DE2743011C2 - Anordnung zum Aufbringen einer lichtempfindlichen Lackschicht auf eine Halbleiterscheibe - Google Patents
Anordnung zum Aufbringen einer lichtempfindlichen Lackschicht auf eine HalbleiterscheibeInfo
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
Description
45
Die Erfindung bezieht sich auf eine Anordnung zum Aufbringen einer lichtempfindlichen Lackschicht auf
eine Halbleiterscheibe nach dem Oberbegriff des Patentanspruches 1.
Eine derartige Anordnung ist aus dem »IBM Technical Disclosure Bulletin«, Bd. 16, Nr. 6, Nov. 1973,
Seiten 1730 und 1731 bekannt. Die Anhebung des partialen Lösungsmitteldampfdruckes im Inneren des
Schleuderbehälters erfolgt dabei zu dem Zweck, die Verdampfungsgeschwindigkeit des in dem Lackmaterial
enthaltenen Lösungsmittels pro Zeiteinheit und Flächeneinheit zu verringern. Dadurch wird die Oberflächenspannung
in der auf der Halbleiterschicht befindlichen Lackschicht während der Drehbewegung des
Tellers klein gehalten, so daß Dickenschwankungen der Lackschicht, die insbesondere in Form von radialen
Streifen auftreten, vermieden werden. Derartige Dikkenschwankungen führen beim selektiven Belichten der
auf der Halbleiterschicht aufgebrachten, als Photomaske bei der Herstellung von Strukturen integrierter b5
elektrischer Schaltungen verwendeten Lackschicht zu Schwankungen in der Breite von linienförmigen
Strukturen, was inbesondere dann stark ausgeprägt ist, wenn die Belichtung mit Lichtwellen einer einzigen
Wellenlänge erfolgt
Bei bekannten Anordnungen wird die Anhebung des partialen Lösungsmitteldampfdruckes durch zusätzliches
Einbringen von Lösungsmitteldämpfen in den Schleuderbehälter bewirkt, was jedoch einen beachtlichen
apparativen Aufwand erfordert, wie z. B. aus dem »IBM Technical Disclosure Bulletin«, Bd. 18, Nr. 5
OkL 1975, Seite 1320, hervorgeht.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, bei einer Anordnung der eingangs genannten Art mit einfachen
Mitteln eine wirksame, die Dickenschwankungen der Lackschicht weitgehend vermeidende, einen erhöhten
partialen Lösungsmitteldampfdruck aufweisende Atmosphäre im Inneren des Schleuderbehälters vorzusehen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch eine Ausbildung nach den Merkmalen des kennzeichnenden
Teiles des Patentanspruches 1 gelöst.
Der mit der beanspruchten Anordnung erzielbare Vorteil besteht insbesondere darin, daß durch die
Einstellung der Spaltbreite zwischen dem Deckel und dem Schleuderbehälter, d. h. auf mechanischem Wege,
eine optimale Einstellung des Lösungsmitteldampfdrukkes oberhalb der aufgebrachten Lackschicht erreicht
wird. Man kann dabei eine Einstellung wählen, die einer vorgegebenen Dauer der Rotation des Tellers angepaßt
ist, wobei die Spaltbreite mit abnehmender Dauer der Rotation zunimmt.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand des in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiels näher
erläutert.
Bei der dargestellten Anordnung ist eine mit einer lichtempfindlichen Lackschicht zu überziehende Halbleiterscheibe
1 lösbar mit einem Teller 2 verbunden, beispielsweise durch einen in bekannter Weise an ihrer
Unterseite erzeugten Unterdruck. Der Teller 2 ist mittels einer vertikalen Achse 3 drehbar gelagert, wobei
die bei der Drehbewegung auftretenden Fliehkräfte dazu dienen, das auf der Oberfläche der Halbleiterscheibe
zunächst deponierte Lackmaterial so zu verteilen, daß sich über der ganzen Oberfläche der Halbleiterscheibe
1 eine Lackschicht mögüchst gleichmäßiger Dicke bildet. Ein den Teller 2 umgebender zylinderförmiger
Schleuderbehälter 4, der mit einem Deckel 5 versehen ist, weist eine mit seinem Bodenteil 6
verbundene, ringförmige Kanalzone 7 auf, die die bei der Drehbewegung des Tellers 2 von der Oberfläche der
Halbleiterscheibe 1 abgeschleuderten Lackreste 8 aufnimmt.
Das Bodenteil 6 weist ferner eine zweite ringförmige Kanalzone 9 auf, die durch eine ringförmige Zwischenwand
10 von der Kanalzone 7 getrennt ist. Somit liegt die Kanalzone 9 konzentrisch zu der Kanalzone 7 und
ist innerhalb der letzteren angeordnet. Die Höhe der Zwischenwand 10 ist dabei so gewählt, daß keine
abgeschleuderten Lackteilchen in die Kanalzone 9 gelangen können. Füllt man nun in die Kanalzone 9
flüssigen Lack oder das Lösungsmittel 11 ein, so steigt der partiale Dampfdruck des in dem Lackmaterial
enthaltenen Lösungsmittels innerhalb des Schleuderbehälters 4, 5 durch die zusätzliche Verdampfung aus der
Kanalzone 9 auf einen Wert, der höher ist, als derjenige, der sich bei der Verdampfung des Lösungsmittels aus
der auf der Halbleiterschicht 1 deponierten bzw. auf dieser verteilten Lackmenge allein ergeben würde. Das
führt dazu, daß die Verdampfungsgeschwindigkeit des in dieser Lackschicht enthaltenen Lösungsmittels pro
Zeiteinheit und Flächeneinheit abnimmt. Die sich daraus
ergebende niedrige Abdampfrate des Losungsmittels aus der Lackschicht auf der Halbleiterschicht !
verhindert ein zu schnelles Antrocknen der Lackoberfläche und damit eine Streifenbildung in der Lackschicht,
die bei sonst unveränderten Bedingungen bei einer normalen Abdampfrate auftreten würde.
