DE2759163C2 - Photopolymerisierbare Gemische für die Herstellung von Druckplatten und Reliefformen - Google Patents

Photopolymerisierbare Gemische für die Herstellung von Druckplatten und Reliefformen

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DE2759163C2
DE2759163C2 DE19772759163 DE2759163A DE2759163C2 DE 2759163 C2 DE2759163 C2 DE 2759163C2 DE 19772759163 DE19772759163 DE 19772759163 DE 2759163 A DE2759163 A DE 2759163A DE 2759163 C2 DE2759163 C2 DE 2759163C2
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029

Description

(D
enthält, in der R einen Ci -C8-Alkylrest der eine Hydroxigruppe oder eine Alkoxicarbonylgruppe als Substituenten aufweist, oder einen Phenylrest darstellt.
2. Photopolymerisierbares Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Hydroxigruppe im Ct-C8-Alkylrest verethert ist
3. Photopolymerisierbares Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß d^e Hydroxigruppe im C1 -C8-Alkylrest verestert ist.
4. Photopolymerisierbares Gemisch nach Anspruch I1 dadurch gekennzeichnet, daß der Phenylrest substituiert ist.
5. Photopolymerisierbares Gemisch gemäß einem der A n Sprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich ein Salz eines organischen N-Nitrosohydroxylamins in einer Menge von 0,02 bis 2 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgemisch, enthält
Gegenstand des Hauptpatents 27 22 421 sind photopolymerisierbare Gemische für die Herstellung von Druckplatten und Reliefformen, enthaltend einen Photoinitiator, mindestens eine niedermolekulare Verbindung mit mindestens einer olefinisch ungesättigten photopolymerisierbaren Doppelbindung, mindestens ein damit verträgliches organisches polymeres Bindemittel sowie ein Anthrachinonderivat. Gemäß Hauptpatent 27 22 421 ist in diesen photopolymerisierbaren Gemischen zur Verbesserung der Reliefstruktur der aus den photopolymerisierbaren Gemischen hergestellten Druck- und Reliefformen als Anthrachinonderivat ein Alkylthioanthrachinon mit 1 bis 12 C-Atomen im Alkylrest in homogener Verteilung sn einer Menge von 0,001 bis 0,1 Gew.-% enthalten. Die vorliegende Erfindung betrifft eine weitere Ausbildung des Gegenstandes des Hauptpatents.
Photopolymerisierbare Gemische fiir die Herstellung von Druckplatten und Reliefformen sind vielfach beschrieben worden, wobei sowohl flüssige als auch feste Gemische verwendet werden können. So beschreibt z. B. die FR-PS 15 20 856 feste Gemische auf der Basis von Polyamiden und verträglichen olefinisch ungesättigten Monomeren, die einen Photoinitiator und einen Inhibitor gegen die thermische Polymerisation enthalten und zur Herstellung von Reliefdruckformen durch bildmäßige Belichtung von Schichten der Gemische und anschließendes Auswaschen der unbelichteten Schichtanteile mit einem Entwickierlösungsmittel dienen. Stellt man z. B. mit solchen bekannten Gemischen Reliefdruckplatten in den in der Druckindustrie üblichen Reliefstärken von ca. 04 bis 1 mm her, so zeigen diese infolge einer relativ hohen Streuung des UV-Lichts bei der bildmäßigen Belichtung meist nicht die gewünschte scharfe Relieffeinstruktur und oft zu kleine Reliefflankenwinkel. Auch in der DE-OS 11 89 850 beschriebene Gemische, die als Photoinitiatoren Anthrachinon oder Anthrachinonderivate wie 2-Methyl-anthrachinon enthalten, geben hierbei eine unbefriedigende Relieffeinstruktur und ein unzureichendes Auflösungsvermögen durch unzureichende Ausbildung von Zwischentiefen.
