DE2435389A1 - Lichtempfindliche beschichtungsmasse - Google Patents

Lichtempfindliche beschichtungsmasse

Info

Publication number
DE2435389A1
DE2435389A1 DE2435389A DE2435389A DE2435389A1 DE 2435389 A1 DE2435389 A1 DE 2435389A1 DE 2435389 A DE2435389 A DE 2435389A DE 2435389 A DE2435389 A DE 2435389A DE 2435389 A1 DE2435389 A1 DE 2435389A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
polymer
cis
methacrylate
cyclohexene
aromatic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE2435389A
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Nobuyuki Kita
Yasuhisa Naritomi
Teruhiko Yonezawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Publication of DE2435389A1 publication Critical patent/DE2435389A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/008Azides
    • G03F7/012Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0125Macromolecular azides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the macromolecular azides

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
DE2435389A 1973-07-23 1974-07-23 Lichtempfindliche beschichtungsmasse Pending DE2435389A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8284873A JPS5032923A (enrdf_load_stackoverflow) 1973-07-23 1973-07-23

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2435389A1 true DE2435389A1 (de) 1975-02-13

Family

ID=13785790

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2435389A Pending DE2435389A1 (de) 1973-07-23 1974-07-23 Lichtempfindliche beschichtungsmasse

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPS5032923A (enrdf_load_stackoverflow)
DE (1) DE2435389A1 (enrdf_load_stackoverflow)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2948324A1 (de) * 1978-12-01 1980-06-04 Hitachi Ltd Lichtempfindliche masse und ihre verwendung
EP0028486A1 (en) * 1979-10-24 1981-05-13 Hitachi, Ltd. Photosensitive composition and pattern-forming method
DE3112196A1 (de) * 1980-03-29 1982-03-11 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., Kawasaki, Kanagawa "photosensitive zusammensetzung zur trockenentwicklung"
EP0226009A3 (en) * 1985-12-17 1988-01-07 International Business Machines Corporation Photoresist compositions of controlled dissolution rate in alkaline developers
EP0686877A4 (en) * 1993-12-27 1996-06-05 Hoechst Japan COLORED LIGHT SENSITIVE RESIN COMPOSITION

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03271744A (ja) * 1990-03-22 1991-12-03 Chisso Corp 光硬化性樹脂組成物

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2948324A1 (de) * 1978-12-01 1980-06-04 Hitachi Ltd Lichtempfindliche masse und ihre verwendung
EP0028486A1 (en) * 1979-10-24 1981-05-13 Hitachi, Ltd. Photosensitive composition and pattern-forming method
DE3112196A1 (de) * 1980-03-29 1982-03-11 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., Kawasaki, Kanagawa "photosensitive zusammensetzung zur trockenentwicklung"
EP0226009A3 (en) * 1985-12-17 1988-01-07 International Business Machines Corporation Photoresist compositions of controlled dissolution rate in alkaline developers
EP0686877A4 (en) * 1993-12-27 1996-06-05 Hoechst Japan COLORED LIGHT SENSITIVE RESIN COMPOSITION

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5032923A (enrdf_load_stackoverflow) 1975-03-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0359060B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch, daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von Kopien
EP0230941B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial
DE2934758C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch und Druckplatte mit dem lichtempfindlichen Gemisch
DE2851472C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch
DE2442558A1 (de) Photographisches, negativ arbeitendes aufzeichnungsmaterial
EP0321828B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
EP0031592A1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares Kopiermaterial
EP0352630B1 (de) Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial
DE3851921T2 (de) Photopolymerisierbare Zusammensetzung.
EP0415302A2 (de) Pfropfpolymerisat mit ungesättigten Seitenketten, dieses enthaltendes lichtempfindliches Gemisch sowie daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
DE3040789C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch
DE3735088A1 (de) Photopolymerisierbares gemisch
EP0243784B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial
EP0496203B1 (de) Lagerstabile Lösung eines carboxylgruppenhaltigen Copolymerisats sowie Verfahren zur Herstellung von photoempfindlichen Lacken und Offsetdruckplatten
DE2747231B2 (de) Vorbeschichtete Druckplatte für den Trockenflachdruck
EP0244748B1 (de) Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
EP0003804A1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch, das einen Monoazofarbstoff enthält
DE1067219B (de) Verfahren zur Herstellung von durch Lichteinwirkung vernetzenden hochpolymeren Verbindungen
DE2435389A1 (de) Lichtempfindliche beschichtungsmasse
DE69609136T2 (de) Schwer-flüchtige substituierte 2-phenyl-4,6-bis(halomethyl)-1,3,5-triazine für lithographische druckplatten
DE2058345A1 (de) Lichtempfindliches polymeres azidgruppenhaltiges Material
EP0410276B1 (de) Pfropfpolymerisat mit ungesättigten Seitenketten, dieses enthaltendes lichtempfindliches Gemisch sowie daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
EP0143380B1 (de) Fotoresist-Zusammensetzungen
EP0140353B1 (de) Photopolymerisierbare Aufzeichnungsmaterialien zur Herstellung von Druckformen sowie Verfahren zur Herstellung von Druckformen mittels dieser Aufzeichnungsmaterialien
EP0244749B1 (de) Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial

Legal Events

Date Code Title Description
OHJ Non-payment of the annual fee