Der Deckel 5 ist bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel gegenüber dem oberen Rand des Schleuderbehälters
4 in einem solchen Abstand gehalten, daß zwischen beiden Teilen ein ringförmiger Spalt der
Breite A entsteht Das wird durch mindestens drei Abstandsschrauben erreicht, von denen zwei dargestellt
und mit 12 und 13 bezeichnet sind, wobei diese Schrauben in Gewindebohrungen einer flanschartigen
Randzone 14 des Deckels 5 gehalten werden und sich mit ihren Enden auf einem flanschartigen Ansatz 15 der
Wandung des Schleuderbehälters 4 abstützen. Durch
Einstellen der Abstandsschrauben, die mittels Muttern 16, 17 gegen eine unerwünschte Versteilung gesichert
werden, gelingt es, die Spaltbreäe A so zu bemessen, daß ein gewünschter Wert der Verdampfungsgeschwindigkeit
des Lösungsmittels bzw des partialen Lösungsmitteldrucks im Inneren des Schleuderbehälters erreicht
wird.
Bei praktischen Versuchen wurde z. B. festgestellt, daß bei Verwendung eines bestimmten Photolacks eine
Spaltbreite A von etwa 1 mm eine solche Verdampfungsgeschwindigkeit ergab, daß trotz einer relativ
kurzen Schleuderzeit von etwa 10 see keine nennenswerten Dickenschwankungen der Lackschicht auftraten.
Diese Zahlenwerte sollen jedoch nur zur Erläuterung der Erfindung dienen und begrenzen den
Einstellbereich der Spaltbreite, der Abdampfrate des Losungsmittels und der Schleuderzeit in keiner Weise.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (3)
1. Anordnung zum Aufbringen einer lichtempfindlichen Lackschicht auf eine Halbleiterscheibe, die
einen mit einem Deckel verschlossenen zylinderförmigen Schleuderbehälter und in dem Schleuderbehäiter
einen drehbar gelagerten Teller enthält, auf dem die Halbleiterscheibe gehalten wird, wobei die
Halbleiterscheibe zum Aufbringen der lichtempfindlichen Lackschicht auf ihrer freien Oberfläche mit
einer vorgegebenen Lackmenge belegt und zur gleichmäßigen Verteilung der Lackmenge vermittels
der Fliehkraft mitsamt dem Teller gedreht wird, bei der ferner der Bodenteil des Schleuderbehälters eine
erste ringförmige Kanalzone aufweist, in der die beim Drehen der Halbleiterscheibe weggeschleuderten
Lackteile aufgefangen werden und bei der der Partialdruck eines in der Lackschicht auf der
Kalbleiterscheibe enthaltenen Lösungsmittels dadurch erhöht ist, daß die Atmosphäre im Schleuderbehälter
mit dem Dampf des Lösungsmitteis angereichert ist, dadurch gekennzeichnet,
daß im Schleuderbehälter (4) ein offener Behälter (9) enthalten ist, der das flüssige Lackmaterial oder das
Lösungsmittel (11) enthält, und daß zwischen dem Rand des Deckels (5) und dem Rand des
Schleuderbehälters (4) ein Spalt einstellbarer Breite (^vorhanden ist.
2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Deckel (5) eine flanschartige
Randzone (14) aufweist, deren Abstand zu einem flanschartigen Ansatz (15) der Wandung des
Schleuderbehälters (4) mittels in der Randzone (14) oder dem Ansatz (15) gehaltener Abstandschrauben
(12,13) einstellbar ist.
3. Anordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der offene Behälter (9) eine
zweite ringförmige Kanalzone des Bodenteils (6) darstellt, die konzentrisch zur ersten Kanalzone (7)
angeordnet ist und die einen kleineren äußeren Radius aufweist als die erste Kanalzone (7).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19772743011 DE2743011C2 (de) | 1977-09-23 | 1977-09-23 | Anordnung zum Aufbringen einer lichtempfindlichen Lackschicht auf eine Halbleiterscheibe |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19772743011 DE2743011C2 (de) | 1977-09-23 | 1977-09-23 | Anordnung zum Aufbringen einer lichtempfindlichen Lackschicht auf eine Halbleiterscheibe |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2743011A1 DE2743011A1 (de) | 1979-03-29 |
DE2743011C2 true DE2743011C2 (de) | 1982-06-03 |
Family
ID=6019782
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19772743011 Expired DE2743011C2 (de) | 1977-09-23 | 1977-09-23 | Anordnung zum Aufbringen einer lichtempfindlichen Lackschicht auf eine Halbleiterscheibe |
Country Status (1)
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DE (1) | DE2743011C2 (de) |
Families Citing this family (6)
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JPS5833697B2 (ja) * | 1979-12-17 | 1983-07-21 | ヱム・セテツク株式会社 | フオトレジストの両面塗布装置 |
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1977
- 1977-09-23 DE DE19772743011 patent/DE2743011C2/de not_active Expired
Also Published As
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