DE2422884C2

DE2422884C2 - Halterung für die Elektroden eines Elektronenstrahl-Erzeugungssystems innerhalb der Vakuumhülle einer Mikrowellenröhre

Info

Publication number: DE2422884C2
Application number: DE2422884A
Authority: DE
Inventors: Erwin 7901 Einsingen Goll
Original assignee: Licentia Patent Verwaltungs GmbH
Current assignee: Licentia Patent Verwaltungs GmbH
Priority date: 1974-05-11
Filing date: 1974-05-11
Publication date: 1983-06-16
Also published as: DE2422884A1; US3986066A

Description

2. Elektronenstrahl-Erzeugungssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die rohrförmigen Isolierteile (2) aus keramischem Material bestehen und die Befestigungen an der Metallscheibe (I) und^T.1 metallischen Streben (9) durch Löten vorgenommen sind.

3. Eleklronenstrahi-Erzengungssystem nach Anspruch 1 oder Ansprucn Z, dadurch gekennzeichnet, daß die Befestigung der metai.ischen Streben (9) an den rohrförmigen Isolierteilen (2) mittels ringförmiger Metallkappen (10) vorgenommen ist

4. Elektronenstrahl-Erzeugungssystem nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet «0 daß zur Halterung jeweils einer Elektrode (3, 4, 5) drei metallische Streben (9) und drei rohrförmige Isolierteile (2) vorgesehen sind und daß die öffnungen zur Aufnahme der rohrförmigen Isolierteile (2) in der Metallscheibe (1) symmetrisch zur Elektronenstrahlachse angeordnet sind.

5. Elektronenstrahl-Erzeugungssystem nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet daß die Befestigung der metallischen Streben (9) an den rohrförmigen Isolierteilen (2) jeweils nur an so einem Ende der rohrförmigen Isolierteile (2) vorgenommen ist.

6. Elektronenstrahl-Erzeugungssystem nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Metallscheibe (1) mit zusätzlichen, die Evakuierung erleichternden öffnungen (19) versehen ist

60

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Halterung für die Elektroden eines Elektronenstrahl-Erzeugungssystems innerhalb der Vakuumhülle einer Mikrowellenröhre, insbesondere Wanderfeldröhre dessen Kathode, Wehneltelektrode und Anode unter Verwendung von wenigstens zwei Isolierteilen und mit den Elektroden verbundenen metallischen Streben an einer kreisringförmigen, an der metallischen Vakuumhülle der Röhre befestigten Metallscheibe in der Weise isoliert befestigt sind, daß die Metallscheibe um eine zentrale öffnung herum angeordnete öffnungen aufweist in welchen die Isolierteile hineinragend befestigt sind.

Ein Elektronenstrahl-Erzeugungssystem der vorstehend genannten Art ist aus der US-PS 29 58 800 bekannt Die Befestigung der Elektroden ist mittels schellensrtiger Streben an drei dielektrischen Streben vorgenommen, deren Enden in öffnungen einer ringförmigen Metallscheibe befestigt sind. Durch diesen Aufbau soll besonders die Massenfertigung erleichtert werden.

Eine andere bekannte Aufbauart für Elektronenstrahl-Erzeugungssysteme von Wanderfeldröhren besteht darin, die einzelnen Elektroden mit ringflanschförmigen Teilen zu versehen, die durch Isolierringe in ihren Abständen gehalten werden. Solche Systeme schaffen die Möglichkeit daß die Isolierringe zusammen mit den ringförmigen Flanschteilen gleichzeitig die Vakuumhülle bilden. Bei einem solchen Elektronenstrahlsystem wird es jedoch als nachteilig empfunden, daß der Aufbau verhältnismäßig kompliziert ist weil sich das Elektronenstrahlsystem selbst nur schwer als bereits vorfabriziertes Bauteil ausbilden läßt und daß durch die vielen sich ergebenden ringförmigen Hohlräume die Evakuierung der fertigen Röhre zeitraubend ist.

