DE2529505A1

DE2529505A1 - Zweistrahlige kathodenstrahlroehre

Info

Publication number: DE2529505A1
Application number: DE19752529505
Authority: DE
Inventors: Conrad John Odenthal
Original assignee: Tektronix Inc
Current assignee: Tektronix Inc
Priority date: 1974-07-05
Filing date: 1975-07-02
Publication date: 1976-01-29
Also published as: DE2529505C2; NL7506542A; FR2277431A1; JPS5543577B2; FR2277431B1; GB1505563A; CA1044745A; US3921025A; JPS5117658A; GB1505564A

Description

DiPL.-iNG. KLAUS NEUBECKER

Patentanwalt
4 Düsseldorf 1 ■ Schadowplatz 9

Düsseldorf, 1. Juli 1975

PF 1835
7537

Tektronix, Inc.

Beaverton, Oregon, V. St. A.

Zweistrahlige Kathodenstrahlröhre

Die Erfindung bezieht sich auf eine zweistrahlige Kathodenstrahlröhre mit zugehörigen Ablenkeinrichtungen, insbesondere auf eine Kathodenstrahlröhre mit Einzelablenk-Ausdehnungsnetz, die duale Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen aufweist, die asymmetrische horizontale Abtastung liefern.

Bei Kathodenstrahlröhren mit dualen Elektronenstrahlen für voneinander unabhängigen Vielspurbetrieb war es bisher üblich, zwei Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen übereinander anzuordnen, so daß die eine Erzeugungseinrichtung über der Mittelachse der Röhre, die andere Erzeugungseinrichtung unterhalb der Mittelachse liegt, wobei beide Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen in der gleichen vertikalen Ebene angeordnet sind, so daß die horizontalen Winkel der horizontal über den Bildschirm schwenkenden zwei Elektronenstrahlen gleich groß sind. Da der Bildschirm senkrecht zur Mittelachse der Röhre liegt und die Erzeugungseinrichtungen außerhalb der Achse montiert sind, sind die Erzeugungseinrichtungen zur Mittelachse hin geneigt, so daß jede Erzeugungseinrichtung den gesamten Bildschirm abtasten kann.

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Jedoch verzerrt diese Winkligkeit das abgetastete Bildrauster, so daß z. B. ein Rechteck zu einem Trapez wird, was jedoch leicht dadurch korrigiert werden kann, daß die horizontalen Ablenkplatten von der einen Seite zur anderen Seite nicht parallel eingestellt werden, wodurch die horizontale Empfindlichkeit beeinflußt wird, wenn die Elektronenstrahlröhre vertikal abgelenkt wird. Wenn ein divergentes hinter der Ablenkung auftretendes Beschleunigungsfeld (PDA) benutzt wird und volle Überlappung der Abtastungen gewünscht wird, müssen die Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen mit ziemlich steilem Winkel angeordnet werden, was zu einer Kathodenstrahlröhre mit einem großen Durchmesser führt, die viel nützlichen Raum in Anspruch nimmt.

Die US-Patentschrift 3 819 984 der Anmelderin der vorliegenden Anmeldung lehrt, zwei Elektronenstrahl-Erzeugungsanordnungen parallel zueinander in einer horizontalen Ebene anzuordnen, um den Durchmesser des Röhrenhalses zu vermindern. Jedoch führt die Anwendung eines Einzelablenk-Ausdehnungsnetzes bei einer Kathodenstrahlröhre mit zwei parallelen Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen und zugehörigen Ablenkstrukturen zu dem ungewünschten Effekt, daß zwei elektrische Zentren für die Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen entstehen, die weit voneinander getrennt sind, z. B. bis zu 8 cm, wodurch Probleme hinsichtlich der vertikalen Spurverbiegung am Mittelpunkt des Bildschirms auftreten.

Aufgabe der Erfindung ist es, eine zweistrahlige Kathodenstrahlröhre zu schaffen, die parallele Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen besitzt, die nebeneinander angeordnet sind, wobei die elektrischen Zentren für die beiden Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen zusammenfallen. Erfindungsgemäß wird die Aufgabe gemäß dem Kennzeichenteil des Hauptanspruchs gelöst.

Vorteilhaft dabei ist, daß Einrichtungen vorgesehen sind, um den Elektronenstrahl einer außerhalb des Zentrums angeordneten

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Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtung in einer Kathodenstrahlröhre zur Mittelachse dieser Röhre gerichtet wird, so daß ein Röhrenhals mit großem Durchmesser nicht mehr notwendig ist.

