DE2759163A1 - Verbesserte photopolymerisierbare massen fuer die herstellung von druckplatten und reliefformen - Google Patents
Verbesserte photopolymerisierbare massen fuer die herstellung von druckplatten und reliefformenInfo
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- DE2759163A1 DE2759163A1 DE19772759163 DE2759163A DE2759163A1 DE 2759163 A1 DE2759163 A1 DE 2759163A1 DE 19772759163 DE19772759163 DE 19772759163 DE 2759163 A DE2759163 A DE 2759163A DE 2759163 A1 DE2759163 A1 DE 2759163A1
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
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Description
- Verbesserte photopolymerisierbare Massen für die Herstellung
- von Druckplatten und Reliefformen Gegenstand des Hauptpatents . ... ... (Patentanmeldung P 27 22 421.1) sind photopolymerisierbare Massen für die Herstellung von Druckplatten und Reliefformen auf der Basis einer einen Photoinitiator enthaltenden Mischung mindestens einer niedermolekularen Verbindung mit mindestens einer olefinisch ungesättigten photopolymerisierbaren Doppelbindung mit mindestens einem damit verträglicen organischen polymeren Bindemittel, die in homogener Verteilung in einer Menge von etwa 0,001 bis 0X1 Gewichtsprozent bezogen auf die Masse, einen Äther eines Thioanthrachinons der Formel (I) enthalten In einer weiteren Ausbildung der genannten Erfindur£g wurde nun gefinden, daß sich die Reliefstruktur bei günstigem Belichtungsspielraum ohne wesentliche Beeinträchtigung der Lichtempfindlichkeit der entsprechenden Massen auch durch Zusatz von Thioanthrachinonäthern der genannten Formel (I) verbessern läßt, wenn R einen Substituenten tragenden Alkylrest oder einen gegebenenfalls substituierten Phenylrest darstellt.
- gegenstand dieser Anmeldung sind somit photopolymerisierbare Massen von Druckplatten und Reliefformen auf der Basis einer einen Photo-Initiator enthaltenden Mischung mindestens einer niedermolekularen Verbindung mit mindestens einer olefinisch ungesättigten photopolymerisierbaren Doppelbindung mit mindestens einem damit verträglichen organischen polymeren Bindemittel, die in homogener Verteilung in einer Menge von etwa 0,001 bis 0,1 Gewichtsprozent ein veräthertes Thioanthrachinon der Formel (II) enthalten gemäß Patent . ... ... (Patentanmeldung P 27 22 421.1), die dadurch gekennzeichnet sind, daß in dem verätherten Thioanthrachinon der Formel (II) R einen C1-C-Alkylrest darstellt, der eine gegebenenfalls verätherte oder veresterte Hydroxygruppe oder eine Alkoxycarbonylgruppe als Substituenten aufweist, oder einen gegebenenfalls substituierten, insbesondere einen Alkyl-, Alkoxy-, Hydroxyalkyl- oder Alkoxyalkyl-Gruppen tragenden Phenylrest darstellt.
- Geeignete verätherte Thioanthrachinone sind besonders die Ether des 2-Thioanthrachinons. Recht geeignet sind die C1-C4-Hydroxyalkyläther sowie deren Derivate, bei denen die Hydroxygruppen, die sich bevorzugt nicht an dem an das Schwefelatom gebundenen Kohlenstoffatom befinden sollen, mit Alkoholen mit 1 bis 8 C-Atomen veräthert sind (die Hydroxygruppe also z.B. durch eine C1-C8-Alkoxy- oder Alkoxyalkylgruppe ersetzt ist), oder die Hydroxygruppen mit Carbonsäuren mit 1 bis 8 C-Atomen, insbesondere mit Monocarbonsäuren verestert sind. Recht geeignet sind auch 0108 Alkyläther des Thioanthrachinons, die im Alkylrest mindestens einen Alkoxycarbonyl-Substituenten mit 1 bis 8 C-Atomen aufweisen, wie einen Athoxyearbonyl- oder Methoxycarbonylrest. Ferner sind recht geeignet der Phenyläther des Thioanthrachinons sowie solche Phenyläther, die im Phenylrest C1-C4-Alkyl, C1-C4-Alkoxy-, C1-C4-Hydroxyalkyl- oder C2-C6Alkoxyalkyl-Substituenten aufweisen.
- Als Beispiele sehr geeigneter Zusätze gemäß der vorliegenden Erfindung seien die Ather des 2-Thioanthrachinons der Formel II genannt, bei denen R darstellt: HO-CH2-CH2- CH3O-CH2-CH2- HO-CH2-CH2-O-CH2CH2- CH3O-CH2-CH2-O-CH2-CH2- Die ether des Thioanthrachinons lassen sich wie die im Hauptpatent genannten mit Vorteil zusammen mit den dort angegebenenen Synergisten und/oder Polymerisationsinhibitoren verwenden, bevorzugt mit N-Nitrosohydroxylaminderivaten der Formeln worin R = C1-C18-Alkyl oder -Oycloalkyl (bevorzugt Methyl oder 'yclohexyl) und M Metall wie Natrium, Magnesium, Cer, Aluminium ind insbesondere Kalium darstellen und n eine Zahl ist, die der Wertigkeit von M entspricht.
