DE2443718C3 - Verfahren zum Auftragen eines Antireflexionsfilms auf die Oberfläche eines optischen Körpers - Google Patents

Verfahren zum Auftragen eines Antireflexionsfilms auf die Oberfläche eines optischen Körpers

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Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Auftragen eines Antireflexionsfilms aus mehreren Schichten mit abwechselnd niedrigen und hohen Brechungsindizes auf die Oberfläche eines optischen Körpers oder Substrats, wodurch ein fester und haltbarer Antireflexionsfilm erhalten wird.
Es ist bekannt, auf einem durchsichtigen optischen Material oder Körper (im folgenden der Kürze halber als »Substrat« bezeichnet) durch Aufdampfen im Vakuum einen Antireflexionsfilm auszubilden. So wurde beispielsweise bereits eine entsprechende Substratoberfläche im Vakuum mit einem einzelnen MgF2-FiIm ah Antireflexionsfilm bedamoft. Sofern nicht die Substratoberfläche gründlich gesäubert und zur vollständigen Entfernung von Feuchtigkeitsspuren und organischen Verunreinigungen von der Oberfläche im Vakuum auf eine Temperatur von 150 bis 350° C erhitzt worden ist, lassen sich nach den üblichen Vakuumbedampfungsverfahren jedoch keine akzeptablen Antireflexionsfilme ausbilden. Sofern nach den üblichen Vakuumbedampfungsverfahren wider Erwarten ein akzeptabler Antireflexionsfilm gebildet wird, ist dieser jedoch nicht gut haltbar. Ein weiterer Nachteil der bekannten Verfahren besteht darin, daß das Substrat auf Temperaturen von höher als 150° C erhitzt werden muß. Bei solchen Temperaturen kommt es in der Regel zu einer Materialänderung. Im Falle, daß ein Kunstharzsubstrat oder ein polarisierendes Substrat aus Glasschichten mit e-iiiem dazwischenliegenden hochmolekularen Film nach den bekannten Vakuumbedampfungsverfahren beschichtet werden soll, kommt es insbesondere zu einer physikalischen Verformung und zu eine; Beeinträchtigung der Lichtdurchlässigkeit.
Ferner ist aus der GB-PS H 06 066 ein optischer Gegenstand und ein Verfahren zu seiner Herstellung bekannt, bei dem auf ein Substrat allerdings vier Schichten aufgebracht werden, deren äußere Schicht SiO oder SiO2 ist. Gegebenenfalls ist hierbei noch eine fünfte äußere Schutzschicht vorgesehen, die z. B. aus Al2Oj oder SiO2 besteht. Diese Schichten sind ferner als Schichten mit verhältnismäßig niederen Brechungsindizes mit Schichten mit verhältnismäßig hohen Brechungsindizes auf dem Substrat kombiniert, so daß eine vergleichsweise komplexe Schichtstruktur mit besonderen optischen Eigenschaften vorliegt.
Der Erfindung lag somit die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum einfachen Auftragen eines vergleichsweise einfachen, festen und dauerhaften bzw. haltbaren Antireflexionsfilms auf einem Glas- oder Kunstharzsubstrat bei Temperaturen unterhalb 120° C anzugeben, bei dessen Durchführung die Lichtdurchlässigkeit, das Ausgangsmaterial und die Gesta't des Substrats nicht beeinträchtigt werden.