Vorteilhaft ist auch, daß eine Verbiegungs-Steuerungseinrichtung vorgesehen ist, um die vertikale Spurverbiegung zu korrigieren, die von dem Ablenk-Ausdehnungsnetz bei einem Doppelkathodenstrahl-Oszillographenrohr erzeugt wird. Durch die Erfindung wird vorteilhafterweise auch eine Abschirmung zwischen den beiden Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen geschaffen, die bei einer Zweistrahl-Kathodenstrahlröhre verwendet werden kann, bei der die horizontalen Ablenkplatten dicht beeinander montiert sind. Diese zwischen den Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen liegende Abschirmanordnung umfaßt eine Abschirmung innerhalb und eine Abschirmung außerhalb der Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtung, um horizontale Trapezfehler und Kantenmuster-Verzerrungen bei einer zweistrahligen Kathodenstrahlröhre zu beseitigen. Znsbesondere wird durch die Erfindung eine verbesserte zweistrahlige Kathodenstrahlröhre geschaffen, die ein Einzelablenk-Ausdehnungsnetz aufweist, in der nebeneinander angeordnete Elektronenstrahl-Erseugungseinrichtungen so gesteuert werden, daß sie sich überlappende rechteckige Darstellungsmuster liefern.

Die vorliegende Erfindung beseitigt somit die Nachteile von weit auseinander liegenden elektrischen Zentren, wie sie oben erwähnt wurden, indem die horizontalen Ablenkplatten so im Winkel angeordnet werden, daß die Elektronenstrahlen zur Mittelachse der Röhre gerichtet werden, und indem ein Satz von strahlzentrierenden Platten angeordnet wird, durch die der Elektronenstrahl hindurchläuft, sowie auch durch den Satz von vertikalen Ablenkplatten und winklig angeordnete horizontale Ablenkplatten, um die Elektronenstrahlen zu veranlassen, zu konvergieren, bevor der Raum zwischen den horizontalen Ablenkplatten erreicht wird. Zusätzlich besitzen die strahlzentrierenden Platten abgerundete Ecken, um vertikale Spurverbiegung zu korrigieren, die durch das Netz bewirkt wird. Eine Korrektur-

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steuerung zur Kompensation von Teile-Streuungen, die sich aufgrund von Massenproduktion ergeben, wird durch eine Verbiege-Steuerungsplatte geliefert, die angrenzend zu jedem Satz von Strahl-Zentrierplatten angeordnet ist und an die eine veränderliche Spannung angelegt werden kann, um den für den Elektronenstrahl wirksamen Radius der strahlzentrierenden Platten zu verändern .

Eine zwischen den Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen befindliche Abschirmung ist zwischen den eng nebeneinander angeordneten horizontalen Ablenkplatten angeordnet, um die elektrische Kapazität dazwischen möglichst klein zu machen, wodurch Hochfrequenz-Übersprechen zwischen den zwei Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen verhindert wird. Diese Abschirmung ist breiter als die horizontalen Ablenkplatten und besitzt ausgezackte Kanten, um die Ablenkplatten-Stützbeine aufzunehmen und gleichzeitig eine Abschirmung dafür zu liefern. Getrennte Abschirmungen innerhalb und außerhalb der Erzeugungseinrichtungen sind zusätzlich vorgesehen, um die horizontale Trapezverzerrung und die Kantenmusterverzerrung zu steuern.

Im folgenden wird daher eine zweistrahlige Kathodenstrahlröhre beschrieben, die zwei Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen mit zugehörigen Ablenkeinrichtungen besitzt, wobei diese nebeneinander auf den jeweiligen Seiten einer Mittelachse angeordnet sind, wobei die Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen zueinander parallel sind und die Ablenkeinrichtungen Strahl-Zentrierplatten sowie im Winkel angeordnete horizontale Ablenkplatten umfassen, um die Elektronenstrahlen zur Zentralachse zu richten« um damit die Notwendigkeit von einem Röhrenhals mit großem Durchmesser zu vermeiden, indem die gesamte Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtung im Winkel angeordnet ist. Verbiegungs-Steuerungsplatten sind angrenzend zu den Strahl-Zentrierplatten angeordnet, um die Spurverbiegung möglichst klein zu machen, und eine zwischen den Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen angeordnete Abschirmung ist zwischen den horizontalen Ablenkplatten angeordnet, um die geometrische Verzerrung

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des Darstellungsmusters zu steuern und zu korrigieren.

