DE2656723A1 - Vorrichtung zur behandlung von werkstuecken im vakuum - Google Patents
Vorrichtung zur behandlung von werkstuecken im vakuumInfo
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Description
BLUMBACH · WESER · BERGEN · KRAMER ZWIRNER · HIRSCH
PATENTANWÄLTE IN MÜNCHEN UND WIESBADEN
Postadresse München: Patentconsult 8 München 60 Radeckestraße 43 Telefon (089) 8836o'3/883604 Telex 05-212313
Postadresse Wiesbaden: Patentconsult 62 Wiesbaden Sonnenberger Straße 43 Telefon (06121) 562943/561998 Telex 04-186237
Western Electric Company, Roth 1-1
Incorporated
NEW YORK (N.Y.) 10007 U.SiA.
Vorrichtung zur Behandlung von Werkstücken im Vakuum.
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zur Behandlung von Werkstücken im Vakuum, die eine Behandlungskammer
und eine außerhalb der Kammer, jedoch mit dieser in Verbindung stehenden erste Pumpe aufweist.
Zahlreiche Vorrichtungen zur Behandlung von Werkstücken im Vakuum einschließlich zahlreicher bekannter Zerstäübungsgeräten
machen es erforderlich, daß das Gerät jedesmal ausgepumpt wird, wenn das Gerät erneut mit Werkstücken chargiert
wird. Die Zeit zum Auspumpen kann ziemlich lang dauern und stellt häufig einen beachtlichen Anteil der gesamten Verarbeitungszeit
dar, so daß es wünschenswert wäre, die Auspumpzeit zu reduzieren. Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe
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München: Krarner · Dr. Weser · Hirsch — Wiesbaden: Blumbach · Dr. Bergen · Zwirner
zugrunde, die Vorrichtung der eingangs angegebenen Art so auszugestalten,
daß eine Verringerung der Auspumpzeit gelingt.
Gemäß Erfindung wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß die Vorrichtung
eine zweite innerhalb der Kammer angeordnete Pumpe aufweist, daß eine kappenartige Haube zum Stülpen über die
zweite Pumpe ausgebildet ist, und zwar in abdichtender Weise zur Isolierung der Pumpe von einem Teil der Kammer, und daß
eine Einrichtung zum wahlweisen Verschieben der kappenartigen Haube in die abdichtende Lage vorgesehen ist.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird anhand der Zeichnung erläutert. Dabei zeigt:
Fig. 1 einen Schnitt durch ein Zerstäubungsgerät, Fig. 2 einen Schnitt entlang der Linie 2-2 in
Fig. 1,
Fig. 3 eine Vorderansicht eines Werkstückhalters
Fig. 3 eine Vorderansicht eines Werkstückhalters
in Form einer Palette zum Gebrauch in dem
Gerät Fig. 1 und 2, und Fig. 4 eine vergrößerte Einzelheit der Palette
nach Fig. 3, jedoch von der Rückseite her
gesehen.
Fig. 1 zeigt ein Zerstäubungsgerät 10 gemäß Erfindung. Das Gerät
10 stellt dem Grunde nach ein glockenartiges Gefäß dar und
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weist einen topfförmigen im großen und ganzen zylindrischen
Hauptdeckel 12 und eine Basisplatte 14 auf, die in hermetisch dichtender Weise zueinander ausgebildet und angeordnet sind.
Eine pneumatische Anhebevorrichtung 15 bekannter Art dient zum Anheben des Deckels 12 von der Basisplatte 14, so daß die
Werkstück-Behandlungskammer in der Vorrichtung frei wird.