Gelöst wird diese Aufgabe erfindungsgemäß durch ein Verfahren zum Auftragen eines Antireflexionsfilms aus mehreren Schichten mit abwechselnd niedrigen und hohen Brechungsindizes auf die Oberfläche eines optischen Körpers oder Substrats, das sich dadurch auszeichnet, daß man die Oberfläche des optischen Körpers in einer ersten Stufe mit einer Geschwindigkeit von 50 bis 150 nm/min mit einem Siliziumoxid(SiO)film einer Dicke von λ/2 (Wellenlänge λ = 500 bis 550 nm) vakuumbedampft, wobei sich der optische Körper in einer Vakuumkammer mit einem Vakuum von 5 bis 10-'' bis 8 χ 10-"Torr befindet und auf einer Temperatur von 20 bis 120n C gehalten wird, und daß man den gebildeten SiO-FiIm in einer zweiten Stufe mit einer Geschwindigkeit von 15 bis 40 nm/min mit einem Siliziumdioxid(SiO2)film einer Dicke von λ/4 (λ = 500 bi 5 550 nm) vakuumbedampft, wobei entsprechende Temperaturen wie in der ersten Stufe eingehalten werden und das Vakuum auf 2 χ 10~4 bis 7 χ 10~5 Torr geändert wird, oder daß man die Oberfläche des optischen Körpers in einer ersten Stufe mit einer Geschwindigkeit von 15 bis 40 nm/min mit einem Siliziumdioxid(SiO2)iilm einer Dicke von (2.1/4)λ (Wellenlänge λ = 500 bis 550 nm) vakuumbedampft, wobei sich der optische Körper in einer Vakuumkammer mit einem Vakuum von 2 χ 10 -■'· bis 7 χ 10"5 Torr befindet und auf einer Temperatur von ^O bis 12O0C gehalten wird, daß man den gebildeten .Siliziiimdioxid(SiO2)film in einer zweiten Stufe mit einer
Geschwindigkeit von 50 bis 150 nm/min mit einem Siliziumoxid(SiO)film einer Dicke von (0,27/4μ (λ = 500 bis 550 nm) vakuumbedampft, wobei entsprechende Temperaturen wie in der ersten Stufe eingehalten werden und das Vakuum auf 5χ 10-5 bis 8 χ ]0~b Torr ϊ geändert wird, und daß man den in der zweiten Stufe gebildeten Siliziumoxid(SiO)film in einer dritten Stufe mit einer Geschwindigkeit von 15 bis 40 nm/min mit einem Siliziumdioxid(SiO2)film einer Dicke von (2,1/4 )λ (λ=500 bis 550 nm) vakuumbedampft, wobei entspre- in chende Temperaturen eingehalten werden und das Vakuum auf2x 10-4bis7x 10"5 Torr geändert wird.
Es /zeigte sich nämlich, daß sich Siliziumoxid im Vakuum selbst bei niedriger Temperatur^ 00° C) auf der Oberfläche eines Substrats, insbesondere eines nicht auf hohe Temperaturen erhitzbaren Kunstharzsubstrats, abscheiden läßt und dabei einen festen und gleichmäßigen Film bildet, und daß ferner im Falle, daß die Vakuurnbedampfung unter bestimmten Bedingungen durchgeführt wird, S1O2 einen stabilen Film mit in geringem Brechungsindex und SiO einen stabilen Film mit großem Brechungsindex bildet.
Folglich erhält man ohne weiteres einen haltbaren Antireflexionsfilm durch Vakuumbedampfen einer Substratoberfläche mit SiOr und SiO-Filmen.
Die Erfindung wird im folgenden anhand der Zeichnungen näher erläutert Im einzelnen zeigt
Fig. 1 einen Querschnitt (in vergrößertem Maßstab) eines erfindungsgemäß aufgetragenen, zweischichtigen Antireflexionsfilms, «1
Fig. 2 einen Querschnitt (in vergrößertem Maßstab) eines erfindungsgemäß aufgetragenen dreischichtigen Antireflexionsfilms und
Fig.3 eine vergleichsweise graphische Darstellung der Einflüsse eines erfindungsgemäß aufgetragenen Antireflexionsfilms und eines in üblicher bekannter Weise aufgetragenen Antireflexionsfilms.
Bei der Herstellung des in Fig. 1 dargestellten, erfindungsgemäß beschichteten optischen Körpers wird ein in einer Vakuumkammer, in der ein hohes Vakuum in von 5xlO-? bis 8xlO~6 Torr herrscht, befindliches Substrat 1 bis zu einer Temperatur von 20 bis 12O0C erwärmt bzw. erhitzt und die Oberfläche des Substrats 1 mit einer Geschwindigkeit von 50 bis 150 nm/min mit Siliziumoxid (SiO) bis zu einer Dicke von (1/4) oder (1/2)λ (Wellenlänge λ = 500 bis 550 nm) vakuumbedampft, wobei ein dünner Für*; 2 mit großem Brechungsindex (W= 1,52 bis 1,80) erhalten wird.