Die Erfindung wird nachstehend anhand eines Ausführungsbeispiels in Verbindung mit der zugehörigen Zeichnung erläutert. In der Zeichnung zeigen:

Fig. 1 und 2

eine schematisierte Drauf- bzw. Seitenansicht einer zweistrahligen Kathodenstrahlröhre gemäß der vorliegenden Erfindung;

Fig. 3 eine perspektivische Ansicht einer Elektronenstrahl-Erzeugungs-Zwischenabschirmung zur Anwendung bei einer zweistrahligen Kathodenstrahlröhre;

Fig. 4 und 5

eine Seiten- bzw. eine Draufsicht auf eine Elektronenstrahl-Erzeugungs-Zwischenabschirmung zur Verwendung bei einer zweistrahligen Kathodenstrahlröhre; und

Fig. 6A, 6B und 6C

Illustrationen von rechteckigen Darstellungsmustern, die von einem Elektronenstrahl auf den fluoreszierenden Bildschirm einer Kathodenstrahlröhre gebildet werden.

In Fig. 1 ist eine Elektronenausgabe gezeigt, die eine Kathodenstrahlröhre 1Ö oder eine andere Elektronenstrahl-Ablenkeinrichtung sein kann und einen evakuierten Kolben 12 aus Glas, Keramik oder aus einem anderen geeigneten isolierenden Material aufweist, wobei in dem Kolben ein fluoreszenter Schirm 14 aus auf der inneren Oberfläche einer lichtdurchlässigen Frontplatte 16 aufgebrachten Phosphormaterial an dem Vorderende des Kolbens befestigt ist. Eine dünne metallische Beschichtung 18, vorzugsweise aus Aluminium, ist auf der Seite der Elektronen-

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strahl-Erzeugungseinrichtung des Bildschirms 14 angeordnet.

Zwei getrennte Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen herkömmlicher Bauart sind in dem Kolben 12 angeordnet, wobei diese Erzeugungseinrichtungen Kathoden 20 und 21, Steuergitter 24 und 25 und Fokussieranoden 28 und 29 aufweisen. Zusätzlich sind zwei getrennte Elektronenstrahl-Ablenksysteme innerhalb des Kolbens 12 vorgesehen, einschließlich einem ersten Paar von vertikalen Ablenkplatten 32 und einem zweiten Paar von vertikalen Ablenkplatten 33, einem ersten Paar von Strahl-Zentrierplatten 36 und einem zweiten Paar von Strahl-Zentrierplatten 37, sowie einem ersten Paar von horizontalen Ablenkplatten 40 und einem zweiten Paar von horizontalen Ablenkplatten 41.

Wie aus den Fig. 1 und 2 zu erkennen ist, besitzen gleiche Elemente gleiche Bezugszahlen, wobei der Kathode 20 das Steuergitter 24, die Fokussieranoden 28, die vertikalen Ablenkplatten 32, die Strahl-Zentrierplatten 36 und die horizontalen Ablenkplatten 40 zur Steuerung eines Elektronenstrahls 44 zugeordnet sind, der von der Kathode 20 erzeugt wird, an die eine Spannung von -3 kV angelegt werden kann. In ähnlicher Weise kann die Kathode 21 mit einer Spannung von -3 kV beaufschlagt werden, wobei zu dieser Kathode das Steuergitter 25, die Fokussieranoden 29, die vertikalen Ablenkplatten 33, die Strahl-Zentrierplatten 37 und die horizontalen Ablenkplatten 41 gehören, um den Elektronenstrahl 45 zu steuern, der von der Kathode 21 erzeugt wird.

Ein ringförmiges Montier- und Abschirmglied 50 ist innerhalb des Kolbens 12 angeordnet, so daß die Ausgangsenden der horizontalen Äblenkeinrichtungen 40 und 41 darin angeordnet sind, und dieses Glied 50 wird nahe Massepotential betrieben. Das Glied 50 dient dazu, die horizontalen Ablenkeinrichtungen von der Hochspannung der hinter der Ablenkung liegenden Beschleunigungsanode 54 abzuschirmen, die wiederum aus einer leitenden Beschichtung auf der inneren Oberfläche des Kolbens 12 bestehen kann, die in elektrischem Kontakt zu einer metallischen Beschichtung 18 steht und ein Betriebspotential von 20 bis 24 kV besitzt.

