DE2625448A1 - Verfahren zur herstellung einer schutzschicht auf der oberflaeche optischer reflektoren und nach diesem verfahren hergestellte reflektoren - Google Patents

Verfahren zur herstellung einer schutzschicht auf der oberflaeche optischer reflektoren und nach diesem verfahren hergestellte reflektoren

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Description

2.6.1976 Rs/Hm
Anlage zur
Patentanmeldung
ROBERT BOSCH GMBH, 7000 STUTTGART 1
Verfahren zur Herstellung einer Schutzschicht auf der Oberfläche optischer Reflektoren und nach diesem Verfahren hergestellte Reflektoren
Zusammenfassung;
Durch eine hydrophobe, insbesondere durch eine an ihrer Oberfläche hydrophilierte Schutzschicht aus einer vorzugsweise siliziumorganischenj durch Polymerisation aus der Gasphase hergestellte Schutzschicht erzielt man einen optisch neutralen Dauerschutz für Reflektoren.
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Schutzschicht auf der Oberfläche optischer, vorzugsweise aluminiumbedampfter Reflektoren,■in einem Vakuum-Rezipienten, sowie einen nach diesem Verfahren hergestellten Reflektor.
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2 6 4.
/ ** 2625U8
Bekannte Schutzschichten gegen Korrosionseinflüsse, wie sie bisher z.B. bei Reflektoren für Kraftfahrzeugleuchten benutzt worden sind, wurden durch Verdampfen anorganischer Substanzen erzeugt. Das angewandte Verfahren sah so aus, daß sich in der Bedampfungsanlage außer dem Verdampfer zum Aufbringen der hochreflektierenden Metallschicht ein weiterer Verdampfer zum Aufbringen der Schutzschicht befand. Diese kann z.B. aus aufgedampftem Magnesiumfluorid (MgFp) bestehen oder durch reaktives Verdampfen von SiO in Sauerstoffathmospäre erzeugt werden, wobei sich auf den Substraten ein Siliziumoxid höheren Oxidationsgrades (SiO ) bildet. Schutzschichten dieser Art sind, falls sie wirtschaftlich in Großserie hergestellt werden müssen, bei Reflektoren für Kraftfahrzeugleuchten erhöhten Qualitätsanforderungen nicht gewachsen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine neue Beschichtung mit guten korrosionsschützenden und optischen Eigenschaften zu schafffen, insbesondere die Korrosionsschutzwirkung auf mit Aluminium bedampften Scheinwerferreflektoren zu verbessern. Die neuartigen Schutzschichten sollen eine hohe Lebensdauer des geschützten Teils gewährleisten, wobei für die Anwendung bei optisch wirksamen Geräten zusätzlich die Forderung nach möglichst vollständiger optischer Neutralität zu stellen ist. Es soll ein Verfahren zur Erzeugung der Beschichtung angegeben werden, welches mit wenigen Arbeitsschritten und geringen Kosten die Erzeugung einer beständigen und hochwertigen Schicht in der Großserie gewährleistet; das Verfahren soll betriebssicher und einfach sein, so daß Fehlerquellen im Betrieb weitestgehend ausgeschlossen werden und der Fertigungsausschuß auf ein Mindestmaß reduzierbar ist.
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Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Reflektoren einem monomeren Gas ausgesetzt werden und daß die Schutzschicht durch Polymerisation aus der Gasphase abgeschieden, wird. Hinsichtlich der optischen Neutralität, insbesondere nach längerem Betrieb des Reflektors hat es sich als besonders vorteilhaft erwiesen, wenn die durch die Polymerisation auf dem Reflektor erzeugte hydrophobe Schutzschicht durch eine Nachbehandlung an ihrer Oberfläche hydrophiliert wird. Verfahrensmäßig ist es dabei, zweckmäßig, wenn die Polymerisation unter dem Einfluß von Strahlung erfolgt und wenn die Strahlung während der Nachbehandlung zur Hydrophilierung der Oberfläche der Schutzschicht weiterhin wirksam bleibt. Ferner erhält man einen besonders einfachen Ablauf des Fertigungsverfahrens, wenn die Metallbedampf ung - zur Erzeugung, der Reflexionsschicht, die Polymerisation der hydrophoben. Schutzschicht'auf der Reflexionsschicht und die anschließende Hydrophilierung der Schutzschichtoberfläche im gleichen Rezipienten in aufeinanderfolgenden Arbeitsgängen durchgeführt werden.