Hierauf wird das Vakuum in der Vakuumkammer, in der das Substrat 1 bei einer Temperatur von 20 bis -,n 120° C gehalten wird, auf .bis zu 2 χ 10-4bis7x 10-5Torr gesenkt und der dünne Film 2 mit einer Geschwindigkeit von 15 bis M) nm/min bis zu einer Dicke von λ/4 (λ = 500 bis 550 nm) mit Siliziumdioxid (SiO2) vakuumbedampft, wobei ein dünner Film 3 mit einem kleinen Brechungsindex (nd= 1,46) erhalten wird. Insgesamt wird hierbei ein aus dünnen Filmen 2 und 3 auf der Oberfläche des Substrats 1 bestehender Antireflexionsfilm ausgebildet. Es sei darauf hingewiesen, daß weder der dünne Film 2 noch der dünne Film 3 alleine als Antireflexionsfilm zu μ wirken vermag, lediglich die aufeinanderliegenden dünnen Filme 2 und 3 mit verschiedenen Brechungsindizes können einen wirksamen Antireflexionsfilm bilden.
Bei der Herstellung des in Fig. 2 dargestellten, erfindungsgemäß beschichteten optischen Körpers wird ein in einer Vakuumkammer, in der ein hohes Vakuum von 2xlO-4 bis 7xlO~5 Torr herrscht, befindliches Substrat 1 bis zu einer Temperatur von 20 bis 120°C erwärmt bzw. erhitzt und bei dieser Temperatur gehalten und die Oberfläche des Substrats I mit einer Geschwindigkeit von 15 bis 40 nm/min bis zu einer Dicke vor. (2,14/4)A (A = 500 bis 550 nm) mit Siliziumdioxid (SiO2) vakuumbedampft, wobei ein dünner Film 2' mit kleinem Brechungsindex fm/= 1,46) gebildet wird. Hierauf wird das Vakuum in der Vakuumkammer, in der das Substrat 1 bei einer Temperatur von 20 bis 120°C gehalten wird, auf bis zu 5xl0"5 bis 8x10-* Torr erhöht und der dünne Film 2' mit einer Geschwindigkeit von 50 bis 150 nm/min bis zu einer Dicke von (0,27/4)λ (λ = 500 bis 550 nm) mit Siliziumoxid (SiO) vakuumbedampft, wobei ein dünner Film 3' mit großem Brechungsindex fnt/= 1,52 bis 1,80) gebildet wird. Schließlich wild unter denselben Bedampfungsbedingungen, wie sie auch bei der Ausbildung des dünnen Films 2' eingehalten wurden, im Vakuum auf dem dünnen Film 3' Siliziumdioxid (S1O2) bis zu einer Dicke von (2,1/4)λ (λ = 500 bis 550 nm) abgelagert, wobei ein dünner Fiirp 4 mit kleinem Brechungsindex f/κ/= 1,46) gebildet wird. Auf diese Weise erhält man einen wirksamen Antififlexionsfilm.
Wie bereits ausgeführt, erfolgt die Vakuumbedampfung, während das Substrat bei niedrigen Temperaturen gehalten wird. Hierbei kommt es zu keinerlei Änderung in der Lichtdurchlässigkeit, des Materials und der Form oder Gestalt des Substrats. Da darüber hinaus sowohl SiO als auch SiO2 auf der Substratoberfläche feste und haltbare dünne Filme ausbilden, läßt sich durch Wahl einer geeigneten Kombination von dünnen SiO- und SiOi-Filmen ein fester und haltbarer Antireflexionsfilm beliebiger (gewünschter) Eigenschafter, ausbilden.
Die folgenden Beispiele (und Vergleichsbeispiele) sollen die Erfindung näher veranschaulichen.