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Ein Ablenk-Ausdehnungsnetz 58 ist an dem Glied 50 befestigt, wobei das Netz eine nach außen gerichtete halbkugelförmige Form besitzt, um eine divergierende Linse für eine Ablenk-Ausdehnung in der Weise zu schaffen, wie es in dem Buch mit dem Titel "Cathode-Ray Tubes" auf den S. 51-54 beschrieben wurde_; das Buch wurde von Tektronix, Inc., 1970 veröffentlicht. Dieses Netz 58 veranlaßt die Elektronenstrahlen, über den Bildschirm in voller überlappender Weise abgelenkt zu werden, da beide Elektronenstrahlen in der Lage sein müssen, die gleiche Bildschirmfläche zu überdecken.

Nachdem die Elektronenstrahlen 44 und 45 die Erzeugungseinrichtungen verlassen haben, laufen sie zunächst durch die vertikalen Ablenkplatten 32 bzw. 33. In den Fig. 1 und 2 gezeigte herkömmliche vertikale Ablenkplatten liefern zufriedenstellenden Betrieb bis zu ungefähr 150 MHz. Für Kathodenstrahlröhren-Betrieb oberhalb dieser Frequenz liefert jedoch eine vertikale Ablenkeinrichtung der in dem US-Patent Nr. 3 694 689 offenbarten Art die besten Betriebsergebnisse.

Die Strahl-Zentrierplatten 36 und 37 sind in ihrer Form identisch und jedes Paar umfaßt eine äußere ebene Platte 36a, 37a und eine innere ebene Platte 36b, 37b, die im gleichen Abstand voneinander und parallel zur Mittelachse der Röhre angeordnet sind, um die Elektronenstrahlen 44 und 45 aufzunehmen, die von den vertikalen Ablenkplatten 32 bzw. 33 hindurchlaufen. Die inneren Strahl-Zentrierplatten 36b und 37b, die zur Mittelachse der Röhre am nächsten sind, werden von einem elektrischen Potential vorgespannt, das positiv hinsichtlich der äußeren Platten 36a bzw. 37a ist, um die Elektronenstrahlen 44 und 45 zur Mittelachse der Röhre längs der Zentrallinie der horizontalen Ablenkplatten 40 und 41, siehe Fig. 1, zu richten. Die Strahleingangs- und Ausgangsteile der Strahl-Zentrierplatten können von gebogener Form sein, wie in Fig. 2 dargestellt, um vertikale Spurverbiegung zu korrigieren, die von dem Netz erzeugt wird. Wie zu erkennen ist, muß ein Strahl 44, 45, der von den vertikalen Ablenkplatten 32, 33 nach oben oder unten abgelenkt wird,

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einen längeren Weg zurücklegen, während er durch die Strahl-Zentrierplatten 36, 37 läuft, und er wird daher horizontal stärker abgelenkt durch die Strahl-Zentrierplatten, als es bei einem Strahl der Fall wäre, der durch das Zentrum hindurchläuft. Somit wird eine Verbiegung absichtlich in die vertikale Spur hineingebracht, die entgegengesetzt ist zu der, die von dem Netz 58 erzeugt wird, was zu einer geraden vertikalen Mittelspur führt, wenn man auf den Schirm 14 blickt.

Kompensationsplatten 70 und 71, die ebene Platten mit geraden Kanten darstellen, sind angrenzend zu der Strahl-Eintrittskante der äußeren Strahl-Zentrierplatten 36a und 37a angeordnet, um eine Steuerung der Größe der vertikalen Spurverbiegung zu liefern, wie in dem vorangegangenen Absatz erörtert wurde, um Teile-Toleranzen und leichte Fehlausrichtungen der Teile bei der Herstellung der Kathodenstrahlröhren zu kompensieren. Ein veränderliches elektrisches Potential wird jeder Kompensationsplatte 70 und 71 zugeführt, um ein elektrostatisches Feld zu erzeugen, dessen Äquipotentiallinien mit den Äquipotentiallinien an den äußersten Kanten eines jeden Satzes von Strahl-Zentrierplatten 36 bzw. 37 zusammenwirken und die resultierende Krümmung der Eingangskante der äußeren Strahl-Zentrierplatten 36a und 37a verändern, um so die gewünschte geradlinige vertikale Spur zu erzeugen.