Es sind ferner Efoktrodensysteme für Elektronenröhren mit sich koaxial umgebenden Elektroden bekannt bei welchen die Elektroden unter Verwendung von stab- oder rohrförmigen Trägern auf einer Ringscheibe isoliert befestigt sind (DE-OS 1614 039, US-PS 32 14 625). Die jeweils unterhalb des Elektrodenaufbaus befindlichen Ringscheiben und die Träger bestehen entweder aus Isoliermaterial oder aus Metall. Die bei dem System nach der US-PS 32 14 625 erreichte Erhöhung der Schockfestigkeit und der mechanischen Stabilität reicht nicht in allen Fällen aus, insbesondere nicht wenn es sich um Mikrowellenröhren handelt die in Flugkörpern, wie z. B. Satelliter·, eingesetzt werden sollen.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, bei einer Halterung für die Elektroden eines Elektronenstrahl-Erzeugungssystems der eingangs genannten Art die mechanische Stabilität und die Schockfestigkeit weiter zu erhöhen und eine hohe Isolationsfestigkeit über eine lange Betriebszeit zu erzielen.

Zur Lösung dieser Aufgabe wird gemäß der Erfindung vorgeschlagen, daß zur Befestigung jeder Elektrode die metallischen Streben in öffnungen der rohrförmig ausgebildeten Isolierteile hinein- oder durch diese hindurchragen und an diesen befestigt sind, daß die rohrförmigen Isolierteile beidseitig die Metallscheibe überragend in den öffnungen der Metallscheibe befestigt sind, daß die Halterung derart aufgebaut ist, daß ihr Schwerpunkt ohne die Metallscheibe mit dem Schwerpunkt der Metallscheibe in etwa zusammenfällt und daß die Metallscheibe an ihrem Umfang direkt an der metallischen Vakuumhülle befestigt ist

Eine bevorzugte Anwendung der beschriebenen Halterung wird in Elektronenstrahl-Erzeugungssystemen von Satelliten-Wanderfeldröhren gesehen. Die Vorteilhaftigkeit der beschriebenen Halterung besteht in seiner hohen mechanischen Schockfestigkeit in seiner hohen elektrischen Isolationsfestigkeit und in der Möglichkeit, die Halterung in einfacher Weise vorzufabrizieren und dann als fertiges Aufbauteil in die Röhre einzubringen.

Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet.

Anhand des in den Fig,I, 2 und 3 dargestellten bevorzugten Ausführungsbeispiels wird der Anmeldungsgegenstand im folgenden näher erklärt

Die F i g. 1 und 2 zeigen eine Metallscheibe t, die zur Aufnahme von je drei Isolierrohren 2 für Kathode 3, Wehneltelektrode 4 und Anode 5 durchbohrt ist. In diese neun Bohrungen 6, jeweils um 40° auf der Kreisteilung versetzt, sind die Isolierrohre 2 die Metallscheibe l beidseitig überragend so eingelötet, daß durch deren Länge eine, entsprechend den elektrischen Spannungen, die zum Betrieb des Systems später angelegt werden, genügend große Isolierstrecke 7 entsteht. Durch die Innenbohrung 8 der Isolierrohre 2 sind zur Halterung der Wehneltelektrode 4 mit ihren angestanzten Lappen 14 und der Anode 5 bzw. Anodenträger 11 je drei Rundstreben 9, jeweils um 120" auf der Kreisteilung versetzt, durchgesteckt und mit der metallischen Kappe 10 und dem Isolierrohr 2 verlötet. Am anderen Ende sind die Rundstreben 9 mit der Wehneltelektrode 4 und der Anodenaufnahme 11, die zum Einsetzen, der Anode 5 gestaltet ist, ebenfalls verlötet. Die Kathodenaufnahme 12 mit den angestanzten Lappen 15 und dem im Zentrum derselben angeordneten Hals 16, der zum Einschweißen des Kathodenträgers 13 dient, ist wiederum mit einer Kappe an jeweils auf der Kreisteilung um 120° versetzten drei Isolierrohren 2 verlötet Der Aufbau der Halterung ist derart vorgenommen, daß sein Schwerpunkt Sohne die Metallscheibe sich in etwa dort befindet wo sich der Schwerpunkt der Metallscheibe 1 befindet.

