DE2525093A1 - Vorrichtung und verfahren zur ladungsregenerierung - Google Patents
Vorrichtung und verfahren zur ladungsregenerierungInfo
- Publication number
- DE2525093A1 DE2525093A1 DE19752525093 DE2525093A DE2525093A1 DE 2525093 A1 DE2525093 A1 DE 2525093A1 DE 19752525093 DE19752525093 DE 19752525093 DE 2525093 A DE2525093 A DE 2525093A DE 2525093 A1 DE2525093 A1 DE 2525093A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- charge
- potential
- electrode
- packet
- amount
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 title claims description 7
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 title claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 5
- 238000005036 potential barrier Methods 0.000 claims description 38
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 37
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 claims description 28
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 11
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 2
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 claims 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 45
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 14
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 6
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 5
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 4
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 3
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100042630 Caenorhabditis elegans sin-3 gene Proteins 0.000 description 1
- AZFKQCNGMSSWDS-UHFFFAOYSA-N MCPA-thioethyl Chemical compound CCSC(=O)COC1=CC=C(Cl)C=C1C AZFKQCNGMSSWDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/762—Charge transfer devices
- H01L29/765—Charge-coupled devices
- H01L29/768—Charge-coupled devices with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/76825—Structures for regeneration, refreshing, leakage compensation or the like
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C19/00—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers
- G11C19/28—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using semiconductor elements
- G11C19/282—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using semiconductor elements with charge storage in a depletion layer, i.e. charge coupled devices [CCD]
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C19/00—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers
- G11C19/28—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using semiconductor elements
- G11C19/282—Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using semiconductor elements with charge storage in a depletion layer, i.e. charge coupled devices [CCD]
- G11C19/285—Peripheral circuits, e.g. for writing into the first stage; for reading-out of the last stage
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/41—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
- H01L29/423—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions not carrying the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/42312—Gate electrodes for field effect devices
- H01L29/42396—Gate electrodes for field effect devices for charge coupled devices
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Description
BLUMBACH · WESER · BERGEN · KRAMER
ZWIRNER · HIRSCH
PATENTANWÄLTE IN MÜNCHEN UND WIESBADEN 252 5093
Postadresse München: Patentconsult 8 München 60 Radeckestraße 43 Telefon (039) 883603/883604 Telex 05-212313
Postadresse Wiesbaden: Patentconsult 62 Wiesbaden Sonnenberger Straße 43 Teiefon (06121) 562943/561998 Telex 0-1-186237
Western Electric Company, Incorporated Cooper Jr. 1 New York, N. Y., USA
Vorrichtung und Verfahren 2ur Ladungsregenerierung
Die Erfindung betrifft eine Halbleitervorrichtung zur Speicherung und seriellen Übertragung von Ladungsträgern, die in induzierten
Potentialmulden längs eines Oberflächenteils eines Körpers lokalisiert sind, durch sequentielles Anlegen mehrerer unterschiedlicher
Potentiale an aufeinanderfolgende Teile der Oberfläche, sowie zur Regenerierung logischer Bits.
Ein bei manchen praktischen Anwendungen von Ladungsübertragungsvorrichtungen
verwendetes Element ist ein Ladungsregenerator. Der Regenerator wird verwendet, um Abweichungen von der korrekten
Ladungsmenge in einem Ladungspaket zu reduzieren, das entweder
München: Kramer ■ Dr. Weser - FfIrSh— WiesBaaenyBrarnBact) ■ Dr. Bergen · Z.virner
eine logische Eins oder eine logische Null darstellt. Ohne Regenerierung neigen die Ladungsmenge in einem eine logische
Eins repräsentierenden Paket und die Ladungsmenge in einem eine logische Null repräsentierenden Paket dazu, sich auszu-•
gleichen, was eine Unterscheidung zwischen diesen beiden schwieriger
macht und schließlich zu einem Informationsverlust führt.
Bei bekannten Methoden ist typischerweise eine Schwellenwert- oder
Bezugsspannung in einem Ladungsregenerator verwendet worden. Ein
solcher Regenerator ist von M. P. Tompsett in dem Artikel "A
Simple Charge Regenerator for Use with Charge Transfer Devices and the Design of Functional Logic Arrays", der im IEEE Journal
of Solid State Circuits, Juni 1972, Seite 2JJ, erschienen ist,erklärt.
Bei dem beschriebenen Regenerator wird der Ladungsträgerfluß von einer Ladungsquelle durch eine Potentialbarriere gesteuert, dessen
Höhe eine Punktion der zu regenerierenden Ladung ist. Eine Schwellenwert-
oder Bezugsspannung wird an die Ladungsträgerquelle angelegt. Die Spannung wird auf eine Potentialhöhe eingestellt, die
zwischen dem Wert der eine logische Eins repräsentierenden Potentialbarriere und dem Wert der eine logische Null repräsentierenden
Potentialbarriere liegt. Deshalb fließt Ladung von der Quelle, wenn eine eine logische Null repräsentierende Potentialbarriere
existiert, und es fließt keine Ladung, wenn eine eine logische Eins repräsentierende Potentialbarriere vorhanden ist.
Wenn sich der Gesamtübertragungs-Wirkungsgrad 50 % nähert, verringert
sich die Trennung zwischen der eine logische Eins dar-
509851/08 3 4
stellenden Potentialhöhe und der eine logische Null darstellenden Potentialhöhe, und die Anforderungen an die Stabilität der Bezugsspannung
werden groß. Die Bezugsspannung wird oft abgeleitet unter Verwendung eines auf dem Chip oder Plättchen befindlichen
Spannungsreglers, der abhängig ist von den schwierig zu steuernden
Schwellenwertspannungen von Feldeffekttransistoren mit isoliertem
Gate. Auch führt eine Regenerierung, wie sie in dem Artikel von Tompsett angegeben ist, zu einer Inversion der logischen
Einsen und Nullen. Es wäre erwünscht, das Erfordernis für eine Schwellenwertspannung und deren zugeordneten Spannungsregler
auszuschalten. Weiterhin wäre es wünschenswert, Information repräsentierende Ladungspakete ohne Inversion zu regenerieren.
Nach einem anderen Stand der Technik werden verschiedene arithmetische
und logische Funktionen unter Verwendung von Ladungsübertragungsvorrichtungen
ausgeführt. Beispielsweise beschreiben die US-PS 3 777 186 und der Artikel "Logic Array Using Charge
Transfer Devices" von T. D. Mok und C. A. T. Salama, der in Electronics Letters, Band 8, Nr. 20, 5. Oktober 1972, Seite 495
erschienen ist, die Durchführung logischer Funktionen unter Verwendung von Ladungsübertragungsvorrichtungen. Die logischen
Punktionen werden durch Verwendung paralleler und serieller Gatter erhalten, mit welchen Operationen durchgeführt werden,
die einer Ladungsbegrenzung und Ladungssubtraktion ähnlich sind. Es ist jedoch weder angegeben noch nahegelegt, solche Methoden
zur Ladungsregenerierung in Ladungsübertragungsvorrichtungen zu
verwenden.