- Bezüglich der Mengen der zu verwendenden Thioäther sowie bezügich näherer Angaben zu Synergisten, Inhibitoren, der photopolyierisierbaren Massen, ihrer Verarbeitung,der der Prüfung der Eigenschaften der Massen usw. sei auf die Angaben in der Hauptanmeldung verwiesen Die in den nachstehenden Beispielen benutzten Bezeichnungen et (min), et (max), #t und #t (rel) haben die in der Hauptanmeldung angegebenen Bedeutungen.
- Beispiel 1 Es wird wie Beispiel 1 der Hauptanmeldung verfahren, jedoch werden der Lösung von Polyamid, Weichmacher und Photoinitiator 0,3 ß des Kaliumsalzes des N-Nitrosocyclohexylhydroxylamins und 0,03 % Phenylthio-2-anthrachinon zugegeben. Der Zusatz von Farbstoff unterbleibt. Die hergestellte Schicht der photopolymerisierbaren Massen hat eine Trockenschichtdicke von 500'um.
- Es betragen: et (min) 3,5 Min.; et (max) 4,5 Min; nt + 1,0 Min.; nt (rel) + 29 %.
- Beispiel 2 Es wird wie in vorstehendem Beispiel 1 verfahren, jedoch werden der Lösung aus Polyamid, Weichmacher, Photoinitiator und thermischem Inhibitor 0,03 % 2-(ß-Hydroxyäthyl-thio)-anthrachinon zugegeben.
- Es betragen: et (min) 3,5 Min.; et (max) 5,7 Min.; + 2,2 Min.; #t (rel) + 63 %.
- Beispiel 3 Es wird wie in vorstehendem Beispiel 1 verfahren, jedoch werden anstelle des Phenylthio-2-anthrachinons 0,03 % 2-(ß-Hydroxy-gmethyl-thyl-thio)-anthrachinon zugegeben.
- Es betragen: et (min) 2,25 Min.; et (max) 10 Min.; #t + + 7,75 Min.; nt (rel) + 344 %.
- Beispiel 4 Es wird wie in vorstehendem Beispiel 1 verfahren, anstelle des Phenylthio-2-anthrachinons werden jedoch 0,03 % 2-(ß-Acetoxyäthyl-thio)-antrachion zugesetzt.
- Es betragen: et (min) 3,5 Min.; et (max) 14 Min.; + 10,5 Min.; #t (rel) + 300 %.
- Beispiel 5 Es wird wie in vorstehendem Beispiel 1 verfahren, anstelle des Phenylthio-2-anthrachinons werden jedoch 0,03 % 2-(Methoxycarbonyl-methyl-thio)-anthrachinon zugegeben.
- Es betragen: et (min) 2,25 Min.; et (max) 6 Min.; + 3,75 Min.; #t (rel) + 167 %.
- Vergleichsversuch Es wird wie in vorstehendem Beispiel 1 verfahren, jedoch entfällt der Zusatz des Anthrachinonthioäthers.
- Es betragen: et (min) 2,0 Min.; et (max) 0,5 Min.; - 1,5 Min.; #t (rel) - 75 %
Claims (2)
- Patentansprtlche 1. Photopolymerisierbare Massen fUr die Herstellung von Druckplatten und Reliefformen auf der Basis einer einen Photoinitiator enthaltenden Mischung mindestens einer niedermolekularen Verbindung mit mindestens einer olefinisch ungesättigten photopolymerisierbaren Doppelbindung mit mindestens einem damit verträglichen organischen polymeren Bindemittel, die in homogener Verteilung in einer Menge von etwa 0,001 bis 0,1 Gewichtsprozent ein veräthertes Thioanthrachinon der Formel enthalten gemäß Patent , (Patentanmeldung P 27 22 421.1), dadurch gekennzeichnet, daß in dem verätherten Thioanthrachinon der Formel R einen C1-C8-Alkylrest darstellt, der eine gegebenenfalls verätherte oder veresterte Hydroxygruppe oder eine Alkoxycarbonylgruppe als Substituenten aufweist, oder einen gegegebenenfalls substituierten Phenylrest darstellt.
- 2. Photopolymerisierbare Massen gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie zusätzlich ein Salz eines organischen N-Nitrosohydroxylamins in einer Menge von etwa 0,02 bis 2 Gewichtsprozent, bezogen auf die Gesamtmasse, enthalten.
Priority Applications (7)
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NL7805329A NL7805329A (nl) | 1977-05-18 | 1978-05-17 | Verbeterde fotopolymeriseerbare massa's voor het ver- vaardigen van drukplaten en reliefvormen. |
DK216678A DK216678A (da) | 1977-05-18 | 1978-05-17 | Fotopolymeriserbar masse til fremstilling af trykkeplader og reliefforme |
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US05/907,007 US4198241A (en) | 1977-05-18 | 1978-05-18 | Photopolymerizable composition for the manufacture of printing plates and relief plates |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1977
- 1977-12-31 DE DE19772759163 patent/DE2759163C2/de not_active Expired
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE1189850B (de) * | 1957-05-17 | 1965-03-25 | Du Pont | Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Reliefbildern oder Druckformen |
Also Published As
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