phasen besitzt. Eine derartige Anordnung ist auch für höhere Leistung und höhere Produktionsraten auf fortlaufen-
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der Basis geeignet. Schließlich ermöglicht eine Anordnung von Lichtbogenheizer und Reaktionskammer im Falle einer exothermen
Reaktion die Verwendung von zumindest einem Teil der Reaktionsenergie zur Weiterführung der Reaktion.
ES/ab 3
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Leerse ί t
Claims (4)
1. Verfahren zur Herstellung von hochreinem Silizium, gekennzeichnet
durch die folgenden Verfahrensschritte:
a) Schaffung eines Lichtbogenheizers (15) mit im Abstand angeordneten Elektroden (59, 61) und Bildung einer
Lichtbogenkammer (69), die mit einer Reaktionskammer
(13) in Verbindung steht,
b) Auslösen eines elektrischen Lichtbogens in einem axialen Spalt (63) zwischen den Elektroden (59, 61),
c) Einführen eines Lichtbogengases aus Wasserstoff, Kohlenmonoxid und/oder inertem Gas durch den Spalt (63)
zur Schaffung eines länglichen Lichtbogenstromes, der sich in die Reaktionskammer (13) erstreckt,
d) Zuführen einer Menge eines Alkalimetall- oder Alkalierdmetallreduktionsmittels
in den Lichtbogenstrom,
e) Zuführen einer Menge von Siliziumhalid in den Lichtbogenstrom, um dieses mit dem Metallreduktionsmittel
zu reagieren und Reaktionsprodukte einschließlich flüssigem Silizium und einem Salz des Metallreduktionsmittels
zu erzeugen,
f) tangentiales Einschießen der Reaktionsprodukte in die Reaktionskammer (13), um das flüssige Silizium
zu veranlassen, sich von dem gasförmigen Salznebenprodukt zentrifugal zu trennen und
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g) Ablagern des flüssigen Siliziums auf einer sich nach unten erstreckenden Oberfläche (91), um dem flüssigen
Silizium zu ermöglichen, in einen zugehörigen Aufnehmer (53) zu fließen.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß drei Lichtbogenheizer (15) in peripher im Abstand angeordneten
Stellungen um die Reaktionskammer (13) herum angeordnet sind.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Alkali- oder Erdalkalimetallreduktionsmittel
Natrium, Kalium oder Magnesium ist.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß Siliziumtetrachlorid, Siliziumtetrabromid oder Siiiziumtetrafluorid im Verfahrensschritt e) zugeführt
wird.
Beschreibung;
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Publications (1)
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Families Citing this family (54)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4102766A (en) * | 1977-04-14 | 1978-07-25 | Westinghouse Electric Corp. | Process for doping high purity silicon in an arc heater |
US4102767A (en) * | 1977-04-14 | 1978-07-25 | Westinghouse Electric Corp. | Arc heater method for the production of single crystal silicon |
US4162291A (en) * | 1977-10-12 | 1979-07-24 | Westinghouse Electric Corp. | Liquid silicon casting control mechanism |
US4188368A (en) * | 1978-03-29 | 1980-02-12 | Nasa | Method of producing silicon |
US4239740A (en) * | 1979-05-25 | 1980-12-16 | Westinghouse Electric Corp. | Production of high purity silicon by a heterogeneous arc heater reduction |
CA1198581A (en) * | 1980-10-20 | 1985-12-31 | Robert K. Gould | Method and apparatus for producing high purity silicon from flames of sodium and silicon tetrachloride |
US5021221A (en) * | 1980-10-20 | 1991-06-04 | Aero Chem Research Lab., Inc. | Apparatus for producing high purity silicon from flames of sodium and silicon tetrachloride |
US4471003A (en) * | 1980-11-25 | 1984-09-11 | Cann Gordon L | Magnetoplasmadynamic apparatus and process for the separation and deposition of materials |
US4487162A (en) * | 1980-11-25 | 1984-12-11 | Cann Gordon L | Magnetoplasmadynamic apparatus for the separation and deposition of materials |
US4446120A (en) * | 1982-01-29 | 1984-05-01 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Method of preparing silicon from sodium fluosilicate |
IT1152985B (it) * | 1982-06-22 | 1987-01-14 | Samim Soieta Azionaria Minero | Procedimento per la produzione di metalli ad elevata purezza |
US4442082A (en) * | 1982-12-27 | 1984-04-10 | Sri International | Process for obtaining silicon from fluosilicic acid |