509851/0834
Die aufgezeigten Probleme werden erfindungsgemäß gelöst durch eine Halbleitervorrichtung der eingangs genannten Art, die gekennzeichnet
ist durch eine Multipliziereinrichtung zur Multiplikation eines Ladungspaketes mit einem derartigen Multiplikationsfaktor, daß nach der Multiplikation die Differenz zwischen der
Ladungsmenge in einem eine logische Eins repräsentierenden Ladungspaket und der Ladungsmenge in einem eine logische Null repräsentierenden
Ladungspaket wenigstens ebenso groß ist wie die maximale Ladungsspeicherkapazität einer Potentialmulde,
eine Subtraktionseinrichtung zur Subtraktion einer festen Ladungsmenge vom multiplizierten Ladungspaket, die dazu ausreicht, die
gesamte Ladung zu entfernen, wenn das Ladungspaket eine logische Null repräsentiert,
und eine Begrenzungseinrichtung zur Begrenzung der Ladungsmenge
in dem Ladungspaket auf einen Maximalwert, der gleich der minimalen Ladungsspeicherkapazität einer Potentialmulde ist.
Ein Ladungspaket von einer Ladungsübertragungsvorrichtung wird erfindungsgemäß
dadurch regeneriert, daß arithmetische Operationen an der Ladung in dem Paket ausgeführt werden. Die Ladung wird zunächst
derart multipliziert, daß die Differenz zwischen der Ladungsmenge
in einem eine logische Eins repräsentierenden Ladungspaket und der Ladungsmenge in einem eine logische Null repräsentierenden
Ladungspaket ebenso groß ist wie die Ladungsspeicherkapazität einer Potentialmulde der Ladungsübertragungsvorrichtung. Man kann
erkennen, daß der Multiplikationsfaktor von den Ladungsübertragungs-
509851/0834
Unvollkommenheiten der LadungsUbertragungseinrichtung abhängt.
Dann wird eine feste Ladungsmenge vom multiplizierten Ladungspaket subtrahiert. Die feste Menge reicht aus, um die gesamte
Ladung zu entfernen, wenn das Ladungspaket eine logische Null repräsentiert. Dann wird die restliche Ladungsmenge in einem eine
logische Eins repräsentierenden Paket auf einen Maximalwert begrenzt, der gleich der Ladungsspeicherkapazität einer Potentialmulde
der LadungsUbertragungseinrichtung ist.
Wenn der Multiplikationsfaktor und die zu subtrahierende Menge
für einen gegebenen Übertragungswirkungsgrad einmal bestimmt sind, können sie auch für irgendeinen verbesserten Übertragungswirkungsgrad
verwendet werden. Wenn sich der Übertragungswirkungsgrad verbessert, neigt die Ladungsmenge in einem eine logische Null repräsentierenden
Paket zur Abnahme. Deshalb bleibt die feste abgezogene Menge ausreichend, um die gesamte Ladung zu entfernen. Wenn
sich der Übertragungswirkungsgrad verbessert, neigt die Ladungsmenge in einem eine logische Eins repräsentierenden Paket zu einer
Vergrößerung. Da die Differenz zwischen der eine logische Eins und der eine logische Null repräsentierenden Ladungsmenge zu einer Vergrößerung
neigt, bleibt der Multiplikationsfaktor angemessen.
Die arithmetischen Operationen werden ausgeführt unter Verwendung
einer genau gesteuerten geometrischen Anordnung von Übertragungselektroden in Zusammenwirkung mit Dotierstoffzonen. Als Folge davon,
daß man für die Unterscheidung zwischen einer logischen Eins und einer logischen Null nicht auf Spannungswerte sondern auf eine
509851/0836
Geometrie aufbaut, Ist der Regenerator relativ unempfindlich gegenüber einer Prozeßänderung, welche solche Parameter wie
Schwellenwertspannung und Substratdotierung beeinflußt.
Zum Multiplizieren werden die Ladungspalcete in einer Ladungsübertragungseinrichtung
verwendet, um eine Potentialbarriere zwischen einer Ladungsquelle und einer Ladungsspeicherzone unter
einer Verstarkungselektrode zu errichten. Ein Spannungsimpuls mit größerer Amplitude als der Potentialbarriere entsprechend wird
an die Ladungsquelle angelegt, und die Ladungsspeicherzone wird mit Ladungsträgern gefüllt. Wenn der Spannungsimpuls von der
Ladungsquelle weggenommen wird, ist der Potentialwert der Ladungsquelle kleiner als der Wert der Potentialbarriere. Ladungsträger
auf einem Potentialwert, der größer als die Potentialbarriere ist, fließen von der Ladungsspeicherzone zurück zur Ladungsquelle.
Genauer gesagt stellt eine Fühler-Dotierstoffzone im Ladungsflußweg
der Ladungsübertragungsvorrichtung die Ladungsmenge in einem Ladungspaket fest und errichtet ein Oberflächenpotential. Eine
Steuerelektrode stellt einen Kontakt zur Fühler-Dotierstoffzone her und erstreckt sich über eine Isolierschicht zu der Zone
zwischen der Ladungsquelle und der Ladungsspeicherzone. Wenn ein Ladungspaket in die Fühler-Dotierstoffzone eintritt, erscheint
somit eine der Größe des Ladungspaketes proportionale Spannung am Steuergatter, um die Potentialbarriere quer zum Ladungsflußweg
zwischen Ladungsquelle und der Ladungsspeicherzone zu bilden. Die Ladungsmenge, die unter dem verstärkenden Gatter in einer ver-
509851/0834
2525033
stärkenden Potentialmulde gespeichert ist, wird durch die Höhe der Potentialbarriere in Verbindung mit der Kapazität des verstärkenden
Gatters variiert. Das Verhältnis zwischen der Kapazität des verstärkenden Gatters und der Kapazität der Fühler-Diffusionszone
bestimmt den Betrag der Verstärkung des Ladungspaketes.
Der an die Ladungsquelle angelegte Spannungsimpuls ist von kürzerer Zeitdauer als die Zeitlänge, in welcher ein Ladungspaket in der Fühler-Dotierstoffzone bleibt, so daß die Potentialbarriere
langer bestehen bleibt, als die Ladungsquelle Ladung liefert. Wenn die Potentialbarriere noch vorhanden und der Spannungsimpuls
nicht an die Ladungsquelle gelegt ist, kann demzufolge die überschüssige Ladung in der Potentialmulde unter dem
verstärkenden Gatter zur Ladungsquelle zurückfließen. Dadurch bleibt der Potentialwert der Ladung in der Verstärkungspotential mulde
derselbe wie der Potentialwert der Potentialbarriere. Zur Erhöhung des Verstärkungsfaktors und deshalb der Ladungsmenge
unter dem verstärkenden Gatter kann die Kapazität des verstärkenden Gatters vergrößert werden.
Zum Subtrahieren wird die verstärkte Ladung in der verstärkenden Potentialmulde verschoben und aufgeteilt auf einen abzweigenden
Subtraktions-Ladungsflußweg und einen Hauptladungsflußweg. Im Subtraktionsweg befindet sich eine Subtraktionselektrode mit
einer darunterliegenden Subtraktions-Potentialmulde. Die Ladungsspeicherkapazität der Mulde ist gleich der zu subtrahierenden
509851/0834
Menge. Wie erwähnt ist dies die eine logische Null repräsentierende
Ladungsmenge. Jegliche Ladung, die nicht in den Subtraktionspfad gelangen kann, gelangt in den Hauptladungsflußweg.