Es ist bekannt, daß man verbesserte Reliefdruckformen erhalten kann, wenn man bei der Belichtung der Photopolymerplatten durch das bildtragende Negativ gewisse Kunstgriffe anwendet, mit mehrschichtigen Photopolymerschichten arbeitet, unter der eigentlichen Photopolymerschicht andere Schichten anordnet, die die Ausbildung der Reliefformen beeinflussen oder absorbierende Farbstoffe in die Photopolymerschicht gibt. Diese Verfahren sind jedoch umständlich oder beeinträchtigen die Lichtempfindlichkeit der Photopolymerschichten recht nachteilig.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, durch geringe chemische Zusätze zu photopolymerisierbaren Gemischen zu erreichen, daß bei der bekannten Herstellung von Reliefformen daraus die Reliefstruktur durch Herabsetzung der unerwünschten Polymerisation im Kernschatten feiner opaker Bildelemente verbessert wird bei gleichzeitig gegebenem günstigen Belichtungsspielraum und ohne wesentliche Beeinträchtigung der Lichtempfindlichkeit der entsprechenden Gemische.
Es wurde nun überraschenderweise gefunden, daß sich die Reliefstruktur bei günstigem Belichtungsspielraum ohne wesentliche Beeinträchtigung der Lichtempfindlichkeit der entsprechenden Massen außer durch
Zusatz der Alkylthioanthrachinone gemäß Hauptpatent 27 22 421 auch dadurch verbessern läßt, daß die phoiopolymerisierbaren Gemische der in Rede stehenden Art als Anthrachinonderivat iff homogener Verteilung in einer Menge von etwa 0,001 bis 0,1 Gew.-%, bezogen auf das photopolymerisierbare Gemisch;- einen Anthrachinonthioe'Jier der Formel (!)
G) ίο
enthalten, worin R einen Q-QrAlkylresti der eine gegebenenfalls veretherte oder veresterte Hydroxigruppe oder eine Alkoxicarbonylgruppe als Substituenten aufweist, oder einen gegebenenfalls substituierten, insbesondere einen Alkyl-, Alkoxi-, Hydroxialkyl- oder Alköxialkyl-Gruppen tragenden Phenylrest darstellt.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist dementsprechend ein photopolymerisierbares Gemisch fur die Herstellung -'on Druckplatten und Reliefformen, enthaltend einen Photoinitiator, mindestens eine niedermolekulare Verbindung mit mindestens einer olefinisch ungesättigten photcpolymerisierbaren Doppelbindung, mindestens ein damit verträgliches organisches polymeres Bindemittel sowie ein Anthrachinonderivat, welches' dadurch gekennzeichnet ist, daß es als Anthrachinonderivat in homogener Verteilung in einer Menge von etwa 0,001 bisO.l Gewichtsprozent, bezogen auf das photopolymerisierbare Gemisch, einen Anthrachinonthioether der Formel (I)
enthält, worin R einen Ci-Q-Alkylrest, der eine gegebenenfalls veretherte oder veresterte Hydroxigruppe oder eine Alkoxicarbonylgruppe als Substituenten aufweist, oder einen gegebenenfalls substituierten, insbesondere einen Alkyl-, Alkoxi-, Hydroxialkyl- oder Alkoxialkyl-Gruppen tragenden Phenylrest ^rjrstellt.
Geeignete Anthrachinonthioether sind besonders die Ether des 2-Thioanthrachinons" Recht geeignet sind die C| -Q-Hydroxialkylether sowie deren Derivate, bei denen die Hydroxigruppen, die sich bevorzugt nicht an dem an das Schwefelatom gebundenen Kohlenstoffatom befinden sollen, mit Alkoholen mit 1 bis 8 C-Atomen verethert sind (die Hydroxigruppe also z. B. durch eine C, - C8-Alkoxi- oder Alkoxialkylgruppe ersetzt ist), oder die Hydroxigruppen mit Carbonsäuren mit 1 bis 8 C-Atomen, insbesondere mit Monocarbonsäuren verestert sind. Recht geeignet sind auch C, -C8-Alkylether des Thioanthrachinons, die im Alkylrest mindestens einen Alkoxicarbonyl-Substituenten mit 1 bis8 C-Atomen aufweisen, wie einer. Ethoxicarbonyl- oderMeihoxicarbonylrest. Ferner sind recht geeignet der Phenylether des Thioanthrachinons sowie solche Phenylether, die im Phenylrest Ci-C4-Alkyl, C]-C4-AIkOXi-, Ci-Q-Hydroxialkyl- oder C2-C6-Alkoxialkyl-Substituenten aufweisen.