Um die Vorrichtung 10 auszupumpen, können an sich bekannte Pumpen verwendet werden, beispielsweise eine Mittelvakuumpumpe,
die an einer durch die Basisplatte 14 führenden Leitung 16 anschließbar
ist und bis herab zu ungefähr 100 Torr betrieben werden kann. Um die Vorrichtung auf einen noch weiter reduzierten
Druck auszupumpen, z. B. auf ungefähr 5 x 10 ^ Torr, kann eine bekannte Kombination aus einer Vorpumpe und einer
Turbomolekularpumpe benutzt werden, die nicht dargestellt sind, jedoch an einer Leitung 17 (Fig. 2) anschließbar sind. Um ein
relativ hohes Vakuum, beispielsweise 5 x 10 Torr zu erzielen, ist noch eine Hochvakuumpumpe 18 (Fig. 1) vorgesehen, die zur
"Reinigung" der Vorrichtung vor der jeweiligen Inbetriebnahme dient. Gemäß Erfindung ist diese Hochvakuumpumpe 18, beispielsweise
eine Kältefalle-Pumpe bekannter Art,auf der Basisplatte
14 im Inneren der Vorrichtung vorgesehen. Die Bedeutung dieser Anordnung der Pumpe innerhalb der Vorrichtung
wird später erläutert.
Um die Pumpe 18 von der Umgebungsluft zu trennen, wenn der
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-M-
Deckel 12 angehoben ist, und auch um die Pumpe von den umgebenden Teilen der Vorrichtung 10 während deren Operation zu
isolieren, ist eine getrennte kappenartige Haube oder^Schutzmantel
20 vorgesehen, der eine hermetische Abdichtung zusammen mit der Basisplatte 14 bildet. Um die Pumpe 14 mit den
umgebenden Teilen des Geräts zu verbinden, wird der Schutzmantel 20 angehoben, wie in strichpunktierten Linien in Fig. 1
angedeutet, und hierzu dient eine Antriebsspindel 26 und ein unterhalb der Basisplatte 14 angebrachter Motor 28. Ein Balg
30 dichtet die Spindel 26 innnerhalb des Geräts ab, wenn die zugehörige Mutter nach oben oder unten verschoben wird, natürlich
immer·innerhalb des Hauptdeckels 12.
Vier zusammengesetzte Kathodentargets 34, 36, 38 und 40 (Fig. 2)
mit jeweils einem Target 34a, 36a, 38a und 40a aus dem zu zerstäubenden Material, welches auf die in dem Gerät 10 angebrachten
Werkstücken niedergeschlagen v/erden soll, sind innerhalb des Geräts 10 auf der Seitenwandung 42 des Hauptdeckels 12 angeordnet.
Die Target-Anordnungen weisen eine Werkstückbehandlungseinrichtung
bei der Ausführungsform der Erfindung auf. Durch die Wandung 42 sind elektrische Verbindungen und Wasserkühleinrichtungen
für die Target-Anordnungen gezogen, wie schematisch dargestellt. Die Target-Anordnungen sind um jeweils
90° voneinander am Umfang des Hauptdeckels 12 verteilt und zwei sich gegenüberstehende Anordnungen 34 und 38 weisen Targets
34a und 38a aus Titan und die beiden restlichen sich gegenüber-
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stehenden Anordnungen 36 und 40 weisen Targets 36a und 40a aus Platin auf. Die Targets erstrecken sich im großen und ganzen
parallel zur Längsachse des Geräts. Es können mehr als vier Target-Anordnungen und Targets aus unterschiedlichem Material
gegebenenfalls benutzt werden.
Die Target-Anordnungen sind gemäß bekannten Prinzipien ausgebildet
und können beispielsweise ein hohles Gehäuse aufweisen, in welchem Kühlwasser umgewälzt wird. Die Targets selbst weisen
eine z. B. rechteckige Platte des zu zerstäubenden und niederzuschlagenden Materials auf, welche auf der Innenseite
des Gehäuses der Target-Anordnung gefestigt ist. Beispielsweise Abmessungen von verschiedenen Targets werden später an-
! gegeben.