Die Ladung im Hauptladungsflußweg wird zu einer begrenzenden
Elektrode übertragen, die eine Potential-Ladungsspeichermulde
aufweist. Überflüssige Ladung der in der Potentialmulde gespeicherten Menge wird längs eines Überschußladungsweges zu einer
Ladungsableitung übertragen. Die Ladungsspeicherkapazität der Potentialmulde ist gleich der Ladungsmenge, die zur Darstellung
einer logischen Eins benötigt wird. Wenn das Ladungspaket eine logische Null darstellt, kann die gespeicherte Ladungsmenge natürlich
kleiner als die Kapazität der Potentialmulde sein. Die
Ladung in der Potentialmulde wird dann auf den Ausgang des Ladungsregenerators übertragen.
In der Zeichnung zeigen:
Fig. 1 eine schematische Draufsicht auf den Aufbau einer erfindungsgemäßen
Ausführungsform der Regeneratoranordnungj
Fig. 2 bis 5 Schnittansichten von Teilen der in Fig. 1 dargestellten
Ladungsregenerator-Anordnungj
Fig. 6 bis 8 Wellenformen der an den Regenerator angelegten Spannungen;
Fig. 9 eine schematische Draufsicht auf den Aufbau einer Anordnung
zur Einführung einer "fetten Null"; und
Fig. 10 und 11 Schnittansichten von Teilen der in Fig. 9 dargestellten
Anordnung.
509851/0834
FIg. 1 zeigt eine schematische Draufsicht auf den Regenerator entsprechend einer erfindungsgemäßen AusfUhrungsform. Die Ausführungsform
ist dargestellt als zweiphasige ladungsgekoppelte Vorrichtung mit abgestuftem Oxid zum Erhalt einer Richtungsvorgabe.
Zu regenerierende Ladungspakete werden von einer üblichen Ladungsubertragungsvorrichtung 1 empfangen, und regenerierte
Ladungspakete werden auf eine andere übliche Ladungsübertragungsvorrichtung 2 gegeben.
In Ladungsübertragungsvorrichtungen (für die nach dem im englischsprachigen Raum verwendeten Ausdruck charge transfer devices auch
der Abkürzungsausdruck CTD gebräuchlich ist) wird digitale Information dargestellt durch das Vorhandensein oder Nichtvorhandensein
von Ladungsträgerpaketen, die in künstlich induzierten Potentialmulden, die gewöhnlich an eine Grenzfläche mit einem
darüberliegenden Mater! al angrenzen, lokalisiert und. elektrostatisch
mit diesen gekoppelt sind. Die Potentialmulden werden vorteilhafterweise gebildet und gesteuert durch Anlegen von Spannungen
an Feldplattenelektroden derart, wie sie gewöhnlich bei den Metall-Isolator-Halbleiter-(MIS, von metal-insulator-semiconductor)
Technologien verwendet werden. Da die MIS-Technik fest etabliert und wohl bekannt Ist, wird es für unnötig gehalten,
Herstellungsverfahren für die unten offenbarten Anordnungen detailliert zu beschreiben.
Die ausführliche Arbeitsweise des Regenerators ist leichter verständlich,
wenn man Fig. 1 zusammen mit Querschnittsansichten
509851 /0834
des Regenerators betrachtet. Die Fig. 2 bis 5 zeigen Querschnittsansichten längs entsprechend bezifferter Schnittlinien in Pig. I.
Fig. 2 zeigt eine Querschnittsansicht einer Regeneratoranordnung 10 längs der Schnittlinie 2-2 der Fig. 1. Die Vorrichtung 10 umfaßt
eine isolierende Schicht 12 ungleichmäßiger Dicke, die auf einem η-leitenden Halbleitersubstrat 11 aufgebracht ist. Typischerweise
besteht die Schicht 12 aus Siliciumdioxid und das Substrat
aus η-leitendem Silicium mit Phosphor-Dotierstoffen in einer Kon-IS
7>
zentration von etwa 10 J pro cm .
zentration von etwa 10 J pro cm .
über der Schicht 12 liegen Ladungsübertragungs-Feldplattenelektroden
21 und 22. Wie Fig. 2 zeigt, umfaßt jede Elektrode einen ersten Teil, der über einer relativ dicken Zone der isolierenden Schicht
12 liegt, sowie einen zweiten Teil, der über einer relativ dünnen Zone der isolierenden Schicht 12 liegt. Die Elektroden 21 und 22
sind mit einer üblicherweise zugeordneten (nicht dargestellten) Zeitsteuerungsschaltung verbunden, um von dieser Treibimpulse 02
bzw. 01 zu empfangen. Ladungspakete werden längs eines Ladungsflußweges übertragen, der sich im Substrat 11 unterhalb der Elektroden
21 und 22 befindet. Typischerwaise handelt es sich bei diesem Weg um eine Fortsetzung des Ladungsflußweges der Ladungsübertragungsvorrichtung
1.
Eine in Fig. 2 gezeigte Fühler-Dotierstoffzone 24 ist eine im Substrat
11 angeordnete p-leitende Zone. Typischerweise enthält die
i8 Zone 24 Bor-Dotierstoffe in einer Konzentration von etwa 10 pro
enr. Eine Ladungsübertragungs-Feldplattenelektrode 23 liegt über
509851/0834
einem relativ dicken Teil der Schicht 12 und ist zwischen der Elektrode 22 und der Fühler-Dotierstoffzone 24 angeordnet. Eine
Steuerfeld-Plattenelektrode 25 auf der Schicht 12 stellt durch eine öffnung in der Schicht 12 oberhalb der Zone 24 einen Kontakt
zur Fühler-Dotierstoffzone 24 her. Über einem relativ dünnen Bereich der Schicht 12 und in Nachbarschaft zur Dotierstoffzone
befindet sich eine Ladungsübertragungs-Feldplattenelektrode 26. Neben der Elektrode 26 ist eine p-leitende Dotierstoffzone 27 im
Substrat 11 gebildet. Über der Schicht 12 und oberhalb der Dotierstoffzone 27 liegt eine Ladungsableitungselektrode 28, welche
durch eine öffnung in der Schicht 12 einen Kontakt mit der Dotierstoffzone
27 herstellt. Die Feldplattenelektrode 23 ist mit dem
Treibimpuls 02 und die Feldplattenelektroden 26 und 28 sind mit
dem Treibimpuls 01 verbunden.
In Fig. 1 stellen durchgezogene Linienmuster 21, 22, 25, 25,
und 28 Elektroden dar, die durch dieselben Bezugsziffern, die
in Fig. 2 verwendet sind, gekennzeichnet sind. Durchbrochene Linienmuster 24 und 27 stellen Dotierstoffzonen dar, die durch
dieselben Bezugsziffern, wie sie in Fig. 2 verwendet sind, gekennzeichnet sind. Treibimpulsleitungen sind in gleicher Weise
entsprechend gekennzeichnet.
Erläuternde Wellenformen der Spannungen, die an die Elektroden dieser Zweiphasen-Ausführungsform des Regenerators angelegt
werden, sind in den Fig. 6 bis 8 dargestellt. Die Treibimpulse 01 und 02 sind beide Rechteckwellen, die um l80° gegeneinander
509851/08 3 4
phasenverschoben sind und zwischen -V2 Volt und -Vj5 Volt variieren.
Ein Treibimpuls 03 ist ein periodischer Rechteckimpuls,
der von -Vj5 Volt auf -Vl Volt ansteigt, wenn 01 auf -V2 ansteigt,
und der auf -Vj5 geht, bevor 01 auf -Vj5 geht. Die Spannungen Vl,
V2 und V3 sind als positive Zahlen gewählt; und VJ ist größer als
V2, welches seinerseits größer als Vl ist. Typische. Werte für die Spannungen sind Vl= 2 Volt, V2= 8 Volt und V3= 16 Volt.