Die horizontalen Ablenkplatten 40 und 41 sind in ihrer Form identisch und jedes Paar umfaßt eine äußere Platte 40a, 41a und eine innere Platte 40b, 41b, die gewöhnlich 1,3 mm voneinander Abstand am Eingang und ungefähr 8,9 mm Abstand am Ausgang haben, um so einen keilförmigen Raum zwischen sich zu bilden. Jeder Satz von horizontalen Ablenkplatten ist in einem Winkel innerhalb des Kolbens 12 angeordnet, so daß die Elektronenstrahlen 44 und 45, die von den bereits genannten Strahl-Zentrierplatten zur Mittelachse der Röhre gerichtet werden, eintreten und ohne Behinderung hindurchlaufen können längs einer Linie, die dem elektrischen Zentrum des Sichtschirms 14 entspricht. Das elektrische Zentrum des Schirmes wird definiert

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als der Punkt, auf dem die Strahlen 44 und 45 auftreffen, wenn die vertikalen Ablenkplatten 32, 33 und die horizontalen Ablenkplatten 40 und 41 alle geerdet sind, so daß zwischen den Plattenpaaren eine Spannungsdifferenz von O V entsteht. Der Effekt der Strahl-Zentrierplatten 36 und 37, der horizontalen Ablenkplatten 40 und 41 und des Ablenk-Ausdehnungsnetzes 58 ist der, das elektrische Zentrum des Bildschirms an das physikalische Zentrum des Schirms zu legen, obwohl die nebeneinander angeordneten Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen mehrere Millimeter voneinander entfernt sind.

Die Platten 75 sind zwischen vertikalen Ablenkplattenpaaren angeordnet, um elektrostatische Felder dieser vertikalen Ablenkeinrichtungen daran zu hindern, sich gegenseitig zu stören, wie auch zur Lieferung einer Kompensation, so daß die charakteristische Impedanz längs dieser Platten konstant ist. Die Platten 75 werden nahe dem mittleren Potential der vertikalen Ablenkeinrichtungen betrieben.

Eine Elektronenstrahlerzeugungs-Zwischenabschirmung 80 ist zwischen den horizontalen Ablenkplattenpaaren 40 und 41 angeordnet, um die von den entsprechenden horizontalen Ablenkplatten erzeugten elektrostatischen Felder daran zu hindern, einander zu beeinflussen. Die Abschirmung 80 wird bei oder nahe dem mittleren Potential der horizontalen Ablenkeinrichtungen betrieben. Diese Abschirmung dient auch dazu, die Kapazität zwischen den Ablenkplattensätzen zu vermindern, wodurch ein hochfrequentes übersprechen zwischen den zwei Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen möglichst klein gemacht wird.

Die innere Elektronenstrahlerzeugungs-Abschirmung 82 und die äußere Elektronenstrahlerzeugungs-Abschirmung/84 und 85 sind angrenzend zum Ausgang der horizontalen Ablenkplatten 40 und 41 angeordnet und werden auf Potentialen betrieben, die ausreichen, um die Gesamtdarstellungs-Verzerrung zu korrigieren, insbesondere die horizontale Trapezverzeichnung, die noch im folgenden genauer erläutert wird.

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Eine weitere geometrische Korrektur kann erreicht werden, indem die horizontalen Ablenkplatten 40 und 41 mit gebogenen oder abgerundeten Ausgangskanten versehen werden, statt sie mit geraden Ausgangskanten zu versehen, wie es in den Figuren dargestellt ist.

Eingangssignale werden an den Eingangsanschlüssen 1OO und 101 angelegt, die mit entsprechenden vertikalen Verstärkern 106 und 107 verbunden sind. Die vertikalen Verstärker 106 und 107 erzeugen Gegentakt-Ausgangssignale, die entsprechend an vertikale Ablenkeinrichtungen 32 und 33 angelegt werden. Horizontale Sägezahngeneratoren 110 und 111 werden aufgrund der Aufnahme von Eingangssignalen an Eingangsanschlüssen 100 und 101 ausgelöst, die durch Triggerschaltkreise 116 und 117 geliefert werden, deren Eingänge entsprechend mit Eingangsanschlüssen 100 und 101 und deren Ausgänge entsprechend mit Eingängen der horizontalen Sägezahngeneratoren 110 und 111 verbunden sind. Die horizontalen Sägezahngeneratoren erzeugen Gegentakt-Sägezahnsignale, die geeignet sind, um die Ablenkplatten zu betreiben, und diese Signale werden entsprechend den horizontalen Ablenkeinrichtungen 40 und 41 zugeführt.