Es kann ein einzelnes Werkstück oder eine beliebige Anzahl von unterschiedlichen Werkstücken von der vorliegenden Vorrichtung
bearbeitet werden, und in der dargestellten Ausführungsform bestehen die Werkstücke aus scheibenförmigen Plättchen 44
(Fig. 4) aus Halbleitermaterial und mit 76,2 cm (3 Zoll) Durchmesser. Als Werkstückhalter für die Plättchen 44 ist eine
bekannte Art von Palette 46 (Fig. 3 und 4) vorgesehen, die aus relativ dünnen rechteckigen Platten mit einer Anzahl von Konterbohrungen
50 bestehen, wobei auf der Vorderseite (Fig. 3) ein geringerer Durchmesser 51 vorgesehen ist, so daß ein vorstehender
Rand 51' einen Anschlag für die Plättchen 44 bildet,
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wie in Fig. 4 dargestellt. Gegen diesen Anschlag 51f werden
die Plättchen 44 mittels eines federnden Drahtes 52 gedruckt, der die jeweilige Bohrung 50 überspannt und in schwalbenschwanzartigen
Nuten 53 auf der Rückseite der Palette festgeklemmt wird.
Die mit Y/erkstücken beladenen Paletten 46 werden wiederum auf
eine drehbare ringeförmige Plattform oder Karussell 54 (Fig. 1) innerhalb des Geräts 10 montiert und die unterschiedlichen
Paletten sind seitlich nebeneinander, vertikal und in einer zylinderförmigen Zusammensetzung oder Anordnung auf dem Karussell angebracht. Einfache, nicht dargestellte federnde Rasteinrichtungen können zum Festhalten der Paletten an richtiger Stelle benutzt werden. Bei Plättchen 44 mit einem Durchmesser von ungefähr 7,6 cm mißt jede Palette 46 ungefähr 9,2 auf
37,4 cm und das Karussell 54 hat einen Außendurchmesser von ungefähr 76 cm bei sechsundzwanzig darauf angebrachten Paletten 46.
Paletten sind seitlich nebeneinander, vertikal und in einer zylinderförmigen Zusammensetzung oder Anordnung auf dem Karussell angebracht. Einfache, nicht dargestellte federnde Rasteinrichtungen können zum Festhalten der Paletten an richtiger Stelle benutzt werden. Bei Plättchen 44 mit einem Durchmesser von ungefähr 7,6 cm mißt jede Palette 46 ungefähr 9,2 auf
37,4 cm und das Karussell 54 hat einen Außendurchmesser von ungefähr 76 cm bei sechsundzwanzig darauf angebrachten Paletten 46.
Zur konzentrischen Lagerung des Karussells 54 um die Pumpe 18 sind Lager 56 vorgesehen, die jeweils auf pfostenartigen Trägern
58 sitzen, welche rund um die Pumpe 18 verteilt angeordnet sind. Zur Drehung des Karussells 54 ist ein angetriebenes
Zahnrad 60 und ein Zahnkranz 62 vorgesehen. Der Antriebsmotor 64 des Zahnrads 60 sitzt unterhalb der Basisplatte 14. Wie
noch ausführlich beschrieben wird, bringt das Karussell 54 die
noch ausführlich beschrieben wird, bringt das Karussell 54 die
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verschiedenen Paletten 46 nacheinander in eine Lage gegenüber den Target-Anordnungen 34, 36, 38 und 40, wobei von diesen
Targets zerstäubtes Material auf den Halbleiterplättchen niedergeschlagen
wird.
Zur Steuerung der Gleichmäßigkeit und Reinheit des auf die Plättchen 44 niederzuschlagenden Materials am Beginn und Ende
eines Verarbeitungszyklus ist eine zylindrische Blende 66 vorgesehen, die auf einer ringförmigen drehbaren Plattform 68 befestigt
ist und mit dem Karussell 54 zusammenarbeitet. Die Plattform 68 sitzt mit ihren Lagern 70 auf j&stenartigen Trägern
72, die um die Pumpe 18 herum verteilt angeordnet sind. Die Blende 66 umgibt die Anordnung der Paletten 46 in konzentrischer
Weise, wie dargestellt. Die Innenseite der ringförmigen Plattform 68 ist als Zahnkranz 74 ausgebildeten welchem ein
Zahnrad 76 eingreift, das durch einen Motor 78 unterhalb der Basisplatte 14 antreibbar ist. Dadurch kann die Plattform 68
und damit auch die Blende 66 in passender Weise gedreht werden. Die Blende 66 hat einen Außendurchmesser von ungefähr 84 cm,
eine Wandstärke von ungefähr 1,6 mm und die Entfernung zu den Targets, gemessen zu den jeweiligen Mittelpunkten.der flachen
Platten, beträgt ungefähr 32 mm.