Im Betrieb werden Ladungspakete der Reihe nach unter den Feldplattenelektroden
21, 22 und 23 zur Fühler-Dotierstoffzone 24 übertragen. Der Fluß der Ladungspakete von der Dotierstoffzone
zur Dotierstoffzone 27 wird durch die Feldplattenelektrode 26 gesteuert. Ladungsträger verlassen die Fühler-Dotierstoffzone 24,
wenn deren Potentialwert über die durch die Feldplattenelektrode
26 vorgesehene Potentialbarriere hinausgeht. In gleicher Weise bleiben Ladungsträger mit einem Potentialwert, der unterhalb der
unter der Elektrode 26 liegenden Potentialbarriere ist, in der Fühler-Dotierstoff zone 24. Die Fühler-Do.tierstoffzone 24 kann
als "geeicht" betrachtet werden, wenn Ladungsträger die gesamte Ladungsspeicherkapazität der Zone 24 auf einen Potentialwert aufgefüllt
haben, der unterhalb der niedrigsten Potentialbarriere liegt, die durch die Feldplattenelektrode 26 vorgesehen ist.
Dies tritt typischerweise nach wenigen Ladungsübertragungszyklen auf. D.h., daß dieselbe Anzahl Ladungsträger, die nachfolgend in
die Dotierstoffzone 24 gelangt, diese Zone 24 verläßt. Das heißt
auch, daß die Oberflächenpotential-Änderung der Zone 24 und damit das Potential der Steuerelektrode 25 den in die Zone 24 eintreten-
509851 /083A
den Ladungspaketen proportional ist. Ferner ist die Änderungsperiode des Oberflächenpotentials dieselbe wie die Periode der
Treibimpulse 01 und02.
Zweck der Elektrode 28 und der Dotierstoffzone 27 ist es, eine Ladungsableitung für Ladungsträger von der FUhler-Dotierstoffzone
24 verfügbar zu machen. Da die Elektrode 28 keine Barriere für den Ladungsfluß zu schaffen braucht, kann sie anstatt mit dem
Treibimpuls 01 alternativ mit einem festen negativen Potential -V3 verbunden werden. Wenn die Elektrode 28 mit dem Treibimpuls
01 verbunden bleibt, kann eine durchgehende Metallisierung zur Bildung der Elektroden 26 und 28 verwendet werden.
Fig. 3 zeigt einen Querschnitt längs der Schnittlinie 3 - 3 in Fig. 1. Eine p-leitende Dotierstoffzone 32 ist im Substrat 11
gebildet, und eine Elektrode 31 liegt über der Schicht 12 und kontaktiert die Dotierstoffzone 32 durch eine öffnung in der
Schicht 12. Ein Treibimpuls 03 ist mit der Elektrode 31 verbunden.
Über einem relativ dicken Bereich der Schicht 12 und in einer Linie mit der Elektrode 31 angeordnet liegen der Reihe nach eine
Steuerelektrode 25* eine Blockierelektrode 33 und eine Verstärkungselektrode
3^· Die Blockierele^trode 33 ist mit dem Treibimpuls
02 verbunden, und die Verstärkungselektrode 34 ist an -V3
angeschlossen.
Wenn sich der Treibimpuls 03 auf dem Potentialwert -Vl befindet, fließen Ladungsträger von der Zone 32 zu einer induzierten Potentialmulde
unter der Verstärkungselektrode 34 und der Blockier-
B09851/0834
elektrode 33 aus. Es ist vorteilhaft, die Blockierelektrode 33
klein zu machen, so daß die Größe der Verstärkungselektrode 34
im wesentlichen die Größe der induzierten Potentialmulde und deshalb die Menge der "verstärkten Ladung" bestimmt. Wenn der
Impuls mit dem Potentialwert -Vl zu Ende geht, liegt an beiden Elektroden 31 und 34 ein Potential von -Vj5 an, und Ladung beginnt
von unterhalb der Verstärkungselektrode 34 zur Dotierstoffzone
zurückzufließen. Diesen Ladungsrückfluß begrenzt die Steuerelektrode 25 zwischen der Verstärkungselektrode 34 und der Dotierstoffzone
32.
Eine Potentialbarriere unter der Steuerelektrode 25 wird durch
das Oberflächenpotential eingestellt, das in der Fühler-Dotierstoff zone 24 erzeugt 1st. Die Größe des Oberflächenpotentials
hängt ab von der in der Zone 24 gespeicherten Ladung von der Ladungsübertragungsvorrichtung 1 und von der Kapazität der Zone
24. Ladungspakete in der Fühler-Dotierstoffzone 24, die eine
logische Eins repräsentieren, bilden eine höhere Potentialbarriere als eine logische Null repräsentierende Ladungspakete. Da sich
die Potentialbarriere unter der Steuerelektrode 25 mit derselben Frequenz ändert wie die Treibimpulse 01 und 02, welche die Ladungsübertragung
von der Ladungsübertragungsvorrichtung 1 steuern, bleibt die Potentialbarriere langer als die Zeitdauer des
-Vl-Potentialwertes des an die Quellenelektrode 31 angelegten
Treibimpulses 03 bestehen. Demgemäß erreicht der Potentialwert
der unter der Verstärkungselektrode 34 gespeieherten Ladungsträger
denselben Wert wie die Potentialbarriere unter der Steuerelektrode
509851/0834
2525033
25· Ladungsträger können anfangs die Potentialbarriere passieren,
da der -Vl-Potentialwert des an die Quellenelektrode 31 angelegten
Treibimpulses 03 größer als der Spitzenwert der Potentialbarriere
unter der Steuerelektrode 25 ist.
Um einen Rückfluß der unter der Verstärkungselektrode 34 gespeicherten
Ladungsträger zu verhindern, wenn die Potentialbarriere unter der Steuerelektrode 25 reduziert ist, ist die Blockierelektrode
33 zwischen der Steuerelektrode 25 und der Verstärkungselektrode 34 angeordnet. Da die Blockierelektrode 33 mit dem Treibimpuls 02
verbunden ist, erzeugt sie eine Potentialbarriere gegenüber dem Fluß der unter der Elektrode J>h gespeicherten Ladung bis die Ladung
unter eine nachfolgende Elektrode übertragen ist. Als Alternative kann ein zusätzlicher Treibimpuls verwendet werden, so daß
Ladung von unterhalb der Elektrode 34 übertragen werden kann, bevor
die Potentialbarriere unter der Steuerelektrode 25 reduziert
wird.
Die Verstärkungselektrode 34 ist mit der Spannung -V3 verbunden,
die zusammen mit der Kapazität der Verstärkungselektrode y\ die
Ladungsspeicherkapazität einer Potentialmulde unterhalb der Verstärkungselektrode
34 bestimmt. Die Größe der Potentialmulde und die Höhe der Potentialbarriere unter der Steuerelektrode 25 bestimmen
die Menge der gespeicherten Ladung. Das Verhältnis der unter der Verstärkungselektrode 34 gespeicherten Ladung zu der
in der Fühler-Dotierstoffzone 24 gespeicherten Ladung ist proportional zum Verhältnis der Kapazität der Verstärkungselektrode
34 zur Kapazität der Fühlerdiffusion 24. Das Verhältnis ist ein
5 0 9 8 51/0834
Verstärkungsfaktor für die Ladungspakete von der Ladungsubertragungsvorrichtung
1. Bei der Wahl der Größe des Verstärkungsfaktors werden die LadungsUbertragungs-Unvollkommenheiten der
Ladungsubertragungsvorrichtung 1 in Betracht gezogen. Nach der Verstärkung sollte die Ladungsdifferenz zwischen logische Einsen
und Nullen repräsentierenden Paketen wenigstens gleich der Ladung in einer vollen Potentialmulde sein. Deshalb ist eine
umso größere Verstärkung erforderlich, je dichter sich die logische Einsen oder Nullen repräsentierenden Ladungspakete
hinsichtlich ihrer Größe kommen.
