DE2641300A1 - Vorrichtung zur herstellung von tafelglas - Google Patents
Vorrichtung zur herstellung von tafelglasInfo
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B18/00—Shaping glass in contact with the surface of a liquid
- C03B18/02—Forming sheets
- C03B18/18—Controlling or regulating the temperature of the float bath; Composition or purification of the float bath
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Description
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7. Γν :*-?
Wsesojusnyj nautschno-issledowatelskij 14. September 1976
institut technitscheskowo i spezialnowo G/Hu
stroitelnowo stekla llWNIITEσHSTROJSTEKLOll,
Saratow / UdSSR P 66 298
VORRICHTUNG ZUR HERSTELLUNG WN TAFELGLAS
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Herstellung
von Tafelglas.
Bekannt sind Verfahren und Vorrichtungen zur Herstellung
von Tafelglas aus Glasmasse durch Gießen eines kontinuierlichen Glasbandes und seine Verschiebung unter gleichzeitiger
Kühlung an der Oberfläche des geschmolzenen Letalls.
Eines der bekannten Verfahren und. die Vorrichtung zu
seiner Verwirklichung sieht die Bandkühlung an der !»ietallschmelze
ois zu einer Temperatur vor, bei der Glas erstarrt, um die weitere Beförderung des herzustellenden Bandes an den
Rollgangwalzen des Glühofens durchführen zu können, ohne seine untere Oberfläche, die mit Walzen in Berührung steht,
zu. beschädigen· Für Glas mit einer Alkali-Alumosilikat-
-Zusammensetzung liegt diese Temperatur unter 60O0C.
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Um die vom beweglichen Glasband freien Oberflächen des
geschmolzenen Metalls gegen Oxydation zu schützen, wird im Bad Schutzgas gehalten, das aus einem Gemisch von Stickstoff
und Wasserstoff besteht.
Ein Nachteil dieses Verfahrens ist die Möglichkeit der
ketalloxydation in der Austrittzone des ülasbandes aus dem
Bad, insbesondere bei einer Glastemperatur von 6OO-65O C und
unter dieser Temperatur. Solche Möglichkeit entsteht auf Grund von Besonderheiten aer therm odynamxscnen -tieaktion, die
zwischen geschmolzenem Lietall, das im angeführten Prozeß vex'wendet wird, den im Schutzgas enthaltenen üasen sowie dem
Sauerstoff ,der mit Glas zusammen ins Bad gelangt, vor sich geht. Die metalloxyde können an die untere Oberfläche des
Glasbandes gelangen und seine untere Oberfläche verunreinigen.
Ein anderes bekanntes Verfahren unterscheidet sich vom
oöengeschilderten dadurch, daß das Glasband an aer Ooerfläche
aes geschmolzenen Metalls auf eine temperatur von 700-85O0C
heruntergekühlt wird und danach das Glasband auf ein Gaskissen übergeführt wird, wo seine v/eitere Kühlung erfolgt.
Ein .Nachteil dieses Verfahrens besteht darin, aaß das
Glasband bei einer Temperatur über VOO0G über eine ungenügende
Härte verfügt, deswegen en ordert der Prozeß während des üüergangs von der üietallscomelze auf das Gaskissen eine
äußerst hohe Stabilität. Anderenfalls kann das Glasband an
der Übergangsstelle von der Oberfläche des geschmolzenen
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Metalls auf das Gaskissen den tievr±buvu^il der Gaskissenplatte
berühren, was unvermeidlich zur Beschädigung der unteren Oberfläche das GlasDandes führt, aie die Qualität
aes hergestellten Glases herabsetzt. Das schafft große
der
Schwierigkeiten bei Bedienung der Anlage und erfordert vom Bedienungspersonal eine gute Ausbildung und eine große Erfahrung beider Arbeit mit solchen Anlagen.
Schwierigkeiten bei Bedienung der Anlage und erfordert vom Bedienungspersonal eine gute Ausbildung und eine große Erfahrung beider Arbeit mit solchen Anlagen.
Ziel vorliegender Erfindung ist die Beseitigung der obengenannten
.Nachteile.
Der vorliegenden Erfindung lie^t die Aufgabe der entwicklung
einer solchen Vorrichtung zur Glasherstellung zugrunde, bei der die Härteerhöhung des Abschnitts des Glasbacaes
in seiner Übergangszone von geschmolzenem metall auf das Gaskissen gesichert wird.