Als besonders vorteilhaft S-Qwohl hinsichtlich der Herstellungsbedingungen wie auch, hinsichtlich der Schutzwirkung haben sich als Auagangssubstanzen siliziumorga- " nische Verbindungen bewährt,, jedoch, versprechen auch rein organische Verbindungen,, vorzugsweise ungesättigte, niedermolekulare Kohlenwasserstoffe bei Polymerisation aus der Gasphase gute* gegen. Körrosionseinflüsse wirksame Schutzschichten. Solche Verbindungen sind z.B.
Olefine: Äthylen, Propylen, und' deren höhere Homologe, Aromate: Benzol, Toluol» Xylol usw.. Vinylverbindungen: Styrol» Acrylsäureester, Vinylhalogenide, Vinylalkoholester und Fluor-substituierte Kohlenwasserstoffe wie Tetrafluoräthylen.
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Die siliziumorganischen Schichten haben den Vorteil, daß sie besonders temperaturbeständig und gegen Einflüsse wie Alterung und Verfärbung wenig empfindlich sind. Ferner ist die Geruchbelästigung gegenüber den meisten rein organischen Substanzen geringer, während diese wiederum zum Teil höhere Polymerisationsgeschwindigkeiten aufweisen.
Die Beschichtung wird vorteilhafterweise gebildet durch Polymerisation niedermolekularer methyl-, vinyl- oder phenylgruppenhaltiger Siloxane, vorzugsweise Hexamethyldisiloxan (HMDS), oder durch Polymerisation von Methyl-, Vinyl-, Chlor- oder Alkoxysilanen, vorzugsweise durch die Polymerisation von Vinyltrimethylsilan (VTMS).
Die beiden vorzugsweise benutzten Monomere HMDS und VTMS sind farblose, brennbare Flüssigkeiten niedriger Viskosität mit Molekulargewichten von 162 (HMDS) und 100 (VTMS). HMDS ist schwach riechend, besitzt eine Viskosität von 0,6 cSt und hat bei 20° C einen Dampfdruck von 40 mbar. VTMS dagegen riecht intensiver, hat eine niedrigere Viskosität, einen höheren Dampfdruck und ist auf Grund der relativ leicht aufzubrechenden Doppelbindung der Vinylgruppe chemisch aktiver. Es läßt sich gegenüber HMDS leichter polymerisieren, was zu höheren Aufwachsraten führt. Die aus beiden Substanzen gebildeten Polymerschichten haben vergleichbare Eigenschaften, wobei die VTMS-'Sch'icht zu Nachreaktionen neigt, während die HMDS-Schicht kaum noch freie Radikale enthält. Schließlich ist das Silikonöl HMDS im Handel leichter zu beschaffen und billiger als VTMS.
In der Praxis ist es nicht zu vermeiden, daß zusammen mit Reflektoren benutzte Glühlampen Dämpfe abgeben, die vom Lampenkitt, von Lötmittelrüc.kständen usw. herrühren.
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Diese kondensieren insbesondere bei einem abgeschlossenen System auf einer hydrophoben Oberfläche, wie sie die polymere Schutzschicht darstellt, als Tröpfchen, die Streulicht erzeugen und so als Beläge sichtbar werden.
Zur Sicherung der guten optischen Eigenschaften des mit einer Schutzschicht versehenen Reflektors besteht deshalb eine besonders vorteilhafte Weiterbildung der Erfindung darin, daß eine Hydrophilierung der Oberfläche der hydrophoben Schutzschicht durchgeführt wird, wozu eine Oberflächenbehandlung mit Sauerstoff besonders geeignet ist. Dabei wird zweckmäßigerweise der Sauerstoff unter Fortwirkung der zur Polymerisation des Monomergases verwendeten Strahlung vorzugsweise unmittelbar nach Beendigung der Monomergaszufuhr in den Rezipienten eingelassen. Gute Ergebnisse sind dabei erzielt worden, wenn der Sauerstoffdruck etwa 1/3 des Monomergasdruckes und wenn die Nachbehandlungszeit mit Sauerstoff ca. 30 % der zur Herstellung der Polymerschicht notwendigen Zeit beträgt.