In Ladungsflußrichtung folgt auf die Verstärkungselektrode 34
eine über der Schicht 12 liegende Elektrode 35. Sie ist mit dem Treibimpuls 01 verbunden und bewirkt eine Aufteilung des Ladungsträgerflusses
von unterhalb der Verstärkungselektrode 34 auf zwei Wegen. Ein Weg ist der in Fig. 3 gezeigte Hauptladungsflußweg.
Der andere ist ein Subtraktionsweg, der in Fig. 4 dargestellt
ist, welche einen Querschnitt längs der Schnittlinie 4-4 in Fig. 1 ist. In den Fig. 1, 3 und 4 kann man sehen, daß die
Elektrode 35 einen ersten Teil, der über einem relativ dicken Bereich der Schicht 12 gebildet ist, und einen zweiten Teil aufweist,
der über einem relativ dünnen Bereich der Schicht 12 gebildet ist.
Der Subtraktionsweg der Fig. 4 entfernt eine Ladungsmenge gleich einer logischen Null von derjenigen Ladung, welche in den Bereich
unter der Elektrode 35 fließt. Im Subtraktionsweg befindet sich
509851/083A
neben der Elektrode 35 eine (Jbertragungselektrode 4l mit einem
ersten und einem zweiten Teil, die über einem relativ dicken bzw. einem relativ dünnen Bereich der Schicht 12 gebildet sind. Ferner
befinden sich längs des Subtraktionsweges der Reihe nach eine über einem relativ dicken Bereich der Schicht liegende Elektrode 42
und eine Ableitungselektrode 43, die auf der Schicht 12 gebildet ist und durch eine öffnung in der Schicht 12 eine p-leitende
Dotierstoffzone 44 im Substrat 11 kontaktiert. Die Elektrode 41 ist mit dem Treibimpuls 02 verbunden. Die Elektroden 42 und 4j5
sind beide mit 01 verbunden.
Im Betrieb induziert die Elektrode 41 eine Potentialmulde mit einer Ladungsspeicherkapazität gleich der Menge, die von den
unter der Elektrode 35 gespeicherten Ladungsträgern zu subtrahieren ist. Ladung von unterhalb der Elektrode 41 wird zur Dotierstoffzone
44 übertragen, wenn eine Potentialbarriere unter der Elektrode 42 reduziert ist. Die Dotierstoffzone 44 ist Teil einer Ladungsableitungsanordnung,
die auch die Elektrode 43 einschließt. Bei den Elektroden 42 und 43 kann es sich um eine durchgehende Metallisierung
handeln, da sie beide mit dem Treibimpuls 01 verbunden sind. Alternativ dazu kann die Ableitelektrode 43 getrennt bleiben
und mit dem festen Potentialwert -Vj5 verDunden sein. Das feststehende
Potential kann anstelle des Treibimpulses 01 verwendet werden, da die Elektrode 43 keine Potentialbarriere variabler
Höhe zu erzeugen braucht.
Um sicher zu sein, daß die Potentialmulde unter der Elektrode
509851 /0836
voll 1st, wird die Ladung von unterhalb der Feldplattenelektrode
35 vorteilhafterweise vorübergehend daran gehindert, in den in
Pig· 3 gezeigten Hauptladungsflußweg vorzudringen. Zu diesem Zweck
ist eine Umlenk-Feldplattenelektrode 36 neben der Elektrode 35
angeordnet und liegt über einem relativ dicken Bereich der Schicht 12. Die Feldplattenelektrode J>6 ist mit dem Treibimpuls 03 verbunden
und induziert eine darunterliegende Potentialbarriere, um eine Ladungsübertragung zum Ausgang des Regenerators hin zu verhindern,
während die Potentialmulde unter der Feldplattenelektrode 4l aufgefüllt wird. Es sei folgendes bemerkt: Da die Elektrode
lediglich dazu dient, diese leichte Verzögerung beim öffnen des Ladungsweges zum Ausgang des Regenerators zu erzeugen, können
andere Alternativen wie eine andere geometrische Anordnung der Elektroden verwendet werden, um sicherzustellen, daß die Subtraktion
stattfindet.
Es wird nun der Ladungsflußweg in Fig. 3 weiterverfolgt. Wenn der
-Vl-Potentialwert des Treibimpulses 03 aufhört, fließt Ladung an
der Elektrode 36 vorbei zu einer Begrenzerelektrode 37· Diese ist
mit dem Treibimpuls 02 verbunden und teilt den Fluß der Ladungsträger in zwei Wege auf. Ein Weg ist eine Fortsetzung des Ladungsflußweges
in Fig. 3. Der andere Weg dient überschüssiger Ladung, verläuft längs der Schnittlinie 5-5 der Fig. 1 und ist in Fig.
dargestellt. Ladung, die in den Bereich unter der Elektrode 37 eintritt und einen Überschuß gegenüber der für die Darstellung
einer logischen Eins erforderlichen Menge bedeutet, fließt in den Weg für überschüssige Ladung. Die zur Darstellung einer logi-
5 0 9851/0834
2525Q93
sehen Eins erforderliche Ladungsmenge wird längs des Ladungsweges
der Fig. 3 übertragen.
Die Aufteilung des Ladungsflusses auf die beiden Wege wird durch die Form der Elektrode 37 in Verbindung mit dem geeigneten Anlegen
von Spannungen bewirkt. Aus den Fig. 1, 3 und 5 kann man sehen,
daß die Elektrode 37 einen ersten, auf einem relativ dicken Bereich der Schicht 12 gebildeten Teil, einen zweiten, auf einem
relativ dünnen Bereich der Schicht 12 gebildeten Teil, und, lediglich im Weg für überflüssige Ladung, einen dritten, auf einem
relativ dicken Bereicn der Schicht 12 gebildeten Teil aufweist. Insbesondere aus Fig. 5 ist ersichtlich, daß der zweite Teil der
Elektrode 37 eine zentrale Potentialmulde erzeugen kann, welche
Ladung zu speichern vermag. Neben der Begrenzerelektrode 37 befindet sich im Weg für überschüssige Ladung eine p-leitende
Dotierstoffzone 51, die im Substrat 11 gebildet ist. Auf der
Schicht 12 ist eine Ableitelektrode 52 gebildet, welche die Dotierstoff
zone 51 durch eine öffnung in der Schicht 12 kontaktiert. Die Elektrode 52 ist mit dem Treibimpuls 02 verbunden. Da die Elektroden
37 und 52 beide mit dem Treibimpuls 02 verbunden sind, fließt
die gesamte in den Bereich unterhalb der Elektrode 37 eintretende Ladung in die Dotierstoffzone 51 unter der Elektrode 52, ausgenommen
diejenige Ladung, welche unter dem zentralen Teil der Elektrode 37 gespeichert ist. Bei den Elektroden 37 und 52 kann es sich um
eine durchgehende Metallisierung handeln, da sie beide mit dem Treibimpuls 02 verbunden sind. Alternativ dazu kann die Elektrode
37 getrennt bleiben und mit dem festen Potentialwert -V"3 verbunden
sein.