Auf diese Weise werden die entsprechend von den Kathoden 20 und 21 emittierten Elektronenstrahlen 44 und 45 durch die Fokussieranoden 28 und 29 in geeigneter Weise fokussiert, danach wirken die vertikalen Ablenkeinrichtungen 32 und 33 und die horizontalen Ablenkeinrichtungen 40 und 41 auf die fokussierten Elektronenstrahlen ein, um die Elektronenstrahlen in Übereinstimmung mit den an den Eingangsanschlüssen 100 und 101 liegenden Signalen abzulenken, und danach laufen die Elektronenstrahlen durch das Ablenk-Ausdehnungsnetz 58, wodurch sie auf ungefähr 24 kV beschleunigt werden, bevor sie auf den Auftreffpunkt auftreffen, der aus der Phosphorschicht 14 und der metallischen Beschichtung 17 besteht, die Lichtbilder dieser Elektronenstrahlen erzeugen, wobei diese Lichtbilder in den meisten Fällen die Spuren der Signalwellenformen der vertikalen Ablenksignale darstellen. Der dünne Aluminiumfilm, der einige S dick ist, ist

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gegenüber Elektronen durchsichtig und reflektiert das von der Phosphorschicht 14 emittierte Licht, um die Helligkeit der Darstellung in herkömmlicher Weise zu erhöhen.

Fig. 3 zeigt eine perspektivische Ansicht einer Elektronenstrahlerzeugungs-Zwischenabschirmung und Abschirmung gegenifcersprechen in Übereinstimmung mit einer vorzugsweisen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, während die Fig. 4 und 5 entsprechend eine Seitenansicht und eine Ansicht von oben dieser vorzugsweisen Ausfuhrungsform darstellen. Wiederum haben gleiche Bauelemente gleiche Bezugszahlen erhalten, um die Hinweise auf die Zeichnungen zu erleichtern. Eine Isolationsabschirmung, bestehend aus geschlitzten halbkreisförmigen Scheiben 120 und 121, ist an der Elektronenstrahlerzeugungs-Zwischenabschirmung 80 auf einer ebenen Querverbindung zu der Abschirmung 80 befestigt, um eine Isolation der horizontalen Ablenkeinrichtungen von dem Hochspannungsfeld zu erhalten, das durch die hinter der Ablenkung liegende Anode 54 erzeugt wird, wie schon beschrieben wurde. Die Elektronenstrahlerzeugungs-Zwischenabschirmungen 84 und 85 sind isoliert an der Abschirmung 120 bzw. 121 befestigt. Die Elektronenstrahlerzeugungs-Zwischenabschirmung 80, die Isolationsabschirmungen 120 und 121, die außerhalb der Elektronenstrahlerzeugungs-Einrichtung liegenden Abschirmungen 84 und 85 sind mittels Stützbeinen 125 zusammengebaut, z. B. mittels Drähten, die zu den verschiedenen Teilen punktverschweißt sind und voneinander durch Glasperlen 128 isoliert sind.

Die innere Elektronenstrahlerzeugungs-Abschirmung 82 umfaßt zwei getrennte Abschirmglieder 130 und 131, die voneinander isoliert sind und in dem von der Elektronenstrahlerzeugungs-Zwischenabschirmung 80 gelieferten Raum isolierend montiert sind.

Die vollständige Elektronenstrahl-Erzeugungs-Zwischenabschirmung, die oben beschrieben wurde, wird dann in der Röhre zwischen zwei Paaren von horizontalen Ablenkplatten 40 und 41 angeordnet, und zwar angebracht an den inneren horizontalen Ablenkplatten-Stützstangen 134 und 136, die in geeigneter Weise

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aus Glas oder einem anderen isolierenden Material hergestellt sein können, mittels Stützbeinen 140, die an die Isolationsabschirmung 80 punktverschweißt und in den Stützstangen 134 und 136 eingebettet sind, wie in Fig. 4 gezeigt ist.