Beispiel 1
Ein Substrat aus einem handelsüblichen, wärmehärtbaren Kunstharz, z. B. Diäthylengiykolbisallylcarbonat der Formel
O
Il
CH2-CH2-O-C-O-CH2-CH=CH2
Vh2-CH2-O-C-O-CH2-CH = CH2
Il ο
wurde in einer Vakuumkammer, in der ein hohes Vakuum von 2 χ 10 -5 Torr herrschte, auf eine Temperatur von 8O0C erwärmt und bei dieser Temperatur gehalten und auf seiner Oberfläche mit einer Geschwindigkeit von 130 nm/min mit Siliziumoxid (SiO) vakuumbedampft, wobei ein Film einer Dicke von λ/4 (Wellenlänge λ = 530ηπι) gebildet wurde. Hierauf wurde in die Vakuumkammer eine geringe Menge Sauerstoff einströmen gelassen, um das Vakuum in der Kammer auf 7 χ 1 η -5 Torr zu erniedrigen. Während das Substrat bei einer Temperatur von 8O0C gehalten wurde, wurde der SiO-Filffi mit einer Geschwindigkeit von 30 nm/min mit Siliziumdioxid (SiO2) vaKiiumbedampft, wobei ein (SiO2)-Film einer Dicke von λ/4 (Wellenlänge λ = 530 nm) gebildet wurde.
Der derart aufge'ragene Antireflexionsfilm zeigt den durch die Kurve a von Fig. 3 wiedergegebenen Effekt. Kurve a zeigt, daß die Lichtdurchlässigkeit für eine
Wellenlänge von 530 nm sehr hoch, d. h. 99,5%. ist. Ferner geht aus F i g. 3 hervor, daß der durch die Kurve a dargestellte Effekt weit besser ist als der durch die Kurve c wiedergegebene Effekt, der einem Antireflexionsfilm zukommt, weicher in üblicher bekannter > Weise durch Vakuumbedampfen eines bei einer Temperatur von l50bis350°C gehaltenen Substrats mit einem dünnen MgFj-FiIm erhalten wurde.
Der in der geschilderten Weise durch Auftragen von SiO und SiOi erzeugte Antireflexionsfilm entspricht in in seiner Härte einer Bleistifthärte von 6 bis 7 H. Diese Härte ist doppelt so groß wie die Härte des Substrats. Der Antireflexionsfilm besitzt gegen Abrieb mit einem Radiergummi eine dreimal so große Härte wie das Substrat. r,
Andererseits besitzt der in üblicher bekannter Weise ausgebildete MgFi-Antireflexionsfilm eine schlechte Haftung und eine sehr niedrige Oberflächenhärte. Diese dioxid (S1O2) vakuumbedampft, wobei auf der Substratoberfläche ein Film einer Dicke von (2,1/4)λ (Wellenlänge A = 530nm) ausgebildet wurde. Hieiauf wurde das Vakuum in der Vakuumkammer auf 2xlO~5 Torr erhöht, während das Substrat bei einer Temperatur von 80° C gehalten und seine Oberfläche mit einer Geschwindigkeit von 130 nm/min mit Siliziumoxid (SiO) vakuumbedampft wurde. Hierbei wurde auf dem SiOrFiIm ein SiO-FiIm einer Dicke von (0,27/4)Λ (λ = 530 nm) ausgebildet. Schließlich wurde das Vakuum in der Vakuumkammer auf 7 χ ΙΟ-' Torr erniedrigt, während das Substrat bei einer Temperatur von 80"C gehalten und auf seiner Oberfläche mit einer Geschwindigkeit von 30 nm/min mit Siliziumdioxid (S1O2) vakuumbedampft wurde. Hierbei wurde auf dem SiO-FiIm ein SiO2-FiIm einer Dicke von (2,]/4)λ ausgebildet.
Dem auf das Substrat aufgetragenen dreischichtigen
MgF.j-Antireflexionsfilms beträgt weniger als ein _>m Zehntel der Härte des erfindungsgemäß ausgebildeten Antireflexionsfilms.