Die gestellte Aufgabe wird aaaurch gelöst, daß in der
Vorxichtung zur Herstellung von Tafelglas aus Glasmasse, die
die einen Glasschmelzofen, ein Baa mit ketallschmelze für/formung
aes Glasbanaes und seine darauffolgende Kühlung, ein Littel
das zur Bildung eines Gaskissens und einen Kühlofen für/Glasband
enthält, erfinuungsgemäß auf dem Abschnitt des Glasoaniaustritts
aus uem uaa unmittelbar vor seiner Überführung von der ketallschmelze auf das Gaskissen im geschmolzenen ketall
Kühlmittel für eine gleichmäßige intensive Kürilung der unteren
ODerflache aes Glasbandes angeordnet sind..
Die vorgeschlagene Vorrichtung sichert die Verbesserung
der Qualität des. hergestellten Glases. Beim Übergang des
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Glasbandes aus dem Schmelzbad auf das Gaskissen wird die Härte der unteren überfläche des beweglichen Bandes erhöht,
wodurch seine Berührung mit Elementen, die das Gaskissen bilden, praktisch ausgeschlossen und die Ausschußhöhe dadurch
verringert wird.
Es ist zweckmäßig, wenn die Länge des Bandabschnitts, deileiner intensiven Kühlung ausgesetzt wird, im Bereich zwischen
1/30 bi-s Ι/15 von der Länge des Jctauelzebads lie^t
und dabei die genannten Kühlmittel mit der Möglichkeit der Bandkühlung mit einer Geschwindigkeit von mindestens 5°C/nek
pro 1 mm der Glasbandstärke angeordnet sind.
Es ist vorteilhaft, wenn in der Kühlungszone des Glasbandes auf die Metallschmelze im Bad Induktoren mit elektromagnetischen
Gegenfeldern angeordnet werden. In der Metallschmelze werden mit Hilfe elektromagnetischer ielder Ströme
erzeugt, aie die Ausbreitung des gekühlten Metalls im Bad
verhindern, d.h. eine beschränkte gekühlte üetallzone schaffen,
die auf die untere Oberfläche des Glasbandes besonders intensiv einwirkt.
Andere Ziele und Vorteile der vorliegenden Erfindung
werden aus nachfolgender konkreter Beschreibung der Ausführung der Vorrichtung und der beigefügten Zeichnung verständlich.
Es zeigt:
Fig.1 die erfindungsgemäße Vorrichtung (Längsschnitt);
Pig. 2 das Kühlsystem desjge schmolz en en Metalls im Bad.
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Die Vorrichtung enthält einen Kanal 1 (i'ig.1) für die
Zufuhr der Glasmasse 2 aus einem Glasschmelzofen (nicht dargestellt) in ein Schmelzbad 3, das mit einer Vorrich-
zu
iung 4 zur Regelung der in das Schmelzbad 3. zuführenden Glasmasse 2 und mit Thermoreglern 5 versehen ist. Die Vorrichtung
4- kann z.B. als ein Scnieber ausgeführt werden. Im Schmelz>bad 3 sind Kühler 6 sowie Induktoren 7 und 8 angeordnet.
Jeder der Induktoren 7 und 8 besteht aus einem Satz
Stahlplatten (in Fig. nicht gezeigt), au! die eine
Wicklung aufgewickext; wird (in Pig. nicht gezeigt), die von
einer Kraftquelle gespeist wird, die sich außerhalb des Laus 3 Defindet. Die Platten und die Wicklung weraen an
einem Versteifungsträger befestigt, der über eiern Deweulichen
Glasoand 2 in Querrichtung zu seiner üewegong angeordnet ist.
Die Induktoren 7 unci 8 werden so angeordnet, daß aie durch
sie erzeugten kc-gnetfeider einander entgegengerichtet sind.
Das £>ad 3 ist mit geschmolzenem metall 9 gefüllt. Hinter
ueiii .bad 3 1λ Kichtung der Bewegung aes Glasbanaes 2 iüt eine
Plat be 10 angeordnet, die ein Gaskissen bildet. Die Hatte uiaxaßt viele Düsen, denen ein Gas entströmt. Hinter der
Platte 10 ist ein Ofen 12 zum Glühen des Glasbandes 13 angeordnet.
Die Arbeitsweise der Vorrichtung ist wie folgt. Durch den Zulaufkanal 1 wird die Glasmasse 2 bei einer Temperatur
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von 1000-110O0C ins Schmelz/bad 3 eingeführt, das mit geschmolzenem
Metall 9 gefüllt ist. Mit Hilfe des Schiebeis4- wird
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die dem Bad 3 zi&uhrende Menge der Glasmasse 2 geregelt. Im
Bad 3 zerfließt die Glasmasse 2 über die Oberfläche aes geschmolzenen
ketalls 9 und wird zu ein kontinuierlichen Glasband 1J geformt, iait der !Fortbewegung aes Banaes 13 längs
dem Bad 3, dessen Temperaturregime durch Thermoregler 5 geregelt wird, reduziert man die Temperatur des zu formenden
Glasbandes 13 und im kurzen Abschnitt "A", unmittelbar vor seinem Austritt aus dem Bad 3» kühlt man seine untere Ober-
den
fläche intensiv ab, indem man/Kühler 6 unter den .bedingungen
aktiver Gegenströme des geschmolzenen Metalls 9 verwendet,
die durch elektromagnetische Felder der Induktoren und 8 erzeugt werden.