Durch die zuvor erwähnte Weiterbildung der Erfindung ist die Beseitigung der optischen Wirksamkeit der Beläge auf der Spiegelfläche gelungen, weil auf der hydrophilen Oberfläche der Schutzschicht die Dämpfe als homogener Film kondensieren. Die Vorteile dieser Weiterbildung der Erfindung liegen also zunächst in der gleichmäßigen und daher nicht sichtbaren Kondensation schädlicher Dämpfe auf den nach dem erfindungsgemäßen Verfahren erzeugten hydrophilen Oberflächen, ohne daß der hervorragende Korrosionsschutz der hydrophoben Polymerschichten nennenswert verringert wird. Darüber hinaus verhält sich, in Bezug auf die angestrebte Haftung, die durch Hydroxil- und Karboxilgruppen angereicherte Oberfläche beim Einkleben von Streuscheiben auf den beschichteten Reflektoren günstiger. , "
. 709850/0436 "6"
3 2 B
Ein besonders wirtschaftliches Verfahren zur Herstellung der erfindungsgemäßen Schutzschicht auf einem metallbedampften Substrat besteht darin, daß die Polymerisation im gleichen Rezipienten wie die Metallbedampfung erfolgt, wobei vorteilhafterweise nach der Durchführung der Metallbedampfung über ein Dosierventil monomeres Gas aus einem Vorratsbehälter eingelassen wird, in dem sich die polymerisierbare Substanz in flüssiger Form befindet. Die zu schützenden Teile können an ihrem Ort im Rezipienten verbleiben und es entfallen aufwendige und zeitraubende -Maßnahmen zum Umrüsten oder zum Bestücken einer getrennten Anlage. Zweckmäßigerweise wird der Rezipient vor dem Einlassen des monomeren Gases auf einen Druck unter 10 bar abgepumpt und anschließend mit monomeren! Gas beflutet. Das Verfahren wird beschleunigt und die Schutzschicht wird besonders gleichmäßig, wenn eine dauernde Durchströmung des Rezipienten mit monomerem Gas erzielt wird, indem der durch den Anschluß des Rezipienten an eine Vakuumpumpe entstehende Druckabfall durch öffnen eines Dosierventils für ein monomeres Gas ausgeglichen wird.
Die Polymerisation der Schicht kann mit Vorteil bewirkt werden durch eine durch Glühemissions-Elektronen ausgelöste, gasverstärkte, unselbständige Entladung, im folgenden kurz "Elektronen-Glühemission" genannt. Bei der Erzeugung der hydrophoben Schutzschicht durch Elektronen-Glühemission kann die Anlage sehr, einfach aufgebaut werden. Zusätzlich wird bei der Elektronen-Glühemission, beispielsweise gegenüber einer selbständigen Glimmentladung, das Auftreten von Überschlägen zwischen der Hochspannungselektrode und den Substraten ausgeschlossen, wodurch die Zahl der fehlerhaften Teile bei der Produktion stark reduziert werden kann. Der in der Anlage notwendige Druck liegt bei der Polymerisation durch Glühemission von Elektronen um etwa zwei Zehnerpotenzen niederiger als bei einer Glimmpolymerisation, weshalb auch der Durchsatz an momonerem· Gas reduziert und damit eine beträcht-
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liehe Einsparung erzielt wird. Neben den bereits genannten Vorteilen hat die Glühemission weiterhin den Vorteil, daß eine gleichmäßige Beschichtung rund um die Glühkathode, d.h. unter einem Winkel von fast 360 Grad erzeugt wird, während bei Verwendung einer Glimmelektrode die Beschichtung im wesentlichen auf den Bereich der räumlichen Ausdehnung der Elektrode beschränkt wäre.
Eine hinsichtlich des Produktionsaufwandes besonders vorteilhafte Ausgestaltung der Erfindung besteht bei Verwendung der Elektronen-Glühemission zur Erzeugung der Schicht darin, daß die Polymerisation durch einen als Glühkathode arbeitenden Verdampferdraht bewirkt wird, der nach Abschluß des Metallverdampfungsvorganges zum Aufbringen der Schutzschicht auf eine höhere, für die Glühemission von Elektronen ausreichende Temperatur erhitzt und an eine gegenüber den Substraten negative Spannung gelegt wird. So sind zur Erzeugung der Schutzschicht keine besonderen Vorrichtungen innerhalb des Rezipienten mehr notwendig, wodurch die Anlage stark vereinfacht wird. Die Temperatur, auf welche z.B. ein Wolfram- oder Tantal-Verdampferdraht vor dem Einlassen des monomeren Gases erhitzt wird, liegt zweckmäßigerweise bei ca 1.800° Celsius, der Gasdruck unter 10 ' bar; anschließend wird der Rezipient mit monomerem Gas auf einen Druck von ca. 5 . 10~ bar beflutet, was angesichts des hohen Dampfdruckes über der Monomer-Plüssigkeit ohne zusätzliche technische Mittel möglich ist.
