DE2353992A1 - Verfahren zur entwicklung belichteter lichtempfindlicher schichten und entwickler zur durchfuehrung dieses verfahrens - Google Patents

Description

Dr.Häns-HdMdiWiilmth _D - «* wiesbaöen 24. ökt.

Dr. Dieter Weber vmi&m

Pftys. Klaus Seififert **vtt$W*

PATENTANWÄLTE ''- ' - ■

Pbckit 72-002

1353992

Poiychrotnä eorpöration t ont the Hudson ^ HeW York 10 702,

Vsrfähxori izur Entwicklung belichteter lichtempf ihdliöher Schichten Und wickler zur Durchführung dieies Verfahrens

Prioritäten; Serial No, 302 303 072 und 303 071 Vom 2iNöVesibet 1972

irt USA

Die Erfindung betrifft ein Entwicklersystern für lichtäanpfindliehe Schichten oder Oberzüge auf Substraten, speziell biazo-sensibilisierter lichtempfindlicher ÜberisÜge auf Substraten^ wie Üthögraphiseher Druckplatten, ürid speziell Entwickier für da* Eiitwikkeln einer belichteten lithographischen Plätte, um di· Nichtbildbereiche zu entfernen und die Platte für die Preise zu bekommen.

Po(fidi«k: Frinkhitt/Mtln i76J-«Ä Btnk. Dnsdntr Bähfc AG. Wlesbiden. Konto-Nr. Ϊ74807

LithographieGhes Drucken macht sich die Unmisefibärkeit zwischen oleophilan Druckfarben uiid einer wäßrigen Benetzuhgsfltiesigkeit auf einer im wesentlichen ebeften DSruekplättenoberf lache zunutze. Eine oleophile Bildfläche, die einem zu drückenden Bild entspricht, wird auf einer Platte gebildet, und der Rest der Plattenoberflache, die Nichtbildflache 1st von hydrophilem Charakter oder bekömmt hydrophilen Charakter. Die Bildfläche nimmt fettartige Druckfarbe an und überträgt die Druckfarbe während des Drückens. Die Nichtbildfläche wird mit Wasser oder einer wäßrigen Benetzungsflüssigkeit feucht gehalten und weist die Druckfarbe derart ab, daß auf dieser Fläche kein Drucken erfolgt. Um eine solch« Druckplatte zu bekommen, wird eine ebene Basisfläch· mit einer sehr dünnen Schicht eines lichtempfindlichen Materials überzögen und durch einen transparenten Film mit opaken Bereichin belichtet. Ein Negätivtransparent des zu reproduzierenden erwünschten Bildes wird verwendet, um eine sogenannte negativ wirkend· Platte zu belichten,und ein Positivtransparent wird verwendet, um eine sogenannte positiv wirkende Platte zu belichten. Licht geht durch die klaren Bereiche des Negätivtransparente» hindurch, die dem Bild entsprechen und verursacht eine Reaktion in dem lichtempfindlichen überzug auf der darunterliegenden Platte, und diese Reaktion "härtet" den Überzug in dem Bildbereich. Durch die opaken Bereiche des Transparentes geht jedoch kein Licht hindurch, so daß der lichtempfindliche überzug auf der darunterliegenden Platte solche Bereiche unverändert läßt. Sodann wird die Plätte entwickelt, indem der überzug von der Platte in den belichteten Bereichen entfernt wird, die hy-

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drophil sind oder anschließend hydrophil gemacht werden. Die positiv wirkende Platte unterscheidet sich von der negativ wirkenden 'Platte derart, daß in der ersteren das Licht durch die klaren Bereiche des positiven Transparentes hindurchgeht und bewirkt, daß der lichtempfindliche überzug auf der darunterliegenden Platte sich etwas zersetzt, wodurch man einen Löslichkeitsunterschied zwischen den Bildflächen und den Nichtbildflächen bekommt. Die belichteten Bereiche der positiv wirkenden Platte werden ent·*- fernt.

In der Vergangenheit wurden negativ arbeitende Diazo-senslbilisierte lithographische Platte allgemein mit Lösungsmitteln entwickelt. Einige der verwendeten Lösungsmittel waren Isopropy!alkohol; Normalpropylalkohol, CelIosolve (Handelsbezeichnung -Äthylenglycolmonoäthyläther), Butylalkohol, Benzylalkohol usw. Einige Entwickler bestehen im wesentlichen aus organischen Lösungsmitteln, während andere Wasser 'zusätzlich zu den organischen Lösungsmitteln enthalten. Sowohl In den Entwicklern vom Typ organischer Lösungsmittel als auch In solchen vom wäßrigen Typ wurden aromatische Sulfonsäuren oder deren Natriumsalze verwendet. Diese Entwickler litten jedoch unter einem oder mehreren Nachteilen, wenn sie verwendet wurden? um negativ arbeitende Diazo-rsensibilisierte lithographisch© Platten zu entwickeln. Beispielsweise besitzt einGemisch von 20 % Normalpropylalkohol und 80 % Wasser bei der Verwendung zur Entwicklung lithographischer Platte eine Neigung, die Platten tiberzuentwickeln, und zwar wegen geringer Löslichkeitsunterschiede zwischen den BiIdflachen und den Nichtbildflächen.