US4529576A (en) * | 1982-12-27 | 1985-07-16 | Sri International | Process and apparatus for obtaining silicon from fluosilicic acid |
US4584181A (en) * | 1982-12-27 | 1986-04-22 | Sri International | Process and apparatus for obtaining silicon from fluosilicic acid |
US4590043A (en) * | 1982-12-27 | 1986-05-20 | Sri International | Apparatus for obtaining silicon from fluosilicic acid |
US4597948A (en) * | 1982-12-27 | 1986-07-01 | Sri International | Apparatus for obtaining silicon from fluosilicic acid |
US5037524A (en) * | 1987-07-28 | 1991-08-06 | Juvan Christian H A | Apparatus for treating liquids with high-intensity pressure waves |
US4917785A (en) * | 1987-07-28 | 1990-04-17 | Juvan Christian H A | Liquid processing system involving high-energy discharge |
US5800611A (en) * | 1997-09-08 | 1998-09-01 | Christensen; Howard | Method for making large area single crystal silicon sheets |
US6117401A (en) * | 1998-08-04 | 2000-09-12 | Juvan; Christian | Physico-chemical conversion reactor system with a fluid-flow-field constrictor |
EP1472184B8 (de) * | 2002-01-18 | 2006-05-03 | Power Avenue | Verfahren zur herstellung von silicium |
JP2008506621A (ja) * | 2004-07-16 | 2008-03-06 | インスティチュート フォー エネルギーテックニック | 半導体級(seg)シリコンを連続生産するための方法およびリアクタ |
EP2021279A2 (de) * | 2006-04-13 | 2009-02-11 | Cabot Corporation | Verfahren zur herstellung von silicium durch ein verfahren mit geschlossenem kreislauf |
WO2008067391A2 (en) * | 2006-11-28 | 2008-06-05 | Cima Nano Tech Israel Ltd. | Process for producing ultra-fine powder of crystalline silicon |
KR101140076B1 (ko) * | 2007-08-23 | 2012-04-30 | 오브스체스트보 에스 오그라니체노이 오트베츠트벤노스츄 '솔라르 씨' | 다결정 실리콘 제조 방법 |
US20090289390A1 (en) * | 2008-05-23 | 2009-11-26 | Rec Silicon, Inc. | Direct silicon or reactive metal casting |
US8568363B2 (en) * | 2008-10-31 | 2013-10-29 | The Invention Science Fund I, Llc | Frozen compositions and methods for piercing a substrate |
US8551505B2 (en) | 2008-10-31 | 2013-10-08 | The Invention Science Fund I, Llc | Compositions and methods for therapeutic delivery with frozen particles |
US8725420B2 (en) | 2008-10-31 | 2014-05-13 | The Invention Science Fund I, Llc | Compositions and methods for surface abrasion with frozen particles |
US9060926B2 (en) | 2008-10-31 | 2015-06-23 | The Invention Science Fund I, Llc | Compositions and methods for therapeutic delivery with frozen particles |
US9072799B2 (en) | 2008-10-31 | 2015-07-07 | The Invention Science Fund I, Llc | Compositions and methods for surface abrasion with frozen particles |
US9060931B2 (en) | 2008-10-31 | 2015-06-23 | The Invention Science Fund I, Llc | Compositions and methods for delivery of frozen particle adhesives |
US8762067B2 (en) | 2008-10-31 | 2014-06-24 | The Invention Science Fund I, Llc | Methods and systems for ablation or abrasion with frozen particles and comparing tissue surface ablation or abrasion data to clinical outcome data |
US8788211B2 (en) | 2008-10-31 | 2014-07-22 | The Invention Science Fund I, Llc | Method and system for comparing tissue ablation or abrasion data to data related to administration of a frozen particle composition |
US8793075B2 (en) | 2008-10-31 | 2014-07-29 | The Invention Science Fund I, Llc | Compositions and methods for therapeutic delivery with frozen particles |
US9072688B2 (en) | 2008-10-31 | 2015-07-07 | The Invention Science Fund I, Llc | Compositions and methods for therapeutic delivery with frozen particles |
US8603495B2 (en) | 2008-10-31 | 2013-12-10 | The Invention Science Fund I, Llc | Compositions and methods for biological remodeling with frozen particle compositions |
US9050251B2 (en) | 2008-10-31 | 2015-06-09 | The Invention Science Fund I, Llc | Compositions and methods for delivery of frozen particle adhesives |
US8221480B2 (en) | 2008-10-31 | 2012-07-17 | The Invention Science Fund I, Llc | Compositions and methods for biological remodeling with frozen particle compositions |
US8731841B2 (en) | 2008-10-31 | 2014-05-20 | The Invention Science Fund I, Llc | Compositions and methods for therapeutic delivery with frozen particles |
US8545855B2 (en) | 2008-10-31 | 2013-10-01 | The Invention Science Fund I, Llc | Compositions and methods for surface abrasion with frozen particles |