Beispiel 2
1-,
F.in entsprechendes Substrat, wie es auch bei Beispiel 1 verwendet wurde, wurde in einer Vakuumkammer, in der ein Vakuum von 7x10 s Torr herrschte, auf eine Temperatur von 80' C erhitzt und auf seiner Oberfläche mit einer Geschwindigkeit von 30 nm/min mit Silizium- (n Fig. 3 wiedergegebener Effekt zu. Aus Fig. 3 geht hervor, daß der durch die Kurve b dargestellte Effekt weit besser ist als der durch die Kurve c wiedergegebene Effekt. Die Kurve c wurde mit einem Antireflexionsfilm erhalten, der in üblicher bekannter Weise durch Aufdampfen eines dünnen MgF2-Films im Vakuum auf die Oberfläche eines auf einer Temperatur von 150 bis 350 C gehaltenen Substrats gebildet wurde. Die Härte des .-.rhaltenen dreischichtigen Antireflexionsfilms ist gut und entspricht der Härte des gemäß Beispiel 1 hergestellten Antireflexionsfilms.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (2)

Patentansprüche:
1. Verfahren zum Auftragen eines Antireflexionsfilms aus mehreren Schichten mit abwechselnd niedrigen und hohen Brechungsindizes auf die Oberfläche eines optischen Körpers oder Substrats, dadurch gekennzeichnet, daß man die Oberfläche des optischen Körpers in einer ersten Stufe mit einer Geschwindigkeit von 50 bis ι ο 150 nm/min mit einem Siliziumoxid(SiO)film einer Dicke von λ/2 (Wellenlänge λ=500 bis 550 nm) vakuumbedampft, wobei sich der optische Körper in einer Vakuumkammer mit einem Vakuum von 5 χ ΙΟ-5 bis 8xlO~6 Torr befindet und auf einer Temperatur von 20 bis 1200C gehalten wird, und daß man den gebildeten SiO-FiIm in einer zweiten Stufe mit einer Geschwindigkeit von 15 bis 40 nm/min mit einem Siliziumdioxid(SiO2)film einer Dicke von λ/4 (λ = 500 bis 550 nm) vakuumbedampft, wobei entsprechende Temperaturen wie in der ersten Stufe eingehalten werden und das Vakuum auf 2 χ 10—* bis 7 χ ΙΟ-5Torr geändert wird.
2. Verfahren zum Auftragen eines Antireflexionsfilms aus mehreren Schichten mit abwechselnd niedrigen und hohen Brechungsindizes auf die Oberfläche eines optischen Körpers oder Substrats, dadurch gekennzeichnet, daß man die Oberfläche des optischen Körpers in einer ersten Stufe mit einer Geschwindigkeit von 15 bis 40 nm/min mit einem Siliziumdioxid(Si02)film einer Dicke von (2,1/4)λ (Wellenlänge ' -500 bis 550 nm) vakuumbedampft, wobei sich der optische ΚοηνΓ in einer Vakuumkammer mit einem Vakuum von 2 χ 10-4bis7x ΙΟ-5 Torr befindet und auf einer Temperatur von 20 bis j5 120° C gehalten wird, daß man den gebildeten Siliziumdioxid(SiO2)film in einer zweiten Stufe mit einer Geschwindigkeit von 50 bis 150 nm/min mit einem Siliziumoxid(SiO)film einer Dicke von (0,27/4)λ (λ=500 bis 550 nm) vakuumbedampft, wobei entsprechende Temperaturen wie in der ersten Stufe eingehalten werden und das Vakuum auf 5 χ 10~5bis8x 10-6 Torr geändert wird, und daß man den in der zweiten Stufe gebildeten Siliziumoxid(SiO)film in einer dritten Stufe mit einer 4"> Geschwindigkeit von 15 bis 40 nm/min mit einem Siiiziumdioxid(SiO2)film einer Dicke von (2,1 /4)λ (λ = 500 bis 550 nm) vakuumbedampft, wobei entsprechende Temperaturen eingehalten werden und das Vakuum auf 2 χ ΙΟ-4 bis 7 χ Ι0~5 Torr geändert -,n wird.