Die Kanten der Abschirmung 80 sind gewellt, um die für die inneren horizontalen Ablenkplatten bestimmten Stützbeine 144, die mit den inneren horizontalen Ablenkplatten 40b und 41b punktverschweißt sind, eine Einbettung in die Stützstangen 134 und 136 zu ermöglichen, ohne daß die Abschirmung 80 berührt wird. Diese Anordnung ermöglicht es, zwei Sätze von horizontalen Ablenkplatten 40 und 41 so eng wie möglich nebeneinander zu montieren, um volle Abtastüberlappung zu erreichen, während gleichzeitig die Darstellungsverzerrung möglichst klein gemacht wird und wobei gleichzeitig auch noch die Kapazität zwischen den zwei Sätzen von horizontalen Ablenkplatten, die sich aufgrund des dielektrischen Mediums (Luft und Stützstangen) ergibt, zu vermindern.

Wie zu erkennen ist, liegen die Stützbeine 144 für die Ablenkplatten auf dem gleichen Potential, wie ihre zugehörigen Ablenkplatten 40b und 41b, und um die Abschirmung zu vervollständigen und die Kapazität in den Stützstangen 134 und 136 noch weiter zu verkleinern, sind die Außenseiten der Stützstangen 134 und 136 mit einer elektrisch leitenden Farbe 150 in Bändern beschichtet, die die Abschirmung 80 mit den Stützbeinen 140 verbinden.

In Abwesenheit der Elektronenstrahl-Erzeugungs-Zwischenabschirmung 82 und der äußeren Erzeugungsabschirmungen 84 und 85 wäre die von der linken Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtung gelieferte Darstellung eine trapezförmig verzerrte Darstellung, wie sie in Fig. 6A gezeigt ist, wodurch die horizontalen Linien oberhalb und unterhalb der mittleren horizontalen Linie davon abweichen in einer Richtung von links nach rechts, während die von der rechten Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtung erzeugte Darstellung eine Trapezverzerrung liefert, wie sie in Fig. 6B

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gezeigt ist, wobei die horizontalen Linien oberhalb und unterhalb der mittleren horizontalen Linie von dieser in einer Richtung abweichen, die entgegengesetzt ist zu der der Darstellung der linken Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtung, wie in Fig. 6A gezeigt. Somit liefern die gegenseitigen Beeinflussungen der elektrostatischen Felder der vertikalen und der horizontalen Ablenkeinrichtung ohne die innerhalb der Erzeugungseinrichtung liegenden Abschirmungen 82 und ohne die äußeren Erzeugungseinrichtungs-Abschirmungen 84 und 85 Darstellungen, die eine Trapezverzerrung aufweisen, wie sie in den Fig. 6A und 6B für einen zweistrahligen Kathodenstrahl-Oszillographenrohr gezeigt sind, wobei die Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen parallel zueinander in seitlicher Beziehung angeordnet sind. Wenn die innerhalb der Erzeugungseinrichtung liegende Abschirmung und die außerhalb der Erzeugungseinrichtung liegenden Abschirmungen 84 und 85 für die horizontalen Ablenkeinrichtungen gemäß der Erfindung vorgesehen sind, ergibt sich die wahre rechteckige Darstellung, wie sie in Fig. 6 gezeigt ist, wodurch die trapezförmige Verzerrung korrigiert ist.

Selbstverständlich gibt es zahlreiche Abweichungen von der beschriebenen Ausführungsform, ohne daß der Erfindungsgedanke verlassen wird. Eine herkömmliche Kathodenstrahlröhre wurde zwar als Beispiel beschrieben, jedoch ist es auch möglich, die vorliegende Erfindung auch auf beispielsweise eine bistabile Ladungsbild-Speicherröhre anzuwenden, einschließlich einer Bauart, bei der die Leuchtschicht als die dielektrische Speicherung arbeitet.