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Sulfonsäuren wurden in Entwicklern verwendet, doch haben sie einige Nachteile. Sie sind stärker korrodierend als die Lithiumsalze nach der Erfindung, und bei Verwendung in einer Entwicklungsmaschine neigen sie dazu, deren Lager, Leitungen und andere Metallteile zu korrodieren. Vielleicht wegen dieser korrodierenden Natur und ihrer Wirkung auf Bildflächen drucken mit sulfonsäurehaltigen Entwicklern entwickelte Platten nicht so viele Kopien wie jene, die mit den Entwicklern nach der vorliegenden Erfindung entwickelt wurden. Benetzungsmittel vom oberflächenaktiven Typ sind in vielen Rezepturen bevorzugt. Sulfonsäuren, wie beispielsweise 2-Hydr©xy~4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure, neigen dazu, sich zu zersetzen und Benetzungsmittel vom oberflächenaktiven Typ in Entwicklerzusammensetzungen auszufällen. Jene gleichen Benetzungsmitfcel führen zu einer unerwünschten Schaumbildung, wenn sie in Entwicklungsmaschinen verwendet werden. Die oben erwähnte Sulfonsäure ist ein Ultraviolettlichtabsorber, und während sie absorbiert, verfärbt sie sich* Folglich muß als Material für sie enthaltende Flaschen ein strahlenabsorbierendes Material verwendet werden.

Entwickler, die Natriumsalze von Sulfonsäuren sowie Lösungsmittel, wie Glycale <, anstelle oberflächenaktiver Benetzungsmittel enthalten, hinterlassen einen schmutzigen Hintergrund, wenn sie bei der maschinellen Entwicklung von Platten verwendet werden.

Um den Hintergrund zu reinigen, war es erforderlich, die Konzentration des Natriumsalzes der Sulfonsäure zu erhöhen, doch führte dies zu-einer um etwa zwei Stufen verminderten Gräuskala, d.h. die Punkte in dem Halbton auf der Platte waren kleiner als in dem

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für ihre Belichtung verwendeten Transparent. Im Gegensatz dazu arbeiten die Entwickler nach der Erfindung sehr gut ohne Zusatz von Benetzungsmitteln oder Lösungsmitteln, hinterlassen einen klaren Hintergrund auf der Platte und vermindern nicht die Grauskala. '-.,-

Es wurde gefunden,, daß Halbtonpunkte auf einer belichteten Platte am meisten durch Lösungsmittel und sodann durch Sulfonsäuren

in - .

und deren Natriumsalze/der angegebenen abnehmenden Größenordnung angegriffen und geschärft werden. Die Verwendung von Entwicklern nach der Erfindung führt? wenn überhaupt, zu einem geringen An<griff auf die bzw. geringerVerschärfung der Halbtonpunkte.

Die oben erwähnten Nachteile des Standes der Technik werden durch die Entwickler nach der. vorliegenden Erfindung ausgeschaltet oder auf ein Minimum herabgesetzt.

Es ist daher ein Ziel der vorliegenden Erfindung, ein verbessertes Entwicklersystem für lithographische Druckplatten zu erhalten. Ein spezielleres Ziel der Erfindung ist es, eine verbesserte Entwicklerzusammensetzung zur Entfernung von Nichtbildflächen von lithographischen Druckplatten zu erhalten, auf denen das lichtempfindliche Mittel in dem überzug darauf eine im wesentlichen wasserunlösliche Diazoniumverbindung ist.