Als Beispiele sehr geeigneter Anthrachinonthioether der oben angegebenen Formel (I), die gemäß der vorliegenden Erfindung in den photopolymerisierbaren Gemischen enthalten sein sollen, seien die Ether des 2-Thioanthrachinons genannt, bei denen der Rest R in der oben angegebenen Formel (I) darstellt:
HO-CH2-CH2-HO-CH2-CH-
CH3
HO-CH2-CH2-O-CH2CH2-CH3C-O-CH2-CH2-
O
CH3O-C-CH2-
Il ο
CH3O-CH2-CH2-C2H5O-CH2-CH-
CH3
CH3O-CH2-CH2-O-CH2-CH2-CH3CH2C-O-CH2-CH-
CH3
C2HjO-C
O
-CH2-
In vielen Fällen hai es sich als vorteilhaft erwiesen, die genannten Anthrachinonthioether nicht allein, sondern gemeinsam mit einem Synergisten in einer Menge von 0,01 bis 1 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgemisch, zu verwenden, wie organischen Aminen, wie sie in der US-PS 37 59 807 beschrieben sind, oder ^Ketocarbonsäuren und deren Estem. Sehr geeignet sind tertiäre Amine, von denen Morpholin genannt sei, und vor allem aliphatische tertiäre Amine, die Hydroxylgruppen enthalten wie Dimethylethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin und besonders Methyldiethanolamin. Von den «-Ketocarbonsäuren und deren Estern sind die aromatischen a-Ketocaibonsäuren sowie deren Alkylester mit 1 bis 18 C-Atomen im Alkylrest sehr geeignet und meist noch wirksamer als die genannten Amine. Bevorzugt sind Phenylglyoxalsäure und deren Alkylester, von denen der Methylester besonders genannt sei. Sie können dem Gemisch in beliebiger Menge zugesetzt werden, wobei bei großen Mengen eine gewisse Wirkung als Weichmacher eintritt. Im allgemeinen betragen die Zusätze 0,05 bis 1 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgemisch.
Recht vorteilhaft hat sich auch erwiesen, dem Gemisch zusätzlich bekannte Polymerisationsinhibitoren zuzusetzen wie Nitrosamine, N-Nitrosohydroxylamin-Derivate, Phenole oder Phenolether, sofern dadurch die Mindestbelichtungszeit nicht wesentlich verlängert wird oder diese Verlängerung in Kauf genommen werden kann.
Eine besonders positive Wirkung hat die Mitverwendung eines Salzes eines organischen N-Nitrosohydroxylamins wie den in der GB-PS 12 09 232 beschriebenen N-Nitrosohydroxylamin-Salzen der Formel (II)
R—N—O— N=O
01)
gezeigt, worin R einen organischen Rest und insbesondere einen Kohlenwasserstoffrest mit 1 bis 18 C-Atomen wie einen Alkylrest oder Cycloalkylrett (z. B. Methyl, Isopropyl, Butyl oder Cyclooctyl, Methylolcydohexyl),
Benzylrest, Phenylrest oder Naphthylrest, insbesondere Methyl oder Cyclohexyl, X gegebenenfalls substituiertes Ammonium oder insbesondere Metall, wie Natrium, Magnesium, Cer, Aluminium und insbesondere Kalium darstellen und η eine Zahl ist, die der Wertigkeit von X entspricht.
Hervorgehoben seien von den Verbindungen der Formel (II) die Natrium-, Aluminium- und insbesondere Kaliumsalze des N-Nitrosocyclohexyl-hydroxylamins. Die Verbindungen der Formel (II) werden mit Vorteil in
Mengen von 0,02 bis 2 und insbesondere 0,1 bis 0,8 Gew.-%, bezogen auf das Gemisch, zugesetzt. Eine kombinierte Verwendung der erfindungsgemäß einzusetzenden Anthrachinonthioether der Formel (1) mit Phenyiglyoxalsäure oder deren Alkylestern und mit den Verbindungen der Formel (II), insbesondere den Metallsalzen des N-Nitrosocyclohexyl-hydroxylamins, bewährte sich besonders. Es hat sich herausgestellt, daß bei der Kombination der Anthrachinonthioether mit den Nitrosoverbindungen der Formel (II) durch photochemische
Reaktion ein Inhibitor an den Stellen der bildmäßig belichteten Schicht des photopolymerisierbaren Gemisches erzeugt wird, an denen die UV-Einstrahlung am stärksten, es also um hellster/ ist. Auf diese Weise sind besonders vorteilhafte Reliefs mit sehr guten Zwischentiefen bei großem Beiichiuugsspieiraum der photopoiymerisierbaren Schichten erzielbar.