Weitere Einzelheiten und Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchenj in der folgenden Beschreibung ist die Erfindung anhand der Abbildungen näher erläutert.
Es zeigen:
709850/0436 ~8"
3 ;> γ: Λ
Pig. 1 einen Querschnitt durch eine erfindungsgemäße Vorrichtung zur Erzeugung der neuen Schutzschicht und Fig. einen vereinfachten Schaltplan für eine Vorrichtung mit Elektronen-Glühemission zur Herstellung der polymeren Schicht.
Verfahren und Vorrichtung zur Durchführung desselben:
In Fig. 1 ist mit 10 ein Rezipient bezeichnet,, der einerseits über einen Stutzen 11 an eine Hochvakuumpumpe sowie über einen Stutzen 12 an eine Vorpumpe angeschlossen ist. Gegenüber der Absaugvorrichtung ist ein Dosierventil 13 vorgesehen, durch welches monomeres Gas aus einem nicht dargestellten Behälter eingelassen werden kann;: in. dem. Vorratsbehälter befindet sich das monomere Gas als polymerisierbare Substanz in flüssiger Form, wobei wegen, des hohen Dampfdruckes ständig ausreichend Gas zur· Beflutung der Anlage auf den gewünschten Druck zur Verfügung, steht. Innerhalb des Rezipienten 10 sind Substratträger· IM angeordnet, welche zylinderförmige Gestalt haben und sich einerseits um die Achse des Rezipienten und andererseits um ihre eigene Achse drehen. Auf den Trägern. Ik sitzen Substrate 15, die mit einer gegen Korrosionseinflüase wirksamen Schutzschicht bedeckt werden sollen. Bei. dem. in Fig. dargestellten Ausführungsbeispiel handelt es siLcJz bei den Substraten um Reflektoren von Kraftfahrzeugleuchte^,., die zunächst mit einer spielgenden Schicht aus Aluminium bedampft werden und anschließend zum Schutz der ÄXumxniumschicht eine Schutzschicht erhalten.
Zur Aluminiumverdampfung ist ein Verdampferdraht IS vorgesehen, der aus Wolfram besteht und zunächs-t auf" eine für die Verdampfung des Aluminiums ausreichende Temperatur erhitzt wird.
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Die erzeugte silizimorganische Schicht ist chemisch inaktiv, temperaturbeständig und schwer löslich; insbesondere ist sie resistent gegen die beispielsweise durch Streusalz im Straßenverkehr auftretenden Korrosionseinflüsse, weshalb sie sich besonders gut als Schutzschicht eignet für aluminiumbedampfte Reflektoren von Kraftfahrzeugen. Die Schutzschicht ist außerdem klar, farbbeständig und mechanisch fest, was ihre Eignung für Kraftfahrzeugleuchten weiter steigert, da sie somit einerseits optisch neutral ist und andererseits auch bei einer Reinigung nicht beschädigt wird. Niedermolekulare Substanzen eignen sich besonders gut wegen ihres hohen Dampfdruckes, der für die Beflutung der Anlage über das Dosierventil 13 ohne zusätzliche Hilfsmittel ausreichend ist. Die zuvor genannten Stoffe Hexamethyldisiloxan und Vinyltrimethylsilan sind besonders niedermolekular und daher besonders gut geeignet. Dabei ergibt Hexamethyldisiloxan eine chemisch etwas stabilere Schicht als Vinyltrimethylsilan, während letzteres den Vorteil besitzt, daß die Polymerisation wesentlich schneller abläuft, so daß man eine höhere Aufwachsrate und somit größere Produktionsziffern erreichen kann.
Das Aufbringen der durch Polymerisation erzeugten Schutzschicht erfolgt im gleichen Vakuum-Rezipienten 10 wie die Metallbedampfung. Dabei wird eine dauernde Durchströmung des Rezipienten 10 mit monomerem Gas erzielt, indem der durch den Anschluß des Rezipienten an eine Vakuumpumpe entstehende Druckabfall über das Dosierventil 13 für das monomere Gas ausgeglichen wird.