Bei dieser Anordnung, bei der sich je drei um 120° auf

der Kreisteilung versetzte fixe Lötstellen 17 bzw. 17' und 18 bzv/. 18' an jeweils gegenüberliegenden Enden befinden, entsteht somit ein statisch bestimmtes Gebilde für die Halterung der einzelnen Elektroden des Systems, das bezüglich Schütte!- und Schwingungsfestigkeit bei geringstem Eigengewicht höchsten Anforderungen gerecht wird.

In der Metallscheibe 1 befinden sich zweckmäßig

ίο noch Bohrungen 19, die die Gasdurchlässigkeit beim Evakuieren der Röhre erhöhen, wenn die Halterung für die Elektroden des Elektronenstrahl-Erzeugungssystems in die Vakuumhülle eingebaut ist (Fig.3). Die Spannungszuführungen für den Betrieb des Systems

is werden an die verlängerten Enden 20 bzw. 20' der Rundstreben 9 angeschweißt wie es aus Fig.3 ersichtlich ist Die Fig.3 zeigt in verkleinertem Maßstab eine gemäß den Fig. 1 und 2 aufgebaute Halterung, die innerhalb eines Teils der Vakuumhülle 31 in der Weise befestigt ist daß die MetaJlseheibe 1 an ihrem äußeren Umfang direkt an der metallischen Vakuumwandung befestigt ist Mi: 30 ist der zur Evakuierung benutzte Pumpstutzen bezeichnet Der von dem Elektronenstrahl-Erzeugungssystem erzeugte Elektronenstrahl tritt dann in den Verzögerungsleitungsabschnitt 32 der Wanderfeldröhre ein. Mit 33 ist die Hocforequenz-Ankopplung an die Verzögerungsleitung dargestellt An den Streben 9 sind jeweils elektrische Zuführungen 34 angeschweißt die mittels

J« üblicher vakuumdichter Durchführungen 35 durch die Vakuumwandung hindurchgeführt sind und außerhalb der Röhre in Form von Kontakten 36 ausgebildet sind.

Hierzu 2 Blatt Zeichnungen

Claims

Patentansprüche:

1. Halterung fpr die Elektroden eines EIektronenstraW-Erzeugungssystems innerhalb der Vakuumhülle einer MikroweUenröhre, insbesondere Wan- derfeldröhre, dessen Kathode, Wehneltelektrode und Anode unter Verwendung von wenigstens zwei Isolierteilen und mit den Elektroden verbundenen metallischen Streben an einer kreisringförmigen, an der metallischen Vakuumhülle befestigten Metallscheibe in der Weise isoliert befestigt sind, daß die Metallscheibe um eine zentrale öffnung herum angeordnete öffnungen aufweist, in welchen die Isolierteile hineinragend befestigt sind, dadurch gekennzeichnet, daß zur Befestigung jeder is Elektrode (3, 4, 5) die metallischen Streben (9) in öffnungen (8) der rohrförmig ausgebildeten Isolierteile (2) hinein- oder durch diese hindurchragen und an diesen befestigt sind, daß die rohrförmigen Isolierteile (2) beidseitig die Metallscheibe (1) überragen« in den Öffnungen (6) der Metallscheibe befestigt sind, daß die Halterung derart aufgebaut ist, daß ihr Schwerpunkt ohne die Metallscheibe (1) mit dem Schwerpunkt (S) der Metallscheibe (1) in etwa zusammenfällt, und daß die Metallscheibe an ihrem Umfang direkt an der Vakuumhülle befestigt ist.