Die photopolymerisierbaren Gemische enthalten in bekannter Weise in Mengen von 0,01 bis IU und jisbeson-
dere 0,01 bis 3 Gew.-%, bezogen auf die gesamte Mischung, an Photoinitiatoren, als die praktisch alle Verbindungen geeignet sind, die bei Einwirkung von aktinischem Licht Radikale zu bilden vermögen, die eine Polymerisation auslösen. Als Photoinitiatoren kommen z. B. in Frage Acyloine und Acyloinether, aromatische Diketone und deren Derivate, mehrkernige Chinone, Acridinderivate, Phenazinderivate. Sehr geeignet sind Benzoin und e-Hydroxymethylbenzoin sowie deren Alkylether mit 1 bis 8 C-Atomen wie Benzoin-isopropylether, e-Hydro-
xymethylbenzoinmethyiether, Benzointetrahydropyranylether oder Benzommethylether, Benzilm'onoketale wie Benzilmono-dimethylketal, Benzilmono-methylethylketal, Benzilmono-methylbenzylketal oder Benzilmononeopentylketal.
Als organische polymere Bindemittel für die photopolymerisierbaren Gemische für die Herstellung von Druckplatten und Reliefformen kommen die bekannten dafür verwendeten Polymeren in Frage, wobei sie mit
den mitverwendeten Monomeren im allgemeinen verträglich und - für den Fachmann selbstverständlich - in den Entwicklerlösungsmitteln löslich oder dispergierbar sein sollen, um ein Auswaschen der unbelichteten und unvernetzten Anteile einer Schicht L der photopolymerisierbaren Gemische nach ihrer bildmäßigen Belichtung zu ermöglichen. Als geeignete polymere olefinisch gesättigte oder ungesättigte Bindemittel seien genannt lineare Polyamide und besonders alkohollösliche Copolyamide, wie sie in der FR-PS 15 20 856 beschrieben
sind, Cellulosederivate, insbesondere wäßrigalkalisch auswaschbare Cellulosederivate, Vinylalkohol-Polymere und Polymere und Copolymere von Vinylester aliphatischer Monocarbunsäuren mit 1 bis 4 C-Atcjnen, wie von Vinylacetat, mit unterschiedlichem Verseifungsgrad, Vinylpyrrolidon-homo- und -copolymerisate, Polyurethane, Polyetherurethane und Polyesterurethane sowie Polyesterharze, insbesondere saure Polyesterharze, wie in der DE-A 20 40 390 beschrieben, und elastomere Dien-Polymere und -Copolymere wie Blockcopolymere aus
Butadien- und/oder Isopren-Homopolymerblöcken und Polymerblöcken aus Styrol oder a-Methylstyrol.
Bevorzugt werden für die Gemische polymere Bindemittel mit einer Vielzahl von polaren Gruppierungen wie Polyamide, Polyurethane, Polyvinylalkohole oder Vinylpyrrolidon-(co)polymere.
Der Gehalt des Gemisches an polymeren! Bindemittel beträgt im allgemeinen etwa 45 bis 90 und insbesondere 50 bis 75 Gew.-%, bezogen auf die Menge an Polymeren und photopolymerisierbaren Monomeren.