US9050317B2 (en) | 2008-10-31 | 2015-06-09 | The Invention Science Fund I, Llc | Compositions and methods for therapeutic delivery with frozen particles |
US8409376B2 (en) | 2008-10-31 | 2013-04-02 | The Invention Science Fund I, Llc | Compositions and methods for surface abrasion with frozen particles |
US8721583B2 (en) | 2008-10-31 | 2014-05-13 | The Invention Science Fund I, Llc | Compositions and methods for surface abrasion with frozen particles |
US8518031B2 (en) | 2008-10-31 | 2013-08-27 | The Invention Science Fund I, Llc | Systems, devices and methods for making or administering frozen particles |
US8545857B2 (en) * | 2008-10-31 | 2013-10-01 | The Invention Science Fund I, Llc | Compositions and methods for administering compartmentalized frozen particles |
US9050070B2 (en) | 2008-10-31 | 2015-06-09 | The Invention Science Fund I, Llc | Compositions and methods for surface abrasion with frozen particles |
US20100111857A1 (en) | 2008-10-31 | 2010-05-06 | Boyden Edward S | Compositions and methods for surface abrasion with frozen particles |
US9060934B2 (en) | 2008-10-31 | 2015-06-23 | The Invention Science Fund I, Llc | Compositions and methods for surface abrasion with frozen particles |
US8603494B2 (en) * | 2008-10-31 | 2013-12-10 | The Invention Science Fund I, Llc | Compositions and methods for administering compartmentalized frozen particles |
US8731840B2 (en) * | 2008-10-31 | 2014-05-20 | The Invention Science Fund I, Llc | Compositions and methods for therapeutic delivery with frozen particles |
WO2010067842A1 (ja) * | 2008-12-10 | 2010-06-17 | 住友化学株式会社 | シリコンの製造方法 |
US20100178038A1 (en) * | 2009-01-12 | 2010-07-15 | Mediatek Inc. | Video player |
US20130099159A1 (en) * | 2011-10-25 | 2013-04-25 | GM Global Technology Operations LLC | Production of metal or metalloid nanoparticles |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA651374A (en) * | 1962-10-30 | Schering Hans | Recovery of unused materials in the production of silicon | |
US524173A (en) * | 1894-08-07 | Variable-resistance medium for telephones | ||
US732410A (en) * | 1902-10-13 | 1903-06-30 | Christian Harrebow Homan | Manufacture of silicon and aluminium from silicates of alumina. |
DE1041483B (de) * | 1953-07-28 | 1958-10-23 | Siemens Ag | Verfahren zur Herstellung reinsten Siliciums |
DE1054436B (de) * | 1956-02-11 | 1959-04-09 | Pechiney Prod Chimiques Sa | Verfahren zur Herstellung von kompaktem Silicium hohen Reinheitsgrades |
US2955966A (en) * | 1957-07-03 | 1960-10-11 | Int Standard Electric Corp | Manufacture of semiconductor material |
US3041145A (en) * | 1957-07-15 | 1962-06-26 | Robert S Aries | Production of pure silicon |
DE1129145B (de) * | 1960-07-07 | 1962-05-10 | Knapsack Ag | Verfahren zur Herstellung von hochreinem Silicium |
US3325314A (en) * | 1961-10-27 | 1967-06-13 | Siemens Ag | Semi-conductor product and method for making same |
DE1290712B (de) * | 1966-01-15 | 1969-03-13 | Hoechst Ag | Gegen den Abbau durch Licht und Waerme stabilisierte Formmassen |
CH525705A (de) * | 1968-12-24 | 1972-07-31 | Lonza Ag | Verwendung von vortex-stabilisierten Plasmabrennern zur Durchführung von chemischen Reaktionen |
GB1355433A (en) * | 1971-07-28 | 1974-06-05 | Electricity Council | Production of titanium |
US3963838A (en) * | 1974-05-24 | 1976-06-15 | Texas Instruments Incorporated | Method of operating a quartz fluidized bed reactor for the production of silicon |
US4080194A (en) * | 1976-11-26 | 1978-03-21 | Westinghouse Electric Corporation | Titanium or zirconium reduction process by arc heater |
-
1977
- 1977-01-06 US US05/757,546 patent/US4102765A/en not_active Expired - Lifetime
- 1977-11-29 CA CA292,025A patent/CA1099321A/en not_active Expired
- 1977-12-21 FR FR7738683A patent/FR2376821A1/fr not_active Withdrawn
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-
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Publication number | Publication date |
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US4102765A (en) | 1978-07-25 |
CA1099321A (en) | 1981-04-14 |
FR2376821A1 (fr) | 1978-08-04 |
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US4139438A (en) | 1979-02-13 |
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