Ein besonders einfaches Beschichtungsverfahren erhält man, wenn man zur Polymerisation der Schutzschicht eine Glühkathode benutzt. In dem Rezipienten wird der Wolfram-Verdampferdraht 16 während des Aufbringens der hydrophoben Schutzschicht als Glühkathode geschaltet. Dies geschieht
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3 2 S 4
entsprechend dem in Fig. 2 dargestellten Prinzipschaltplan derart, daß der Verdampferdraht 16 einerseits an die isolierte Sekundärwicklung eines regelbaren Hochstromtransformators 21 und andererseits während des Aufbringens der Schutzschicht über einen Begrenzungswiderstand Rv an den negativen Pol einer Gleichspannungsquelle Ug gelegt wird, deren positiver Pol auf Masse liegt. Die Spannung an der Primärseite des Transformators 21 ist mit Up, die Spannung auf seiner Sekundärseite mit Us bezeichnet. Durch ein Hochregeln des Transformators wird nach dem Abschluß der Aluminiumbedampfung der isoliert eingebaute Wolframdraht 16 auf eine Temperatur von ca. 1.800 ° C .erhitzt, bei der eine Glühelektronen-Emission erfolgt- Dann wird das monomere Gas in die Anlage eingelassen und ein Druck von ca. 5 · 10 bar eingestallt. Um die den Glühdraht umgebende Raumladung abzubauen und die Elektronen in Richtung der auf Masse liegenden Substrate 15 zu beschleunigen, wird zusätzlich der Verdampferdraht 16 über einen Schalter S an die Gleichspannungsquelle Ug angeschlossen und so auf ein negatives Potential von etwa 300 Volt gegen Masse gelegt. Zur Stabilisierung der Entladung ist zusätzlich ein Vorwiderstand Rv geeigneter Größe zugeschaltet. Die Größe des Vorwiderstandes und der Gleichspannung müssen der jeweiligen Anlage angepaßt werden.
Die erzeugten und beschleunigten Elektronen erfahren im Gasraum eine Vervielfachung durch ionisierende Stöße, so daß ein verstärkter Ladungsstrom die Substrate 15 trifft und seine Energie die Vernetzung der adsorbierten Gasmoleküle ermöglicht. Die in einer.Betriebsanlage erreichten Aufwachsraten lagen unter den geschilderten Bedingungen bei 2 bis 8 nm/min. Es ist selbstverständlich, daß das erfindungsgemäße Verfahren auch dahin abgewandelt werden kanns daß zur Erzeugung der Glühelektronen-Emission ein separater Draht verwendet wird oder daß freie Elektronen auf andere Weise, beispielsweise durch eine Elektronenstrahlkanone, erzeugt werden.
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3 2 ß
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Zur Erzielung der hydrophilen Oberfläche der Schutzschicht wird unmittelbar nach der Polymerisation der hydrophoben Schutzschicht eine Nachbehandlung mit Sauerstoff durchgeführt, indem das Ventil 13 für die Monomergas-Zuführung geschlossen und ein O?-Ventil 17 geöffnet wird, während die zur Polymerisation verwendete Glühemissions-Elektronenstrahlung des Verdampfer drahtes 16 weiterhin wirksam bleibt. Die Nachbehandlungszeit zur Hydrophilierung der Oberfläche beträgt etwa 30 % der zur Herstellung der Polymerschicht notwendigen Zeit bei einem Op-Druck von etwa 1/3 des Monomergas-Druckes. Bei diesem Vorgang wird an der Oberfläche der Polymerschicht Sauerstoff chemisch gebunden, was zur Bildung von Hydroxil- und Karboxil-Gruppen führt, und die Hydrophilierung der Oberfläche bewirkt.
Neben der eingangs bereits geschilderten vorteilhaften optischen Wirkung der hydrophilen Oberfläche führt die Op-Nachbehandlung dazu, daß sich die zur Elektronen-Glüh-. emission benutzten Wolfram-Drähte 16 nicht mehr mit einem die Emission erheblich herabsetzenden Belag aus Wolframcarbid oder einer anderen Wolframverbindung überziehen, der nach einer gewissen Beschickungszahl des Rezipienten ein Austauschen der Drähte notwendig macht. Die Lebensdauer der Drähte 16 ist bei einer Nachbehandlung mit Sauerstoff nur durch die mechanische Haltbarkeit begrenzt, wodurch eine Verlängerung der Standzeit der Drähte 16 um das zwei- bis dreifache erreicht -wird. Durch die Op-Nachbehandlung wird das Wolframcarbid oxidiert, wobei der Kohlenstoff durch seine Bindung an Sauerstoff aus dem. Belag verdrängt und als Gas abgesaugt wird.