Als niedermolekulare Verbindungen mit mindestens einer olefinisch rngesättigten photopolymerisierbaren Doppelbindung sind die tür Photopolymerdruckplatten verwendeten Monomeren geeignet, soweit sie mit den jeweils gewählten polymeren Bindemitteln verträgliche Mischungen bilden und einen Siedepunkt von über 1000C bei Atmos/>härendruck haben. Bevorzugt sind Monomere mit zwei- oder mehr olefinisch ungesättigten
photopolymerisierbaren Doppelbindungen allein oder deren Mischungen mit Monomeren mit nur einer olefinisch ungesättigten photopolymerisierbaren Doppelbindung. Die Art der verwendeten Monomeren richtet sich weitgehend nach der Art des mitverwendeten polymeren Bindemittels. So sind bei Mischungen mit ungesättigten Polyesterharzen besonders zwei- oder mehr Doppelbindungen enthaltende Allylverbindungen, wie Maleinsüurediallylestcr, Allylacetat, Diallylphthalat, Trimellithsäuredi- und -iriallylester oder Ethyiengiykoibisuliyl- s carbonat, sowie Di- und Polyacrylate und -methacrylate geeignet, wie sie durch Veresterung von Diolen oder Polyolen mit Acrylsäure oder Methacrylsäure hergestellt werden können, wie die Di- und Tri(meth)-acrylatc von Ethylenglykol, Diethylenglykol, Triethylenglykol, Polyethylenglykol mit einem Molekulargewicht bis etwa 500, 1,2-Propandiol, 1,3-Propandiol, Neopentylglykol (2,2-Dimethyl-propandiol), 1,4-Butandiol, 1,1,1-Trimethylolpropan, Glycerin oder Pentaerythrit; ferner die Monoacrylate und Monomethacrylate solcher Diole und Poiyoie, wie z. B. Ethylenglykol- oder Di-, Tri- oder Tetraethylenglykol-monoacrylat, Monomere mit zwei- oder mehr olefinisch ungesättigten Bindungen, die Urethangruppen und/oder Amidgruppen enthalten, wie die aus aliphatischen Diolen der vorstehend genannten Art, organischen Diisocyanaten und Hydroxialkyl(meth)acrylaten hergestellten niedermolekularen Verbindungen. Genannt seien auch Acrylsäure, Methacrylsäure sowie deren Derivate wie (Meth)acrylamid, N-Hydroxymethyl(meth)-acrylamid oder (Meth)acrylate von Monoalkoholen mit 1 bis 6 C-Atomen. Miscnungen von Allylmonomeren mit Di- oder Polyacrylaten sind sehr geeignet. Wählt man Mischungen mit Polyamiden als polymere Bindemittel, so eignen sich von den genannten Mnnomerarten neben den Di- und Polyacrylaten besonders solche, die zusätzlich zu den Doppelbindungen noch Amidurid/edsr Ure'.hangrupper. enthalten, *a';c Derivate von Acrylamide;·, ζ. 8. die UiüSctzungspruuüktc von 2 Μυί N-HydroximethyKmethVacrylamid mit 1 Mol eines aliphatischen Diols, wie Ethylenglykol, Xylylenbisacrylamid oder Alkylen-bis-acrylamide mit 1 bis 8 C-Atomen im Alkylenrest. Für die Herstellung wäßrig-alkalisch entwickelbarer Druckplatten mit Polyvinylalkohol als polymeres Bindemittel eignen sich besonders wasserlösliche Monomere, wie z. B. Hydroxiethyl(meth)acrylat und Mono- und Di(meth)acrylate von Polyethylenglykolen mit einem Molekulargewicht von etwa 200 bis 500.
Die Menge an dem Monomeren oder den Monomeren beträgt im allgemeinen etwa 10 bis 55 und insbesondere 35 bis 55 Gewichtsprozent, bezogen auf die Menge an Polymerem und photopolymerisierbaren Monomeren, und wird u. a. von ihrer Verträglichkeit mit dem Polymeren und der gewünschten Härte der resultierenden Druckform bestimmt.
Die Gemische können auch weitere übliche Zusätze enthalten wie Weichmacher, gesättigte niedermolekulare Verbindungen mit Amidgruppen, Wachse usw.
Die Verarbeitung der photopolymerisierbaren Gemische zu Photopolymerdruckplatten, die schichttormig die Gemische als reliefTormende Schicht im allgemeinen in einer Schichtstärke von 200 bis 800 μία aufweisen, kann in an sich bekannter Weise erfolgen und ist von der Art des Gemisches und davon abhängig, ob das Gemisch flüssig oder fest ist. Die Verarbeitung der Druckplatten zu Relieflbrmen erfolgt in bekannter Art durch bildmäßiges Belichten mit aktinischem Licht mit Lichtquellen, die Maxima der Emission im Bereich der Absorption der Photoinitiatoren, im allgemeinen im Bereich von 300 bis 400 nm, besitzen oder einen ausreichenden Anteil von Licht dieses Wellenlangenbereiches aufweisen, wie Quecksilbermitteldruckstrahler, aber auch Hoch- und Niederdruckistrahler oder superaktinische Leuchtstoffröhren. Nach der bildmäßigen Belichtung werden die nichtbelichteten Anteile der Schicht in bekannter Art mechanisch entfernt oder bevorzugt mit Entwicklerlösungsmitteln ausgewaschen, die resultierenden Druckformen werden getrocknet und in manchen Fällen zweckmäßigerweise noch voll nachbelichtet.