Wie in Fig. 2 dargestellt, weist jede zylindrische Blende 66 zwei rechteckförmige Öffnungen 80 und 82 auf, die um 180° voneinander
entfernt angeordnet sind, sich in Längsrichtung er-
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strecken und im wesentlichen der Gestalt und Abmessung der Targets 34a, 36a, 38a und 40a entsprechen. Beispielsweise hat
jedes Target 34a, 36a, 38a und 40a eine Höhe von ungefähr 42 cm und eine Breite von ungefähr 29 cm, während die Blendenaussparungen
80 und 82 eine Höhe von ungefähr 41 cm und eine Breite von ungefähr 27 cm aufweisen.
Ein Rohr 86 erstreckt sich durch die Basisplatte 14 und dient zur Zuführung eines Gases, beispielsweise Argon.
Als Werkstoff für die beschriebenen Geräteteile, beispielsweise die Paletten 46, das Karussell 54, die Verschlußblende 66 usw.
kommt vorzugsweise rostfreier Stahl in Betracht. Da die Geräte zum Zerstäuben und Niederschlagen von Materialien auf Werkstücken
hinsichtlich ihres Aufbaues und ihres Betriebs bekannt sind, beispielsweise, hinsichtlich der elektrischen Leistungsversorgung, der verschiedenen Steuerschaltungen, der Target-Anordnungen
und dergleichen, brauchen weitere Angaben nicht gemacht werden.
Von besonderer Bedeutung ist die Lage der Hochvakuumpumpe 18 direkt und zentral in der Vorrichtung 10 selbst, das heißt,
entlang der Längsachse der Werkstückbehandlungskammer des Geräts, Drehbare Vakuumbehandlungsgeräte der beschriebenen Art sind an
sich bekannt und ihr Vorteil besteht darin, daß eine relativ große Anzahl von Werkstücken bei jeder Charge eines Behand-
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lungszyklus verarbeitet werden kann. Eine Beschränkung der Herstellungsgeschwindigkeit der bekannten Geräte ist Jedoch
die Auspumpzeit der Geräte.
Bei Geräten der beschriebenen Art führt die Lage der Pumpe direkt in dem Gerät dazu, daß die Auspumpzeit im starken Maße
verringert werden kann. Dies liegt daran, daß die Gasleitung, das heißt, die Gasflußmenge zur "Gassammelstelle11 oder Hochvakuumpumpe
nicht durch den Querschnitt, die Länge oder Gestalt von Leitungen beschränkt ist, die von dem Gerät zu der
Pumpe führen. Tatsächlich ist die Querschnittsfläche mit Bezug auf die Leitung von Gasen zur Pumpe 18 in der erfindungsgemäßen
Vorrichtung in der Größenordnung der Mantelfläche der zentral angeordneten Pumpe selbst, das heißt, der Größe des Zylinders,
welcher die Pumpe umgibt. Wegen der zentralen Lage innerhalb der Vorrichtung ist außerdem die Weglänge der Gase zu der
Pumpe minimalisiert.