SO 9851/0834 '
Neben dem zweiten Teil der Begrenzerelektrode befindet sich in dem
in Fig. 3 gezeigten Hauptladungsflußweg eine abgestufte Elektrode 38. Diese ist mit dem Treibimpuls 01 verbunden und weist einen ersten,
auf einem relativ dicken Bereich der Schicht 12 gebildeten Teil und einen zweiten, auf einem relativ dünnen Bereich der Schicht 12
gebildeten Teil auf. Da die Begrenzerelektrode 37 als eine einfach abgestufte Elektrode ohne eine zentrale Potentialmulde längs des
Hauptladungsweges der Fig. 3 erscheint, tritt eine Ladungsübertragung von unterhalb der Elektrode 37 nach unterhalb der Elektrode 38
auf, wenn der Treibimpuls 01 eine Potentialmulde unter der Elektrode 38 induziert, die tiefer als die Potentialmulde ist, die unter
der Elektrode 37 durch den Treibimpuls 02 induziert ist. Die übertragene Ladungsmenge ist diejenige Menge, welche gespeichert war
in der Potentialmulde unter dem zweiten Teil der Elektrode 37* die
auf dem relativ dünnen Teil der Schicht 12 gebildet ist.
Wie es auch bei der Fig. 2 der Fall ist, ist Fig. 1 entsprechend den Fig. 3, 4 und. 5 mit Bezugsnummern versehen. In Fig. 1 stellen
durchgezogene Linien-Muster 31, 33, 34, 35, 36, 37, 38, 41, 42, 43 und 52 Elektroden dar. Gebrochene Linien-Muster 32, 44 und 5I
stellen Dotierstoffzonen dar. Treibimpulsleitungen und die Spannung
V3 sind in gMcher Weise entsprechend gekennzeichnet.
Die Größe der Potentialraulde unter dem zweiten Teil der Elektrode
ist vorteilhafterweise ebenso groß, wie die kleinste Potentialmulde in der nachfolgenden LadungsUbertragungsvorrichtung 2. Wenn die
Potentialmulde größer ist, kann zuviel Ladung in die Ladungsüber-
S09851 /083/.
tragungsvorrichtung 2 eingebracht werden. Eine Abänderung in den Potentialmuldenabmaßen in Ladungsübertragungsvorrichtungen kann
aufgrund von Herstellungsänderung bewirkt werden. Wenn beispielsweise eine nachfolgende Ladungsübertragungsvorrichtung zur Richtwirkung
abgestuftes Oxid verwendet, bestimmt die Ausrichtung zwischen der Oxidstufe und der abgestuften Elektrode die Größe der
Speicherpotentialmulde in der Ladungsübertragungsvorrichtung.
Bekanntlich ist es bei manchen Ladungsübertragungsvorrichtungen vorteilhaft, eine logische Null anstatt durch keine Ladung durch
eine kleine Ladungsmenge darzustellen. Eine solche logische Null ist "fette Null" genannt worden und kam in diesem Regenerator verwendet
werden. Eine Möglichkeit zur Erzeugung der fetten Null besteht darin, die Größe der Potentialmulde unter der subtrahierenden
Elektrode 41 einzustellen, so daß die subtrahierte Menge kleiner ist als die eine logische Null repräsentierende Ladung nach der
Multiplikation. Ein Nachteil dieser Ausführung besteht darin, daß eine Änderung des Ubertragungs-Wirkungsgrades der Ladungsübertragungsvorrichtung
1 die Größe des Ladungspaketes einer logischen Null nach der Multiplikation ändert und erforderlich macht, daß eine
unterschiedliche Menge subtrahiert wird, um eine fette Null derselben Größe aufrecht zu erhalten. Eine Änderung der zu substrahierenden
Menge stellt eine unerwünschte Verkomplizierung dar.
Eine andere Möglichkeit zur Erzeugung einer fetten Null ist die Verwendung einer zusätzlichen Schaltungsanordnung, deren schematische
Draufsicht in Pig. 9 gezeigt ist. Die Ladung für die fette Null wird in Schaltung der Fig. 1 bei der Elektrode 37 eingeführt.
509851/083A
Die Elektrode 37 erscheint auch in Fig. 9. Fig. 10 ist ein Querschnitt
längs der Schnittlinie 8-8 der Fig. 9*und Fig. 11 stellt eine Schnittansicht längs der Schnittlinie 9-9 der Fig. 9 dar.
Re Die Schaltung kann im selben Material wie die generatorsehaltung
gebildet werden und umfaßt, wie es in den Fig. 10 und 11 gezeigt ist, ein Substrat 11 und eine darüberliegende isolierende Schicht 12,
Wie die Fig. 10 zeigt, ist eine p-leitende Dotierstoffzone 78 im
Substrat 11 angeordnet. Eine Quellenelektrode 71 liegt über der Schicht 12 und kontaktiert die Dotierstoffzone 78 durch eine Öffnung
in der Schicht 12 hindurch. Längs des in Fig. 10 gezeigten Ladungsweges befindet sich im Anschluß an die Elektrode 78 und über
der Schicht 12 eine LadungsUbertragungselektrode 72, eine Ladungsspeicherelektrode
73* eine Ladungsteilerelektrode 7^ und eine
Fett-Null-Elektrode 75. Die Elektroden72 und 73 haben je erste und
zweite Teile auf relativ dicken bzw. dünnen Bereichen der Schicht 12. Die Elektroden74 und 75 sind auf relativ dünnen Bereichen der
Schicht 12 gebildet. Die Elektrode 75 ist neben der Begrenzerelektrode 37 der Fig. 1 angeordnet. Die Elektroden 71 und 7^ sind mit dem
Treibimpuls 03 verbunden; die Elektrode 72 ist mit dem Treibimpuls
02 und die Elektroden 73 und 75 sin3 mit dem Treibimpuls 01 verbunden.
Es wird nun Fig. 11 betrachtet. Die Fett-Null-Schaltung schließt
weiter eine Ubertragungselektrode 76 ein, die neben der Elektrode
73 angeordnet ist und über einem relativ dicken Bereich der Schicht 12 liegt. Eine p-leitende Dotierstoffzone 79 ist im Substrat
11 neben der Übertragungselektrode 76 gebildet· Eine Ab-
509851/0834
leitelektrode 77 liegt über der Schicht 12 und kontaktiert durch
eine Kontaktöffnung in der Schicht 12 hindurch eine Dotierstoffzone
79· Die Elektroden 76 und 77 sind mit dem Treibimpuls 02
verbunden.
Fig. 9 ist entsprechend den Pig. 10 und 11 mit Bezugsziffern versehen.
In Fig. 9 stellen durchgehende Linienmuster 71* 72, 73, "Jh,
75* 76 und 77 Elektroden dar. Gebrochene Linienmuster 78 und 79
repräsentieren Dotierstoffzonen. Treibimpulsleitungen sind gleicherweise
entsprechend beziffert.
Im Betrieb teilt die in Fig. 9 gezeigte Schaltungsanordnung eine
unter den Elektroden 73* 7^ und 75 gespeicherte Ladungsmenge auf.
Auf diese Weise wird die für eine fette Null erwünschte Ladungsmenge unter der Elektrode 75 für die fette Null gespeichert.