Die Anthrachinonthioether enthaltenden erfindungsgemäßen Gemische sind für Verfahren zur Herstellung von Reliefibrmen und insbesondere Reliefdruckformen aus Photopolymerplatten mit Schichten aus diesen Gemischen besonders geeignet. Es ist gemäß der Erfindung gelungen, ohne erhebliche Beeinträchtigung der Lichtempfindlichkeit die unerwünschte Polymerisation im Kernschatten feiner opaker Bildelemente zu vermindem und so die Herstellung von Reliefdruckplatten mit verbessertem Auflösungsvermögen, mit verbesserten Zwischentiefen in den Reliefformen und damit einem deutlich verbesserten Belichtungsspielraum zu ermöglichen, auch mit geringfügig lichtstreuenden polymeren Bindemitteln und/oder Monomeren in dem Gemisch. Die erfindungsgemäßen Gemische erlauben auch die Herstellung dicker Reliefs mit guten Zwischentiefen.
Zur besseren Beurteilung der Eigenschaften der Gemische für die Relieflformherstellung wird jeweils bestimmt:
et (min) die Mindestbelichtungszeit in Minuten bei 3%igem Rastertonwert bei 60 Linien pro cm Raster;
et (max) die Maximalbelichtungszeit in Minuten für einen opaken Punkt (im Filmnegativ) mit dem Durchmesser von 380 um, bei der die Zwischentiefe tz gerade noch die Forderung t. S 70 μτη erfüllt; At = Belichtungsspielraum in Minuten
At = et (max) - et (min);
At (rel) = relativer Belichtungsspielraum in Prozent
. et (max) -«(min) _m et (min)
wobei zur Belichtung stets im gleichen Abstand von 5 cm mit dem gleichen handelsüblichen UV-Flachbelichter mit 40-W-Röhren belichtet wird. Befriedigende Platten sollen einen positiven Belichtungsspielraum At aufweisen.
Wie im Vergleichsversuch gezeigt ist, gibt z. B. eine Druckplatte mit einem Gemisch ohne den Zusatz der :■>
erfindungsgemäßer. Anthrachinonthioether bei einer Belichtungszeit von 2,0 Minuten zwar einen 3%igcn f
Rastertonwert beim Druck gut wieder, da die Zwischentiefen des Reliefs zu gering sind und beim Drucken rela- ä
tiv rasch durch Farbe aufgefüllt werden und dann mitdrucken, erhält man jedoch mit den Reliefdruckformcn ■:
Drucke schlechter Qualität. Bei einer Belichtungszeit von 0,5 Minuten erhält man dagegen hinreichend große ?;
Zwischentiefen, jedoch kann ein 3%iger Rastertonwert wegen nicht ausreichender Lichthärtung nicht gehalten l··
werden, wodurch Drucke mit unschönen Tonwertabrissen (z. B. in den »Spitzlichtern«) erhalten werden. Ein |i
einwandfreies Klischee ist mit einer Photopolymer-Druckplatte, die einen negativen Belichtungsspielraum At i,
flat, nur mit zusätzlichen Maßnahmen, wie durch eine zeitraubende Abdeck- bzw. Maskierarbeit auf der Stufe f\
des Kopierens, zu erzielen. Die Beispiele zeigen, wie sich erfindungsgemäß Druckplatten herstellen lassen, die |i
befriedigende Reliefstrukturen auch noch bei einem positiven relativen Belichtungsspielraum von über 100% I
geben. ?>'
Die in den folgenden Beispielen und dem Vergleichsversuch genannten Teile und Prozente beziehen sich, l:i
soweit nicht anders angegeben, auf das Gewicht. Teile verhalten sich zu Volumenteilen wie Kilogramm zu Liter. Vi
Si
Beispiel 1 Ij
Einer 65%igen rnsthanolischen Lösung eines Gemisches von όΰ% eines Copolyamide aus Adipinsäure, Hexa- 1