Patentansprüche:

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Claims

- 14 Patentansprüche :

t 1.j Elektronenstrahlröhre, gekennzeichnet durch einen evakuierten Kolben (12) mit Strahlauftreffeinrichtungen (18, 14); doppelte Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen (20, 24, 28; 21, 25 29), die nebeneinander in dem Kolben (12) beiderseits der Mittelachse des Kolbens (12) im Abstand zu den Auftreffeinrichtungen (18, 14) angeordnet sind, um Elektronenstrahlen (44, 45) zu erzeugen; durch Ablenkeinrichtungen (32, 33; 40, 41) für jede Elektronen-Erzeugungseinrichtung, wobei die Ablenkeinrichtungen zwischen den Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen und den Strahlauftreff-Einrichtungen angeordnet sind, um die Elektronenstrahlen über der Strahlauftreff-Einrichtung in Übereinstimmung mit angelegten Signalspannungen abzulenken und eine Darstellung dieser Signale zu liefern, wobei die Ablenkeinrichtungen (32, 33; 40, 41) Strahlzentrier-Einrichtungen (40b, 41b) aufweisen, um die Elektronenstrahlen zur Mittelachse des Kolbens (12) zu richten, so daß das elektrische Zentrum der Ablenkeinrichtungen dem Zentrum der Strahlauftreff-Einrichtung entspricht .
2. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die doppelten Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtungen parallel zueinander sind und daß die Ablenkeinrichtungen (32, 33; 40, 41) horizontale Ablenkeinrichtungen (40, 41) umfassen, bei denen zwei Ablenkplattensätze (40b, 41b) in einem Winkel hinsichtlich zur Mittelachse des Kolbens (12) angeordnet sind.
3. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 2, gekennzeichnet durch eine Isoiationsabscbirmung, die zwischen den zwei Sätzen horizontaler Ablenkplatten (40, 41) angeordnet sind und mit diesen eine gemeinsame Stützstruktur teilen.

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4. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Strahlzentrier-Einrichtungen (40b, 41b) ein Paar paralleler Platten (36, 37) für jede Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtung aufweist, die zwischen den vertikalen Ablenkeinrichtungen (32, 33) und den horizontalen Ablenkeinrichtungen (40, 41) angeordnet sind, damit die Elektronenstrahlen (44, 45) durch diese Platten hindurchtreten, wobei jede Platte dieses Plattenpaares positiv hinsichtlich zur anderen Platte ist, um die Elektronenstrahlen abzulenken.
5. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Strahlzentrier-Einrichtung vertikale Spurverbiegungs-Korrektureinrichtungen aufweist.
6. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die vertikale Spurverbiegungs-Korrektureinrichtung gebogene Kanten an den Strahlzentrierplatten aufweist, um die Weglänge der Elektronenstrahlen durch diese Platten zu steuern, während die Elektronenstrahlen von den vertikalen Ablenkeinrichtungen vertikal abgelenkt werden.
7. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die vertikale Spurverbiegungs-Korrektureinrichtung Elektrodeneinrichtungen umfaßt, die angrenzend zu mindestens einer gewölbten Kante angeordnet ist, um dessen elektrostatisches Feld zu steuern.
8. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß durch die Ablenkeinrichtungen Korrektureinrichtungen vorgesehen sind, um die Trapezverzerrung der Elektronenstrahlen zu korrigieren.
9. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die von den Ablenkeinrichtungen gelieferten Einrichtungen Seitenabschirm-Einrichtungen für dessen horizontale Ablenkeinrichtungen aufweist.

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10. Elektronenstrahlröhre nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch Ablenkeinrichtungen zum Stützen der Ablenkplatten; Isolations-Abschirmeinrichtungen, die zwischen den ersten und zweiten Ablenkplatten-Paaren angeordnet sind und von der Stützeinrichtung gehalten werden; und durch innerhalb und außerhalb der Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtung liegenden Abschirmeinrichtunge, die von den Isolations-Abschirmeinrichtungen gehalten und angrenzend "zum Ausgang der Ablenkplatten angeordnet werden, um die Trapezverzerrung zu korrigieren.
11. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Stützeinrichtungen Stützbeine umfassen, die von isolierenden Stützstangen gehalten werden, wobei die Isolations-Abschirmeinrichtung eine Abschirmplatte umfaßt, die an den isolierenden Stützstangen befestigt sind und von den Ablenkplatten isoliert sind, wobei die Abschirmplatte ausgezackte Kanten aufweist, um eine Isolations-Montierfreiheit für die Stützbeine zu liefern.
12. Elektronenstrahlröhre nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die innerhalb und außerhalb der Elektronenstrahl-Erzeugungseinrichtung liegenden Abschirmeinrichtungen von der Isolations-Abschirmeinrichtung sowie von den Ablenkplatten isoliert sind.

ES/hs 3

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