Ladungsträger werden durch die die Dotierstoffzone 78 kontaktierende
Quellenelektrode 71 erzeugt. Eine unter der Übertragungselektrode
72 induzierte Potentialmulde hat eine Ladungsspeicherkapazität,
die vorteilhafterweise gleich der minimalen Ladungsspeicherkapazität einer Potentialmulde der Ladungsübertragungsvorrichtung
2 ist. Diese Ladungsmenge wird von der Dotierstoffzone
78 zur Übertragungselektrode 73 übertragen. Die Ladung breitet sich
sowohl unter dem zweiten Teil der Übertragungselektrode 73 als
auch der Elektroden 74 und 75 aus. Dies kommt daher, daß die
Elektroden 74, 75 und.der zweite Teil der Elektrode 73 alle unter
sich induzierte Potentialwalle derselben Tiefe aufweisen.
50985 1/08 34
Wenn der Potentialwert -Vl vom Treibimpuls 03 aufhört, wird eine
Potentialbarriere unter der Teilerelektrode 7^ gebildet, und die
unter der Elektrode 73 gespeicherte Ladung wird von der unter der Elektrode 75 gespeicherten Ladung abgeteilt. Das Verhältnis
der Fläche des zweiten Teils der Elektrode 73 zur Fläche der Elektrode 75 ist derart, daß die gewünschte Ladungsmenge für
eine fette Null unter der Elektrode 75 gespeichert wird. Diese Menge wird dann zur Begrenzerelektrode 37 übertragen. Die unter
der Elektrode 73 gespeicherte Ladungsmenge wird längs eines in Fig. 11 gezeigten Ladungsübertragungsweges zu einer Ladungsableitanordnung
übertragen. Die Elektrode 76 induziert eine darunterliegende
Potentialbarriere, welche den Ladungsträgerfluß von unterhalb der Elektrode 73 zu^ Dotierstoffzone 79 regelt. Wie
bei den vorherigen Ladungsableitungsanordnungen können die Elektroden 76 und 77 vereint sein, oder die Elektrode 77 kann
alternativ dazu mit einem festen Potentialwert verbunden sein.
Es versteht sich, daß der Regenerator in gleicher Weise auf andere
als die beschriebene Ladungsübertragungsvorrichtung anwendbar ist.
Beispielsweise können ladungsgekoppelte Vorrichtungen mit anderer Phasenzahl als zwei diesen Regenerator verwenden, wie es Eimerbrigadenvorrichtungen
können. Des weiteren kann in einem Zweiphasensystem die Richtwirkung durch andere Mittel als das abgestufte
Oxid erreicht werden. Beispielsweise sind eine Gleichstromvorspannung oder eine Dotierstoffzone unter einem Teil einer Elektrode
alternative Mittel zum Erhalt einer Asymmetrie, um die gewünschte Richtwirkung zu schaffen.
5 0 985 1/0834
Claims (6)
- BLUMBACH · WESER · BERGEN · KRAMERZWIRNER - HIRSCH 2 52 5093PATENTANWÄLTE IN MÜNCHEN UND WIESBADENPostadresse München: Patentconsult 8 München 60 Radeckestraße 43 Telefon (089) 883603/883604 Telex 05-212313 Postadresse Wiesbaden: Patentconsult 62 Wiesbaden Sonnenberger Straße 43 Telefon (06121) 562943/561998 Telex 04-186237Patentansprüche1Λ Halbleitervorrichtung zur Speicherung und seriellen Übertragung von Ladungsträgern, die in induzierte Potentialmulden längs eines Oberflächenteils eines Körpers lokalisiert sind, durch sequentielles Anlegen mehrerer unterschiedlicher Potentiale an aufeinanderfolgende Teile der Oberfläche, sowie zur Regenerierung logischer Bits, gekennzeichnet durch eine Multipliziereinrichtung (24, 25, 27, 31, 32, 34) zur Multiplikation eines Ladungspaketes mit einem derartigen Multiplikationsfaktor, daß nach der Multiplikation die Differenz zwischen der Ladungsmenge in einem eine logische Eins repräsentierenden Ladungspaket und der Ladungsmenge in einem eine logische Null repräsentierenden Ladungspaket wenigstens ebenso groß ist wie die maximale Ladungsspeicherkapazität einer Potentialmulde, eine Subtraktionseinrichtung (35, 41, 44) zur Subtraktion einer festen Ladungsmenge vom multiplizierten Ladungspaket, die dazu ausreicht, die gesamte Ladung zu entfernen, wenn das Ladungspaket eine logische Null repräsentiert, und eine Begrenzungseinrichtung (37, 38, 51, 52) zur Begrenzung der Ladungsmenge in dem Ladungspaket auf einen Maximalwert, der gleich der minimalen Ladungsspeicherkapazität einer Potentialmulde ist.509851/083ÄMünchen: Kramer ■ Dr. Weser ■ Hirsch — Wiesbaden: Blumbach · Dr. Bergen · Zwirner
- 2. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Multipliziereinrichtungeine Detektoreinrichtung (24) zum Feststellen der Ladungsträger in dem Ladungspaket umfaßt,sowie eine Potentialerzeugungseinrichtung (25) zur Erzeugung eines Potentialwertes, der proportional ist zur Anzahl der Ladungsträger in dem Ladungspaket,eine Einrichtung (32) zur Schaffung einer Ladungsträgerquelle, eine Einrichtung (3^) zur Schaffung einer Ladungsspeieherzone, einer Ladungsspeieherkapazität, die wenigstens ebenso groß wie das Ladungspaket ist,eine Einrichtung (25, Zj) zum Induzieren einer Potentialbarriere, die proportional ist zum Potentialwert im Ladungsflußweg zwischen der Ladungsquelle und der Ladungsspdcherzone, und eine Fülleinrichtung(-V3, 34) zum Auffüllen der Ladungsspeieherzone auf einen Potentialwert, der gleich der Potentialbarriere ist.
- 3. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Fülleinrichtung zum Auffüllen der Ladungsspeieherzone eine Einrichtung (03, 31) umfaßt zum Anlegen eines Potentialwertes, der größer als die Potentialbarriere ist, an die Ladungsträgerquelle,sowie eine Einrichtung (03, 31, 32, 25, 33, 34) zum Auffüllen der Ladungsspeieherzone auf den an die Ladungsträgerquelle angelegten Potentialwert,
eine Reduziereinrichtung .(03* 31) zum Reduzieren des an die509851 /0834Ladungsträgerquelle angelegten Potentialwertes auf einen Wert unterhalb der Potentialbarriere,und eine Reduziereinrichtung (-V3, 34, 03, 31) zur Reduzierung des Potentialwertes der Ladungsträger in der Ladungsspeicherzone auf den Potentialwert der Potentialbarriere. - 4. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Subtraktionseinrichtungeine Füllvorrichtung (41) umfaßt zum Auffüllen einer Ladungsspeicherzone einer Ladungsspeicherkapazität, die gleich der zu subtrahierenden Menge ist, mit Ladung von dem multiplizierten Ladungspaket,sowie eine Einrichtung (37) zum Zurückhalten des Restes des multiplizierten Ladungspaketes.