Die obigen und andere Ziele, die aus der folgenden Besehreibung erkennbar sind, erreicht man durch Verwendung einer erfindungsgemäßen wäßrigen Entwicklerzusammensetzung, die a) ein amjrfphoteres pberflächenaktives Mittel, b) ein im wesentlichen wasserlösliches lithiumorganisches Salz oder c) .ein amjrfphoteres ober·? flächenaktives Mittel und ein im wesentlichen wasserlösliches

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lithiumorganisches Salz verwendet, das leicht von den belichteten lithographischen Platten die Nichtbildflächen des lichtempfindlichen Überzuges entfernt _r in welchem die lichtempfindliche Komponente eine Diazoniumverbindung oder ein Photopolymer, besonders eine im.wesentlichen wasserunlösliche Diazoniumverbindung oder ein solches Photopolymer ist. Allgemein umfaßt die Entwicklerzusammensetzung Wasser und a), b) oder c), wie sie nachfolgend angegeben sind. In einigen Entwicklern nach der Erfindung können Benetzungsmittel und andere Komponenten benutzt werden, um die Zeit/ die für die Entwicklung der lithographischen Platte, erforderlich ist, herabzusetzen oder um andere Eigenschaften der Entwickler zu modifizieren.

Eine der wichtigen Typen bekannter negativ wirkender Diazokomponente^ die in lithographischen Platten benutzt werden, umfaßt Reaktionsprodukte einer lichtempfindlichen diazohaltigen Verbindung und eines Kupplungsmittels, wobei diese Reaktionsprodukte ihre Lichtempfindlichkeit behalten. Die Reaktionsprodukte haben jedoch allgemein geringere Wasserlöslichkeit als jede ihrer Ausgangskomponenten, und allgemein neigen sie dazu, im Wasser im wesentlichen unlöslich zu sein. Obwohl solche Reaktionsprodukte bequem aus einem Lösungsmittel und selbst aus verdünnten wäßrigen Lösungen als überzug auf Substraten aufgebracht werden können, um Platten herzustellen, ist ihre Entwicklung mit Hilfe wäßriger Entwickler wegen der relativ geringen Löslichkeit in Wasser oder wegen des Fehlens ausreichend selektiver Löslichkeit zwischen den belichteten und unbelichteten Flächen, d.h. wegen des Fehlens eines ausreichenden sogenannten Löslichkeitsunter-

schiedes, in Lösungsmitteln schwierig.

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Die lichtempfindlichen di'azohaltigen Komponenten der Reaktionsprodukte sind die in der lithographischen Technik bekannten und allgemein verwendeten negativ wirkenden Diazoniumverbindungen.

und Breit gesprochen sind sie" Diazoaromaten/spezieller Diazoarylamine, die am aromatischen Kern oder am Aminostickstoff substituiert sein können. Die unter solchen Diazoverbindungen am üblichsten verwendete Verbindung ist Paradiazodiphenylamin und Derivate desselben, besonders solche, die mit organischen Kondensationsmitteln mit reaktiven Carbony!gruppen umgesetzt¹ wurden/wie beispielsweise mit Aldehyden und Acetalen, besonders mit Verbindungen, wie. Formaldehyd und Paraformaldehyd. Die Herstellung einiger solcher äußerst geeigneter Kondensationsprodukte ist in den USA-Patentschriften 2 922 715 und 2 94β 683 beschrieben.

Zur Herstellung der lichtempfindlichen,, im wesentlichen wasserunlöslichen Diazonium-überzugskomponenten werden die oben erwähnten diäzoaromatischen Verbindungen vorzugsweise mit aromatischen oder aliphatischen Verbindungen mit einsr oder mehreren phenol!- sehen Hydroxylgruppen oder SuIfonsäuregruppen (-SOg) oder beident umgesetzte Beispiele von Reaktionspartnern mit phenolischen Hydroxylgruppen sind Hydroxybenzophenone, diphenolische Säuren, wie 4,4-Bis-(4'-hydroxyphenyl)-pentansäure, Resorcin und Diresorcin, die auch substituiert sein können» Hydroxybenzophenole sind' beispielsweise 2 ^-Dihydroxy-, 2-JHydroxy-4-methosy=, 2,2^S-Dihydroxy-4_?4'-dimethoxy- und 2,2^! ,4,-4'-Tetrahydroxybenzophenon«. Bevorzugte Sulfonsäuren sind jene der aromatischen Reihen, besonders von Benzol, Toluol, Xylol, naphthalin, Phenol,· Naphthol

die-.

Benzophenon., und deren; lösliehe Salse, wie; Ammonium- und. Älka-

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lisalze. Die Sulfonsäuregruppen enthaltenden Verbindungen können allgemein durch niedermolekulare Alkylgruppen, Nitrogruppen und Halogenatome sowie zusätzliche Sulfonsäuregruppen substituiert sein. Beispiele solcher Verbindungen sind Benzolsulfonsäure, Toluolsulfonsäure, Naphthalinsulfonsäure, 2,5-Dimethylbenzolsulfonsäure, Benzolnatriumsulfonat, Naphthalin-2-sulfonsäure, l-Näphthol-2-(oder 4-)-sulfonsäure, 2,4-Dinitro-l-naphthol-7-sulfonsäure, 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure, m-ip'-Anilinophenylazo)-benzolnatriumsulfonat, Alizarinnatriumsulfonat, o-Toluidin-m-sulfonsäure und Äthansulfonsäure.