In der dargestellten Ausführungsform ist die Pumpe 18 (Fig. 1) als bekannte Kältefallepumpe (kryogenische Pumpe) ausgebildet
und weist eine Mehrzahl von vertikalen Rohren 90 sowie zwei diese verbindende horizontale ringförmige Rohre 92 auf. über
ein Zuführungsrohr 94 wird flüssiger Stickstoff in das untere
Rohr 92 gepumpt, dieser steigt, durch die vertikalen Rohre 90
zum.oberen Rohr 92 auf und wird durch ein weiteres vertikales Rohr 95 an eine Austrittsleitung 96' abgegeben. Diese Art von
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Pumpe sammelt Gase ein, die bei hötierer Temperatur als der
von flüssigem Stickstoff ausfrieren,beispielsweise Sauerstoff und Wasserdampf, das heißt, diese Gase schlagen sich auf der
kalten äusseren Oberfläche der ΊΕ^ρββΙ^β'ηΐβ nieder· ·
Wenn diese Kältefalle-Pumpe deinInneren/des umgebenden Geräts
ausgesetzt ist, das heißt, wenn der; Mäntel 20 angehoben ist
(strichpunktierte Lage in #igvi), steht praktisch die gesamte
Oberfläche der Pumpe mit dem umgebenden Gerät in Verbindung und
noch vorhandene Gase können im Grunde unbehindert auf direkten
Wegen zu der Pumpe gelangen. Daher ist die effektive Qtüerschnitte·
fläche des zu der Pumpe strömenden Gasflüssesziemlich hoch und
bedeutend größer als der von bekannten teittüigen,.die normalerweise
verwendet: werden, um Höcnvaklrüm^ümpen mit zu evakuierenden
Kammern zu verbinden, im Vergleich mit bekannten Vakuumgeräten,
in denen konventionelle Hochvakuumpumpen außerhalb der zu evakuierenden Kammer benutzt weräett, weist iliV vorliegende
Anordnung eine signifikant höhere Gassammeigeschwindigkeit oder Pumpengeschwindigkeit auf. ^
Es wird damit gerechnet, daß die Pumpgeschwindigkeit des Geräts,
bei welcher die Hochvakuumpumpe innerhalb dee Geräts angeordnet
ist, wie beschrieben, ungefähr zweimal so hoch 1st wie wenn die
Identische Hochvakuumpumpe außerhalb des Geräts angeordnet wäre
und an dieses über eine Leitung mit 152,4 mm Durchmesser (6 Zoll) und einer Länge von 254 mm (10 Zoll) angeschlossen wäre.
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ORIGINAL INSPECTED
Es können auch andere Arten bekannter Hochvakuumpumpen Verwendung finden, beispielsweise magnetische Ionen-Pumpen oder
Differentialionen-Pumpen. Entsprechend kann auch eine Kältefalle-Pumpe
verwendet werden, bei der Platten im Peltierprozeß gekühlt werden, statt der Kühlung durch Flüssigkeiten.
Wenn der Mantel 20 seine untere, die Pumpe 18 umschließende
Dichtlage einnimmt, wird der Hauptdeckel 12 angehoben und eine Anzahl von Paletten 46 mit daran angebrachten Plättchen werden
auf dem Karussell montiert. Daraufhin wird der Hauptdeckel 12 abgesenkt und das Gerät 10 abgedichtet. Die Niedervakuumpumpe
beginnt dann das Gerät über die Leitung 16 auszupumpen. Venn der Druck im Gerät ungefähr 100 Torr erreicht, werden die in
Tandem geschaltete Turbomolekular- und die Vorpumpe zur weiteren Evakuierung des Geräts über die Leitung 17 bis auf einen
Druck von ungefähr 5 x 10 J Torr eingesetzt. Danach wird der
Pumpenmantel 20 innerhalb des Geräts 10 angehoben und die Pumpe 18 den umgebenden Teilen des Geräts ausgesetzt. Die Pumpe
18 kooperiert dann mit der Turbomolekularpumpe, die während des folgenden Betriebs des Geräts in Operation bleibt, wodurch
schließlich der Druck auf ungefähr 5 x 10 ' Torr sinkt.
Wie zuvor beschrieben, führt die Anwesenheit der Pumpe 18 direkt in dem Gerät 10 zu einer bedeutenden Erhöhung der Geschwindigkeit,
mit welcher die Gase während der Hochvakuumphase "eingesammelt" werden.