- 5. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Begrenzungseinrichtungeine Füllvorrichtung (57) umfaßt zum Auffüllen einer Ladungsspeicherzone mit einer Ladungsspeicherkapazität, die gleich der minimalen Ladungsspeicherkapazität einer Potentialmulde der Ladungsspeichereinrichtung ist mit Ladungsträgern des Ladungspaketes,sowie eine Einrichtung (51, 52) zum Entfernen der restlichen Ladungsträger in dem Ladungspaket undeine Einrichtung (31) zum Zurückhalten der in der Ladungsspeicherzone gespeicherten Ladungsträger.509851 /083/»
- 6. Halbleitervorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine Einrichtung (71ι 78) zur Erzeugung eines Ladungspaketes, das hinsichtlich seiner Größe gleich dem eine logische Eins repräsentierendem Paket ist,eine Teilungseinrichtung (7^* 75* 76) zum Aufteilen des Ladungspaketes in Teile derart, daß einer der Teile verglichen mit der eine logische Eins repräsentierenden Ladungsmenge eine kleine Ladungsmenge darstellt,und eine Addiereinrichtung (37) zum Addieren der kleinen Ladungsmenge zu dem zu regenerierenden Ladungspaket nach der Subtraktion der festen Ladungsmenge.509851/0834Leerseite
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US05/476,702 US3937985A (en) | 1974-06-05 | 1974-06-05 | Apparatus and method for regenerating charge |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2525093A1 true DE2525093A1 (de) | 1975-12-18 |
Family
ID=23892916
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19752525093 Pending DE2525093A1 (de) | 1974-06-05 | 1975-06-05 | Vorrichtung und verfahren zur ladungsregenerierung |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3937985A (de) |
JP (1) | JPS516483A (de) |
DE (1) | DE2525093A1 (de) |
FR (1) | FR2274116A1 (de) |
IT (1) | IT1036170B (de) |
NL (1) | NL7506450A (de) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2281629A1 (fr) * | 1974-08-10 | 1976-03-05 | Solartron Electronic Group | Circuit memoire analogique |
US3980902A (en) * | 1975-06-30 | 1976-09-14 | Honeywell Information Systems, Inc. | Charge injectors for CCD registers |
DE2541662A1 (de) * | 1975-09-18 | 1977-03-24 | Siemens Ag | Regenerierschaltung fuer ladungsverschiebeanordnungen |
US4124862A (en) * | 1975-10-01 | 1978-11-07 | General Electric Company | Charge transfer filter |
US4047051A (en) * | 1975-10-24 | 1977-09-06 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for replicating a charge packet |
JPS52147941A (en) * | 1976-06-03 | 1977-12-08 | Toshiba Corp | Electric charge transfer type analog signal memory system |
US4099197A (en) * | 1976-08-12 | 1978-07-04 | Northern Telecom Limited | Complementary input structure for charge coupled device |
US4170041A (en) * | 1976-09-17 | 1979-10-02 | Trw Inc. | Logic gate utilizing charge transfer devices |
US4099175A (en) * | 1976-10-29 | 1978-07-04 | International Business Machines Corporation | Charge-coupled device digital-to-analog converter |
CA1105139A (en) * | 1976-12-08 | 1981-07-14 | Ronald E. Crochiere | Charge transfer device having linear differential charge-splitting input |
DE2721039C2 (de) * | 1977-05-10 | 1986-10-23 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Digitale Ladungsverschiebeanordnung |
US4140923A (en) * | 1977-11-25 | 1979-02-20 | Rca Corporation | Charge transfer output circuits |
US4135104A (en) * | 1977-12-02 | 1979-01-16 | Trw, Inc. | Regenerator circuit |
DE2836473A1 (de) * | 1978-08-21 | 1980-03-06 | Siemens Ag | Ccd-eingangsschaltung nach dem fill and spill-prinzip |
DE2838037A1 (de) * | 1978-08-31 | 1980-04-10 | Siemens Ag | Monolithisch integrierte ladungsverschiebeanordnung |
US4482909A (en) * | 1982-08-02 | 1984-11-13 | Xerox Corporation | Signal equalization in quadrilinear imaging CCD arrays |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU461729B2 (en) * | 1971-01-14 | 1975-06-05 | Rca Corporation | Charge coupled circuits |
US3806772A (en) * | 1972-02-07 | 1974-04-23 | Fairchild Camera Instr Co | Charge coupled amplifier |
US3777186A (en) * | 1972-07-03 | 1973-12-04 | Ibm | Charge transfer logic device |
US3838438A (en) * | 1973-03-02 | 1974-09-24 | Bell Telephone Labor Inc | Detection, inversion, and regeneration in charge transfer apparatus |
US3831041A (en) * | 1973-05-03 | 1974-08-20 | Bell Telephone Labor Inc | Compensating circuit for semiconductive apparatus |
-
1974
- 1974-06-05 US US05/476,702 patent/US3937985A/en not_active Expired - Lifetime
-
1975
- 1975-05-30 NL NL7506450A patent/NL7506450A/xx unknown
- 1975-06-04 FR FR7517433A patent/FR2274116A1/fr active Granted
- 1975-06-04 IT IT68439/75A patent/IT1036170B/it active
- 1975-06-05 DE DE19752525093 patent/DE2525093A1/de active Pending
- 1975-06-05 JP JP50067136A patent/JPS516483A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL7506450A (nl) | 1975-12-09 |
FR2274116B1 (de) | 1977-07-08 |
US3937985A (en) | 1976-02-10 |
IT1036170B (it) | 1979-10-30 |
JPS516483A (de) | 1976-01-20 |
FR2274116A1 (fr) | 1976-01-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2525093A1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur ladungsregenerierung | |
DE2107037A1 (de) | Halbleiterbaueinheit | |
DE2107022C3 (de) | ||
DE2501934A1 (de) | Halbleiter-speicheranordnung | |
DE2643704C2 (de) | Transversalfilter mit mindestens einem analogen Schieberegister und Verfahren zu dessen Betrieb | |
DE2432352C3 (de) | MNOS-Halbleiterspeicherelement | |
DE2231565A1 (de) | Umsteuerbare zweiphasige ladungsgekoppelte baueinheit | |
DE2616477A1 (de) | Halbleiterschaltung | |
DE2616476A1 (de) | Ladungsregenerator fuer eine halbleiter-ladungsuebertragungsvorrichtung | |
DE69629456T2 (de) | Feldeffekttransistor mit verminderter Verzögerungsänderung | |
DE2419064A1 (de) | Analoginverter | |
DE2151898C3 (de) | Ladungstransporteinrichtung | |
DE2844248C3 (de) | Ladungsübertragungsanordnung | |
DE2933440C2 (de) | Ladungsübertragungs-Transversalfilter | |
DE2936682C2 (de) | ||
EP0006465B1 (de) | Ladungsgekoppeltes Zwei-Kanal-Halbleiterbauelement | |
DE2542832A1 (de) | Regenerierschaltung fuer ladungsverschiebeanordnungen in mehrlagenmetallisierung | |
DE2703317A1 (de) | Ladungsgekoppelte korrelatoranordnung | |
EP0004870B1 (de) | Transversalfilter mit Paralleleingängen. | |
DE2820580A1 (de) | Transversalfilter mit elektronisch einstellbaren gewichtungsfaktoren | |
DE2654316C2 (de) | ||
DE2536311A1 (de) | Ladungsuebertragungsvorrichtungen | |
DE2430947C2 (de) | Halbleiterspeichereinheit | |
DE2418582C3 (de) | MNOS-Transistor, insbesondere MNOS-Transistor mit kurzer Kanalzone, für kurze Einschreibzeiten | |
DE2426531C3 (de) | Halbleiterbauelement zur Ladungsübertragung |