Die ivletallgegenströme 9» die duich Induktoren 7
und 8 gebildet werden, verhindern die Ausbreitung der Konvektionsströme, die durch das Vorhandensein einer unterkühlten
Zone des geschmolzenen Metalls 9 gebildet werden, in den Eingangsteil des Bads 3. Das fördert die Schaffung
einer konstanten beschränkten kalten Zone der intensiven Kühlung der unteren Oberfläche des Glasbandes 13 bei seinem
Übergang aus α em Schmelzebaa 3 auf aas Gaskissen. Die bevorzugte
Länge aes Abschnitts ·Α" der intensiven Kühlung derunteren Oberfläche des Glasbandes 13 beträgt 1/jSO bis 1/15
von der Länge des Schmelzybads 3.
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Die optimale Geschwindigkeit der Kühlung dieses Bandfebschnitts
13 beträgt 5°C/sek pro 1 mm der Glasbandstärke 13·
Nach dem Austritt des Glasbandes 13 aus deia SchmelzeDad 3
wird die Kühlung des Bandes auf dem Gaskissen fortgesetzt, wonach das Glas 13 im Ofen 12 geglüht wird.
Das Vorhandensein der gekühlten und infolgedessen in einem größeren Maße im Vergleich zur RestOberfläche erstarrten
unteren Oberfläche ues Bandes 13 sichert seinen stabilen Übergang von aer ketallschmelze 9 auf das Gaskissen,
wodurch die Durchführung des technologischen Prozesses erleichtert und die Qualität des hergestellten Glases 13
verbessert wird.
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Claims (3)
1. Vorrichtung zur Herstellung von Tafelglas aus Glasmasse,
die einen Glasschmelzeofen, ein Bad mit Metallschmelze zur Formung des Glasbandes aus Glasmasse und seine darauffolgende
Kühlung, ein jviiutel zur Bilauny eines Gaskissens
das
und einen Kühlofen für/Glasband enthält, dadurch gekennzeichnet , daß auf dem Abschnitt des Glasbandaustrxtts (13) aus dem Bad (3) unmittelbar vor seiner Überführung von aer imeueaxtioiiiuelze (9) auf das Gaskissen im geschmolzenen Metall (9) Kühlmittel (6) für eine gleichmäßige intensive Kühlung der unteren Oberfläche des . Glasbandes (13) angeordnet sind.
und einen Kühlofen für/Glasband enthält, dadurch gekennzeichnet , daß auf dem Abschnitt des Glasbandaustrxtts (13) aus dem Bad (3) unmittelbar vor seiner Überführung von aer imeueaxtioiiiuelze (9) auf das Gaskissen im geschmolzenen Metall (9) Kühlmittel (6) für eine gleichmäßige intensive Kühlung der unteren Oberfläche des . Glasbandes (13) angeordnet sind.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet , daß die Länge des Abschnitts "AH des Banu.es (13) ι der einer intensiven Küulung
ausgesetzt wird, im Bereich zwischen 1/30 bis 1/15 der Länge des Schmelzebads (3) liegt, dabei die genannten Kühlmittel
(6) mit der Möglichkeit der Kühlung des Bandes (13) mit einer Geschwindigkeit von mindestens 5°C/sek pro 1 mm
der GIasbandstärke (13) angeordnet sind.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet
, daß in aer Zone der intensiven Kühlung des Glasbandes (13) im Bad (3) zwei Induktoren (7, 8)
so angeordnet sind, daß die durch sie erzeugten elektromagnetischen Felder einander entgegengerichtet sind.
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Applications Claiming Priority (1)
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2021025981A1 (en) | 2019-08-06 | 2021-02-11 | Corning Incorporated | Glass laminate with buried stress spikes to arrest cracks and methods of making the same |
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1975
- 1975-09-19 SU SU752169351A patent/SU548188A1/ru active
-
1976
- 1976-09-14 DE DE19762641300 patent/DE2641300A1/de active Pending
- 1976-09-17 FR FR7628072A patent/FR2326386A1/fr active Granted
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EP0304844A2 (de) * | 1987-08-24 | 1989-03-01 | Asahi Glass Company Ltd. | Verfahren zum Herstellen von Floatglas |
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Publication number | Publication date |
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