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Venn Titan oder andere reaktive Materialien, beispielsweise Tantal, in dem erfindungsgemäßen Gerät durch Zerstäuben niedergeschlagen werden" sollen, wird vorzugsweise ein erneuter Pumpschritt
vor dem Beginn des Niederschiagens eingeschaltet. Daher wird der Pumpenmantel 20 wieder in die abdichtende Lage um die
Pumpe 10 abgesenkt und des wird Argon in einer Menge zugeführt,
—^ -2 so daß sich ein Druck in dem Gerät zwischen 5 x 10 und 10
Torr einstellt. Wie in Fig. 2 dargestellt, stehen dabei die Blendenöffnungen 80 und 82 im Winkel von 145°, gesehen entgegen
der Richtung des Uhrzeigersinns, zu den Targets 34a bzw. 38a, so daß die Werkstückpaletten 46 gänzlich von den Targets 34a
und 38a infolge der Verschlußblende 66 abgeschirmt sind. Eine . Spannungsdifferenz von ungefähr 2000 V mit einer Frequenz von
13*5 mHz wird dann an die Verschlußblende 66 und die beiden Targets 34a und 38a angelegt, um das Zerstäuben dieser Targets
einzuleiten. Die Verschlußblende 66 wird dann um ungefähr 110°
im Uhrzeigersinn gedreht, so daß im wesentlichen die gesamte aussere Oberfläche der Verschlußblende 66, jedoch nicht die
Paletten 46, den Targets 34a und 38a ausgesetzt ist. Auf diese Weise wird eine großflächige Schicht von Titan auf der Verschlußblende
niedergeschlagen·
Die Titanschicht oder eine entsprechende Schicht andertn reaktiven Materials wird auf der Verschlußblende 66 aus awti Gründen
niedergeschlagen. Einmal führt die Vorztratäubung der Targets
zu einer Reinigung von verschiedenen Oberflächenverunrei-
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iinä zweitens wird durch die großflächige Tltanschicht
ft %£eiiiäeii? w^i&^ gescnaffeny
beispielsweise Sauerstoff Stickstoff und Wasserdampf»
Um %iw dei£ J^üipW J^tzufaaVon, ^irüd· dann der: Zustrom von Argon
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Torr mittels der Molekularpumpe ausgepumpt und die Hochvakuumpumpe
18 vird erneut ^eifeg^Mätil^ isaidaö da^ ßerät weiter attf
ungefähr^ a^^iCi"' 5Cbi*r 1i1>er£^e; Ρϋϋφ# IS and idle iiCuiijoiaolefcularpumpe
ausgepumpt wird. B3a£ Äöweseftfieiit ider^ Mta^gfetMfcei*schicht
Ä^ ^ ä&ermm Auspumpen^ de» iSysteras
atff 2 χ iOT- Äöa*r* Ea ein
deren' Reinigung durchgeführt werden^ Ιηώ^ 4sedetite*p dieii^i^ßiida^iVoi^eTstMulieit zum rascheren
undli«£i^ia^e*eii AUÖpiäBpetir de^^ ^stems^ verwendet wird^ : --: -::
Nachdem ein ziemlich niedriger Druck erreicht worden ist« und
zwar für den doppelten Zweck des Nachweises, daß daß System im wesentlichen leclcdicht ist und eine Ifcigelning Metet, die im
großen und ganzen von kontaminierenden Gasen frei ist, wird der
Niederachlagungsprozeß gestartet« Die Pumpe 18 wird erneut mit
den Mantel 20 gegen das uegeoende Gerät isoliert, es wird erneut
Argon in einer Menge tugeführt, daß ein konstanter Druck zwischen
P »iöisiihen den Paletten Ma den Uarget» 3^ä und 39a ange
legt, um die Zerstäubung dieser Targets 2U. beWirken* JDas A3?- .
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trennen der Pumpe 18 erfolgt, damit diese nicht unnötigerweise mit Argon beladen wird.
