DE2413447A1 - Verfahren zur herstellung von supraleitern mit beta-wolframstruktur - Google Patents
Verfahren zur herstellung von supraleitern mit beta-wolframstrukturInfo
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Description
Patentanwalts
Dr. Ing. H. Msoend
Dipl. Ing.H. Hauck- Γ.φΙ. Pbvs. W. Schmitz _ q lk\?1 \£'fa
Dipl. Ing.H. Hauck- Γ.φΙ. Pbvs. W. Schmitz _ q lk\?1 \£'fa
Dipl. Ing. E. GrMifs - Γ·: '-! "9- W. Wehnert * υι lv
8Mündun2frA^^3e25 Anwaltsakte i-3O3O
Reactor Centrum Nederland (Stichting), im Haag, Niederlande.
"Verfahren zur Herstellung von Supraleitern mit A-WoIframs truktür"
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellen eines Supraleiters, der aus verschiedenen Materialien besteht.
Aus der D.A.S. 1 234 939 ist bekannt, einen Supraleiter dadurch herzustellen, dass Vanadigpulver und V-Ga^-Pulver
gemäss der Reaktion: 13V + V0Ga- >5V^Ga gemischt wird.
Ein Nachteil der Herstellung eines Supraleiters nach diesem Verfahren besteht darin, dass das Endprodukt porös wird.
Ausserdem eignet sich dieses Verfahren nicht zur Herstellung drahtförmiger Supraleiter.
Nach der Erfindung lassen sich diese Nachteile dadurch beheben, dass in einem Stück Material eines Elementes oder
einer Legierung eines Elementes der Gruppe V-B mindestens ein Element der Gruppe III, III-A, IV, IV-A oder eine
Verbindung des Elementes der Gruppe V-B mit mindestens einem Element der anderen Gruppen oder ein Gemisch einer
solchen Verbindung mit einem Element der Gruppen III, III-A, IV, IV-A des Periodischen Systems angebracht, das Ganze
gewünschtenfalls auf einen kleineren Durchmesser verformt und darauf durch eine Wärmebehandlung eine supraleitende Schicht
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dieser Elemente gebildet wird, wobei die zweitgenannte Verbindung einen solchen Mangel an dem Element der Gruppe
V-B aufweist, dass zur Bildung der supraleitenden Schicht Material aus dem zuerst genannten Stück Material benutzt
wird.
Es ist möglich, dem eingeführten Material einen Beschleuniger zuzusetzen. Das eingeführte Material kann kompakt,
pulverartig oder auch ein Gemisch aus Pulvern oder einem Pulver mit kompaktem Material sein. Das Verfahren nach der
Erfindung ist besonders vorteilhaft, wenn das erste Stück Material Vanadig und das eingeführte Material V3Ga5 ist.
Bei der Bildung des V2Ga^ werden die pro V^Ga5-Molekül
erforderlichen 13 Vanadig-Atome von dem Stück Vanadig geliefert, so dass sich eine ununterbrochene V^Ga-Schicht
bildet. Die Dicke dieser Schicht kann etwa 10 u betragen. Die Wärmebehandlung erfolgt bei etwa 6000C während 150
Stunden.
Andere Beispiele sind die Bildung von Nb3Al, V0Si, Nb0Sn,
Nb0 .,,-(Aln T1Gen -,-,)· Zur Bildung von Nb0Al wird z.B.
J,/b Q,/ό 01Z / ό
ein Stück kompaktes Aluminium in einem Nb-Mantel untergebracht.
Bei der Bildung von V0Si kann pulveriges Si in einem Vanadig-Mantel untergebracht werden, während auch pulveriges
Si mit pulverigem VSi3 einzuführen ist.
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Bei der Bildung von Nfcu C_(A1-. .,.,Gen o_)kann in einem
JfOl U|/J UfZ/
Nb-Zylinder z.B. Aluminium und Germanium, beide als Pulver,
oder Aluminium in kompakter Form und Germanium als Pulver untergebracht werden.
Es ist jedoch auch möglich NbAl3~Pulver mit NbGe~-Pulver
oder NbAl-j-Pulver und Germanium-Pulver oder kompaktes
Aluminium mit NbGe2~Pulver einzuführen.
409843/G727
Claims (9)
1. Verfahren zum Herstellen eines Supraleiters,
der aus verschiedenen Materialien besteht, dadurch gekennzeichnet, dass in einem Stück Material eines
Elementes oder einer Legierung eines Elementes der Gruppe V-B mindestens ein Element der Gruppe III, III-A,
IV, IV-A oder eine Verbindung des Elementes der Gruppe V-B mit mindestens einem Element der anderen Gruppen oder
ein Gemisch einer solchen Verbindung mit einem Element der Gruppen III, III-A, IV, IV-A des Periodischen Systems
untergebracht, das Ganze gewünschtenfalls auf einen
kleineren Durchmesser verformt und darauf durch eine Wärmebehandlung eine supraleitende Schicht dieser Elemente
gebildet wird, wobei die zweitgenannte Verbindung einen solchen Mangel an dem Element der Gruppe V-B aufweist,
dass zur Bildung der supraleitenden Schicht Material aus dem zuerst genannten Stück Material benutzt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass dem eingeführten Material ein Beschleuniger zugesetzt
wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das eingeführte Material pulverartig ist.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das eingeführte Material eine kompakte Form aufweist.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass von dem Material mindestens eines der Elemente oder eine
der Verbindungen pulverartig ist und mindestens eines der Elemente kompakt ausgebildet ist.
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6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
dass das erste Stück Material Vanadig und das eingeführte Material V3Ga5 ist. .
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Dicke der supraleitenden Schicht etwa 10 ^u beträgt.
8. Verfahren zur Herstellung eines ein- oder mehrdrähtigen
Supraleiters, dadurch gekennzeichnet, dass in einem normal leitenden Stück Metall ein oder mehr Löcher
vorgesehen werden, in denen durch ein Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche Material der Gruppe V-B mit
einer Füllung eines Materials der Gruppen III, III-A, IV,
IV-A untergebracht werden.
9. Supraleiter, der durch das Verfahren nach Anspruch 8 hergestellt ist.
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5 —
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