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NL (1) NL173680C (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19925049A1 (de) * 1999-06-01 2000-12-07 Hella Kg Hueck & Co Kunststoffscheibe von Kraftfahrzeugscheinwerfern oder Kraftfahrzeugleuchten

Families Citing this family (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5267647A (en) * 1975-12-03 1977-06-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd Optical film
US4196246A (en) * 1976-06-23 1980-04-01 Nippon Kogaku K.K. Anti-reflection film for synthetic resin base
JPS6051081B2 (ja) * 1978-01-20 1985-11-12 キヤノン株式会社 非球面反射防止膜
US4340276A (en) * 1978-11-01 1982-07-20 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method of producing a microstructured surface and the article produced thereby
DE2944325C2 (de) * 1979-11-02 1984-03-22 Vdo Adolf Schindling Ag, 6000 Frankfurt Passives elektrooptisches Anzeigeelement
DE3045025A1 (de) * 1980-04-12 1981-10-22 Egyesült Izzólámpa és Villamossági Részvénytársaság, 1340 Budapest Verfahren zur herstellung von die infrarotstrahlung vermindernden schichten auf elektrischen lichtquellen
US4545646A (en) * 1983-09-02 1985-10-08 Hughes Aircraft Company Process for forming a graded index optical material and structures formed thereby
US4931315A (en) * 1986-12-17 1990-06-05 Gte Products Corporation Wide angle optical filters
US4907846A (en) * 1987-11-20 1990-03-13 Raytheon Company Thick, impact resistant antireflection coatings for IR transparent optical elements
US4815962A (en) * 1987-12-11 1989-03-28 Polaroid Corporation Process for coating synthetic optical substrates
US4966437A (en) * 1988-04-19 1990-10-30 Litton Systems, Inc. Fault-tolerant anti-reflective coatings
JPH01273001A (ja) * 1988-04-25 1989-10-31 Olympus Optical Co Ltd 合成樹脂製光学部品の反射防止膜
CA2040638A1 (en) * 1990-04-20 1991-10-21 Gedeon I. Deak Barrier materials useful for packaging
US5171414A (en) * 1990-12-10 1992-12-15 Ford Motor Company Method of making transparent anti-reflective coating
DE4128547A1 (de) * 1991-08-28 1993-03-04 Leybold Ag Verfahren und vorrichtung fuer die herstellung einer entspiegelungsschicht auf linsen
EP0627495B1 (de) * 1993-05-10 1998-08-12 Optical Coating Laboratory, Inc. Selbstheilende UV-undurchlässige Beschichtung mit flexiblem Polymersubstrat
US5662395A (en) * 1995-06-07 1997-09-02 Nova Solutions, Inc. Underdesk computer desk structure with antireflecting viewing window
JP3351666B2 (ja) * 1995-10-20 2002-12-03 株式会社中戸研究所 防曇性反射防止膜、光学部品、及び防曇性反射防止膜の製造方法
EP1012635B1 (de) * 1997-01-27 2006-04-19 Peter D. Haaland Verfahren zur verminderung der reflexion von optischen substraten
US6172812B1 (en) 1997-01-27 2001-01-09 Peter D. Haaland Anti-reflection coatings and coated articles
US6964731B1 (en) 1998-12-21 2005-11-15 Cardinal Cg Company Soil-resistant coating for glass surfaces
US6660365B1 (en) 1998-12-21 2003-12-09 Cardinal Cg Company Soil-resistant coating for glass surfaces
US6974629B1 (en) 1999-08-06 2005-12-13 Cardinal Cg Company Low-emissivity, soil-resistant coating for glass surfaces
US6929822B2 (en) * 2001-04-27 2005-08-16 Hoya Corporation Method for manufacturing optical member having water-repellent thin film
US6942924B2 (en) 2001-10-31 2005-09-13 Chemat Technology, Inc. Radiation-curable anti-reflective coating system
US20040145701A1 (en) * 2003-01-29 2004-07-29 Robert Miniutti Solid color eyewear lenses
US20040145802A1 (en) * 2003-01-29 2004-07-29 Robert Miniutti Infrared filtering optical lenses and methods of manufacturing
US7004583B2 (en) * 2003-01-29 2006-02-28 East Bay Technologies Eyewear lenses and methods of manufacturing
EP1713736B1 (de) 2003-12-22 2016-04-27 Cardinal CG Company Gradierte photokatalytische beschichtungen und verfahren zur herstellung
DE602005003228T2 (de) 2004-07-12 2008-08-28 Cardinal Cg Co., Eden Prairie Wartungsarme beschichtungen