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709850/0436
Leerseite

Claims (1)

  1. 3 26 4
    Ansprüche
    / 1. !Verfahren zur Herstellung einer Schutzschicht auf der Oberfläche optischer Reflektoren, vorzugsweise äluminiumbedampfter Reflektoren, in einem Vakuum-Rezipienten, dadurch gekennzeichnet, daß die Reflektoren einem monomeren Gas ausgesetzt werden und daß die Schutzschicht durch Polymerisation aus der Gasphase abgeschieden wird.
    2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch' gekennzeichnet, daß
    die Polymerisation unter dem Einfluß von Strahlung erfolgt..
    3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,, daß die Schutzschicht durch Polymerisation einer siXiziumorganischen Substanz gebildet wird.
    4. Verfahren nach Anspruch 3S dadurch gekennzeichnet» daß die Schutzschicht durch Polymerisation niedermolekularer methyl—,, vinyl- oder phenylgruppenhaltiger Silikone, vorzugsweise Hexamethyldisiloxan, gebildet wird.
    5. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Schutzschicht durch Polymerisation von Methyl-, Vinyl-, Chlor- oder Alkoxysilanen, vorzugsweise Vinyltrimethylsilan, gebildet wird.
    70985 0-/0438 ~13~
    ORIGLUhL JNSFECTED
    6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das monomere Gas nach der Metallbedampfung aus einem Vorratsbehälter eingelassen wird, in dem sich die polymerisierbare Substanz in flüssiger Form befindet.
    7- Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß während der Polymerisation der Schutzschicht eine dauernde Durchströmung des Rezipienten mit monomerem Gas aufrechterhalten wird..
    ,2. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis T3 dadurch gekennzeichnet, daß die Strahlung durch eine durch Glühemissions-Elektronen ausgelöste, gasverstärkte Entladung bewirkt wird.
    9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet* daß die Strahlung durch einen als Glühkathode arbeitenden Ver— dämpferdraht bewirkt wird, der nach Abschluß des Verdampf ungsVorganges auf eine höhere, für die Glühemxssion von Elektronen ausreichende Temperatur erhitzt und an eine gegenüber den Substraten negative Gleichspannung, angelegt wird.
    -14-
    70985-0/0438
    .. .. - ORIGINAL INSPECTED
    3 2 6
    10. Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, daß durch die Polymerisation auf dem Reflektor eine hydrophobe Schutzschicht erzeugt wird, welche an ihrer Oberfläche hydrophiliert wird.
    11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Hydrophilierung der Schutzschicht-Oberfläche durch eine Nachbehandlung mit Sauerstoff erfolgt.
    12. Verfahren nach Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, daß sowohl die Metallbedampfung zur Erzeugung der Reflexionsschicht wie auch die Polymerisation der hydrophoben Schutzschicht auf der Reflexionsschicht und die anschließende Hydrophilierung der Schutzschicht-Oberfläche im gleichen Rezipienten in aufeinanderfolgenden Arbeitsgängen durchgeführt werden.
    13· Verfahren nach Anspruch 2 und 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Strahlung während der Nachbehandlung zur Hydrophilierung der Oberfläche der Schutzschicht weiterhin wirksam bleibt. ' .
    1$. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Sauerstoff druck etwa ein Drittel des Monomergasdruckes und die Nachbehandlungszeit mit Saüer-
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    -15-
    ORiGiNAL INSPECTED
    stoff ca. 30 % der zur Herstellung der Polymerschicht notwendigen Zeit beträgt.
    15. Metallbedampfter, insbesondere aluminiumbedampfter optischer Reflektor, dadurch gekennzeichnet, daß auf die metallische Reflexionsschicht eine Schutzschicht aus einer organischen Substanz aufgebracht ist* weiche durch Polymerisation aus der Gasphase abgeschieden, ist..
    16. Reflektor nach Anspruch 15 , dadurch gekennzeichnet,, daß die Schutzschicht aus einer siIiziumorganischen Substanz besteht.
    17. Reflektor nach Anspruch 15 oder 16 , dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche der an sich hydrophoben. Schutzschicht durch die chemische Bindung von Sauerstoff hydrophiliert ist.
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