DE2518274A1 - Verfahren zum entwickeln einer lichtempfindlichen druckplatte auf kunstharzbasis - Google Patents

Verfahren zum entwickeln einer lichtempfindlichen druckplatte auf kunstharzbasis

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DE2518274A1
DE2518274A1 DE19752518274 DE2518274A DE2518274A1 DE 2518274 A1 DE2518274 A1 DE 2518274A1 DE 19752518274 DE19752518274 DE 19752518274 DE 2518274 A DE2518274 A DE 2518274A DE 2518274 A1 DE2518274 A1 DE 2518274A1
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DE
Germany
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suction
printing plate
photosensitive
resin
suction nozzle
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DE19752518274
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German (de)
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Akihiro Furuta
Takezo Sano
Yukikazu Uemura
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/36—Imagewise removal not covered by groups G03F7/30 - G03F7/34, e.g. using gas streams, using plasma

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0167111A3 (en) * 1984-06-30 1987-06-16 Basf Aktiengesellschaft Process for obtaining resist patterns

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52113807A (en) * 1976-03-19 1977-09-24 Ube Industries Apparatus for treating photoosensitive resin plate
JP2516866B2 (ja) * 1991-12-10 1996-07-24 株式会社白興商会 シャツ類を包装するためのハンガ―及び該ハンガ―を利用したシャツ類の包装方法と簡易包装装置
JP2003021916A (ja) * 2001-06-21 2003-01-24 Agfa Gevaert Nv 平板印刷用版前駆体の製造法

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS541201B2 (enrdf_load_stackoverflow) * 1973-12-25 1979-01-22

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0167111A3 (en) * 1984-06-30 1987-06-16 Basf Aktiengesellschaft Process for obtaining resist patterns

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