Die Verschlußblende 66 wird so gedreht, daß die Blendenöffnungen 80 und 82 den Titantargets 34a bzw. 38a gegenüberstehen und das
Karussell 54 wird so gedreht, daß aufeinanderfolgend die eine Hälfte der Paletten 46 auf dem Karussell dem einen Target 34a
oder 38a durch die Blendenöffnung hindurch ausgesetzt wird, während die andere Hälfte der Palette dem anderen Target ausgesetzt
ist, Daher werden alle von den Paletten 46 getragenen Plättchen 44 mit Titan durch Zerstäubung beschichtet.
Nach dem Schritt des Niederschiagens von Titan werden die Platintargets 36a und 40a vorzerstäubt, um sie von den Oberflächenverunreinigungen
zu befreien, die Blendenöffnungen 80 und werden dann zu den Platintargets 36a und 40a ausgerichtet und
das Karussell 54 wird erneut so gedreht, daß die Paletten nacheinander den beiden Targets 36a und 40a ausgesetzt werden, um
die Plättchen 44 mit Platin zu beschichten. Danach ist der Werkstückbehandlungsprozeß beendigt.
Wie zuvor beschrieben, hält die Kältefalle-Pumpe 18 Gase auf
ihrer Oberfläche fest. Während der Reinigung des Geräts wird deshalb die Pumpe 18 periodisch erwärmt, beispielsweise durch
Hindurchleiten von heißem Stickstoff durch die Pumpenrohre 90 und 92, und die ausgefrorenen Gase "kochen" weg.
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Zwar ist die Erfindung in Verbindung mit einem Zerstäubungsgerät beschrieben worden, die Erfindung hat aber auch ihre
Nützlichkeit bei anderen Vakuumbehandlungsgeräten, beispielsweise Beschichtungsgeräte mit Glühfaden-Verdampfung und Elektronenstrahlverdampf ung.
Nützlichkeit bei anderen Vakuumbehandlungsgeräten, beispielsweise Beschichtungsgeräte mit Glühfaden-Verdampfung und Elektronenstrahlverdampf ung.
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Claims (4)
1. Vorrichtung zur Behandlung von Werkstücken in Vakuum
• in einer Behandlungskammer und mit einer ersten Pumpe außerhalb der Kammer und in Verbindung mit dieser,
dadurch gekennzeichnet, daß eine zweite Pumpe (18) innerhalb der Kammer angeordnet
ist, daß eine kappenartige Haube (20) zum Stülpen über die zweite Pumpe sowie zu ihrer Abdichtung gegenüber
einem Teil der Kammer ausgebildet ist, und daß eine Einrichtung (28) zur wahlweisen Verschiebung der
kappenartigen Haube (20) in die abgedichtete Lage vorgesehen ist.
709827/0911
München: Kramer · Dr. Weser · Hirsch — Wiesbaden: Blumbach · Dr. Bergen · Zwirner
-VT-
2. Vorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß innerhalb des Teilstücks der Kammer eine Werkstückanordnung (46) und eine Werkstückbehandlungseinrichtung
(34) angeordnet sind.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Pumpe(18)in zentraler
Lage der Kammer angeordnet ist, daß die Werkstückanordnung (46) die zweite Pumpe (18) konzentrisch umgibt und daß
die Behandlungseinrichtung (34, 36, 38, 40) radial außen zu der Werkstückanordnung (46) angeordnet ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die kappenartige Haube (20) um ein solches Stück verschiebbar ist, daß im wesentlichen
die zweite Pumpe (18) zu dem Teilstück der Kammer im wesentlichen frei wird.
709S27/0911
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US05/642,043 US4022939A (en) | 1975-12-18 | 1975-12-18 | Synchronous shielding in vacuum deposition system |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2656723A1 true DE2656723A1 (de) | 1977-07-07 |
DE2656723B2 DE2656723B2 (de) | 1979-07-19 |
DE2656723C3 DE2656723C3 (de) | 1980-03-06 |
Family
ID=24574944
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2656723A Expired DE2656723C3 (de) | 1975-12-18 | 1976-12-15 | Vorrichtung zur Behandlung von Werkstücken im Vakuum |
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Country | Link |
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US (2) | US4022939A (de) |
JP (1) | JPS5276279A (de) |
BE (1) | BE849387A (de) |
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