triethylendiamin, 4,4 -Diaminodicyclohexylmethan und e-Caprolactam, 25% des Diethers aus 1 Mol Ethylengly- |
fcoi und 2 Molen N-Hydroximethy!-acrylamid, 13,5% Benzolsulfonamid und 1,5% Benzointetrahydropyranyl- |
äther werden 0,3% des Kaliumsalzes des N-Nitrosocyclohexylhydroxylamins und 0,03%2-Phenylthio-anthrachi- '|
non zugegeben. Die Lösung wird schichtförmig auf ein mit einem Haftlack versehenes Stahlblech (Reflexions- |
grad ca. 15%) so aufgegossen, daß nach dem Trocknen bei etwa 700C eine Schicht des photopolymerisierbaren J:
Gemisches mit einer Trockenschichtdicke von 500 μτη entsteht. Die Photopolymerdruckplatte wird, wie im Text ij
angegeben, bildmäßig durch eine Vorlage belichtet, und mit einem Alkohol-Wasser-Gemisch werden die unbe- |
lichteten Schichtanteile ausgewaschen. Die Platte hat eine Mindestbelichtungszeit et (min) von 3,5 Minuten, S
eine Maximalbelichtungszeit et (max) von 4,5 Minuten, somit einen Belichtungsspielraum At von +1 Minute ^
bzw. einen relativen Belichtungsspielraum At (rel) von +29%. !-j
Beispiel 2 %
Es wird wie in vorstehendem Beispiel 1 verfahren, jedoch werden der Lösung aus Polyamid, Weichmacher, U Photoinitiator und thermischem Inhibitor 0,03% 2-(/?-Hydroxiethyl-thio)-anthrachinon zugegeben.
Es betragen: £
et (min) 3,5 Minuten; et (max) 5,7 Minuten; At + 2,2 Minuten; At (rel) + 63%. %
ociSpiei j ^
Es wird wie in vorstehendem Beispiel 1 verfahren, jedoch werden anstelle des 2-Phenylthio-anthrachinons p.
0,03% 2-(2-Hydroxi-l-methyl-ethyl-thio)-anthrachinon zugegeben. S
Es betragen: |j
et (min) 2,25 Minuten; et (max) 10 Minuten; At + 7,75 Minuten; At (rel) + 344%. ^
Beispiel 4
Es wird wie in vorstehendem Beispiel 1 verfahren, anstelle des 2-Phenylthio-anthrachinons werden jedoch
0,03% 2-0e-Acetoxiethyl-thio)-anthrachinon zugesetzt.
Es betragen:
et (min) 3,5 Minuten; et (max) 14 Minuten; At + 10,5 Minuten; At (rel) + 300%.
Beispiel 5
Es wird wie in vorstehendem Beispiel 1 verfahren, anstelle des 2-Phenylthio-anthrachinons werden jedoch
0,03% 2-(Methoxicarbonylmethyl-thio>anthrachinon zugegeben.
Es betragen:
et (min) 2,25 Minuten; et (max) 6 Minuten; At + 3,75 Minuten; At (rel) + 167%.
Vergleichsversuch
Es wird wie in vorstehendem Beispiel 1 verfahren, jedoch entfallt der Zusatz des Anthrachinonthioethers.
Es betragen:
et (min) 2,0 Minuten; et (max) 0,5 Minuten; At - 1,5 Minuten; At (rel) -75%.

Claims (1)

Patentansprüche:
1. Photopolymerisierbares Gemisch für die Herstellung von Druckplatten und Reliefformen, enthaltend einen Photoinitiator, mindestens eine niedermolekulare Verbindung mit mirdestens einer olefinisch ungesättigten photopolymerisierbaren Doppelbindung, mindestens ein damit vertragliches organisches polymeres Bindemittel sowie ein Anthrachinonderivat, dadurch gekennzeichnet, daß es als Anthrachinonderivat in homogener Verteilung in einer Menge von etwa 0,001 bis 0,1 Gew.-%, bezogen auf das photopolymerisierbare Gemisch, einen Anthrachinonthioether der Formel (Ij
DE19772759163 1977-05-18 1977-12-31 Photopolymerisierbare Gemische für die Herstellung von Druckplatten und Reliefformen Expired DE2759163C2 (de)

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