US8092660B2 (en) 2004-12-03 2012-01-10 Cardinal Cg Company Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films
US7923114B2 (en) 2004-12-03 2011-04-12 Cardinal Cg Company Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films
EP1674898B1 (de) 2004-12-21 2009-10-21 Corning Incorporated Lichtpolarisierende Produkte und Verfahren zur deren Herstellung
WO2006081006A2 (en) * 2004-12-21 2006-08-03 Corning Incorporated Light polarizing products and method of making same
US7989094B2 (en) * 2006-04-19 2011-08-02 Cardinal Cg Company Opposed functional coatings having comparable single surface reflectances
JP2007293979A (ja) * 2006-04-24 2007-11-08 Sony Corp ソリッドイマージョンレンズとこれを用いた集光レンズ、光学ピックアップ装置及び光記録再生装置
US20080011599A1 (en) 2006-07-12 2008-01-17 Brabender Dennis M Sputtering apparatus including novel target mounting and/or control
EP1965234B1 (de) 2007-02-28 2019-03-20 Corning Incorporated Lichtpolarisierende Gegenstände und Herstellungsverfahren dafür
US7820309B2 (en) 2007-09-14 2010-10-26 Cardinal Cg Company Low-maintenance coatings, and methods for producing low-maintenance coatings
GB2462604B (en) * 2008-08-11 2011-08-10 Toshiba Res Europ Ltd Thin film structure and method for fabricating a thin film structure
JP2015001672A (ja) * 2013-06-17 2015-01-05 株式会社オプトラン 反射防止膜およびその製造方法
EP3541762B1 (de) 2016-11-17 2022-03-02 Cardinal CG Company Statisch-dissipative beschichtungstechnologie

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE908262C (de) * 1942-04-24 1954-04-05 Siemens Ag Verfahren zur Herstellung einer temperaturbestaendigen und chemisch bestaendigen, feuchtigkeitsdichten, elektrisch nicht beanspruchten Schutzschicht aus Siliziumdioxyd
US2552185A (en) * 1950-06-02 1951-05-08 Eastman Kodak Co Illuminator for optical projectors
US2745767A (en) * 1951-07-23 1956-05-15 Alois Vogt Dr Process and apparatus for treating by vapour deposition a plurality of articles introduced at several levels, while maintaining the same vacuum
US3271179A (en) * 1962-09-24 1966-09-06 Temescal Metallurgical Corp Method for the manufacture of an optical filter
US3306768A (en) * 1964-01-08 1967-02-28 Motorola Inc Method of forming thin oxide films
US3356522A (en) * 1964-02-10 1967-12-05 Mc Donnell Douglas Corp Polycarbonate film containing an antireflection coating
US3432225A (en) * 1964-05-04 1969-03-11 Optical Coating Laboratory Inc Antireflection coating and assembly having synthesized layer of index of refraction
US3505092A (en) * 1968-06-14 1970-04-07 Libbey Owens Ford Co Method for producing filmed articles
JPS4919814B1 (de) * 1969-10-09 1974-05-20
GB1369602A (en) * 1970-12-08 1974-10-09 Brentford Electric Ltd Electrical circuits that include ripple filters
US3984581A (en) * 1973-02-28 1976-10-05 Carl Zeiss-Stiftung Method for the production of anti-reflection coatings on optical elements made of transparent organic polymers

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19925049A1 (de) * 1999-06-01 2000-12-07 Hella Kg Hueck & Co Kunststoffscheibe von Kraftfahrzeugscheinwerfern oder Kraftfahrzeugleuchten
DE19925049C2 (de) * 1999-06-01 2003-05-22 Hella Kg Hueck & Co Kunststoffscheibe von Kraftfahrzeugscheinwerfern oder Kraftfahrzeugleuchten und Verfahren zu deren Herstellung
DE19925049C5 (de) * 1999-06-01 2005-12-22 Hella Kgaa Hueck & Co. Kunststoffscheibe von Kraftfahrzeugscheinwerfern oder Kraftfahrzeugleuchten und Verfahren zu deren Herstellung

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5067147A (de) 1975-06-05
FR2247737B1 (de) 1976-10-22
CA1045474A (en) 1979-01-02
GB1488813A (en) 1977-10-12
FR2247737A1 (de) 1975-05-09
AU7375974A (en) 1976-04-01
US4130672A (en) 1978-12-19
JPS53306B2 (de) 1978-01-07
IT1020892B (it) 1977-12-30
NL7412737A (nl) 1975-04-18
NL173680B (nl) 1983-09-16
DE2443718A1 (de) 1975-04-17
NL173680C (nl) 1984-02-16
DE2443718B2 (de) 1978-02-09

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