Die Diazöverbindung und das Kupplungsmittel werden, vorzugsweise in wäßriger Lösung bei einem pH-Wert unterhalb etwa 7,5, in etwa äquimolaren Mengen miteinander umgesetzt. Das Reaktionsprodukt wird gewöhnlich als Niederschlag isoliert und kann nach üblichen Methoden auf geeigneten lithographischen Basisbögen als überzug aufgebracht werden, um sensibilisierte Platten zu bilden, wie beispielsweise in der USA-Patentschrift 3 3OO 3Ο9 beschrieben ist.

Beispiele positiv wirkender Diazo-sensibilisierter lichtempfindlicher überzüge auf Substraten sind jene, die in der USA-Patentschrift 3 544 317 beschrieben sind.

Beispiele lithiumorganischer Salze, die in den Entwicklern nach der Erfindung verwendet werden können, sind die Lithiumsalze organischer Verbindungen mit einem sauren Wasserstoff und mit einem Gehalt von 1 bis etwa 36 Kohlenstoffatomen. Beispiele organischer Verbindungen mit saurem Wasserstoff sind jene, die Carbonsäuregruppen, Sulfonsäuregruppen/ Schwefelsäuregruppen und

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phenolisiche Hydroxylgruppen uswv enthalten. Speziellere Beispiele der Lithiumsalze sind jene, die durch die folgenden allgemeinen Formeln wiedergegeben werden können:-

I. MiCH₂) _a (CH=CH) _{h 30} II» ^r MiCH₂) _a (CH=CH) _b (CH₃SO₃Li)^C-O-SO₃-Li

III. Dimere von Verbindungen der Formel I oder II oder der Formeln ϊ und II können Über eine Diels-Alder-Reaktion hergestellt werden» ■-'_'.

Die Lithiumsalze besitzen idealisierte Formeln, wie folgende1

M(CH₂)_s-CH-CH-dH=CH<CH₂)^COLl . .

M(CH₉)--CH CH-(CHo)^COLi

C =CH Ö "

Die diitierlsierten Fettsäurevörläuf er werden von der Firma Emery

Industries, Inc* in den Handel gebracht.

In den FormelJi I, ti und III bedeutet M:-H, -OH^ -COQH^-COLi, -C-O-S₃-Ll oder CH₃; a: eine ganzse Zahl von O bis 17; bi eine ganze Zahl von O bis 3; c: eine ganze Zahl von O bis 3j die Summe von b und c: eine ganze Zahl von O bis 3; und die Summe von a, h und c kann einen Maximaiwert von 17 haben, wenn M H oder OH bedeutet, oder einen Maximalwert von 16, wenn H eine der anderen Gruppen ist.

IV.

-C-OLi -C-OLi

it

VIII.

0 :

C-OLi

VI.

Z
OLi

VII.

Z '

Sö-.Li

ι -5

IX.

X.

0 η

0 9 8 2 0/1058

In den Formeln IV bis X kann X oder Y oder Z unabhängig von den

0
anderen -H_r -OLi, -SO₃Li oder _£__0Li/ "^0H/ "^N02' ~^C1" ~^Br' -COOH oder -(CIT₂)^CH₃ sein, worin d eine ganze Zahl von0 bis 17 ist. .

Außer den in den obigen Formeln angegebenen funktionelien Gruppen können die Lithiumsalze in ihren organischen Resten auch andere funktionelle Gruppen enthalten, die ihre Leistung in den Entwicklern nach der Erfindung nicht nachteilig beeinflussen, wie beispielsweise Hydroxylgruppen, Methoxygruppen, Xthoxygruppen, Nitrogruppen, Halogenatome usw.

Beispiele spezieller wasserlöslicher Lithiumsalze, die in den neuen Entwicklern nach der Erfindung verwendet werden können, sind Lithiumformlat, Lithiumchloracetat, Lithiumdichloracetat, Lithiumtrichloracetat, LIthiumbenzoat, Lithiumnaphthenate, Lithiumdodecanoat, Lithlumricinoleat, Lithiumlaurylsulfonat, Lithiumacetylsalicylat, LIthiumlaury!sulfat, Lithiumphenolat, Lithium- 1-phenanthrolat, LIthium-0-nitrophenolat, Dilithlumcatecholat, Lithium^f^ö-trinitrobenzoat, Lithiumphenolsulfonat, Lithiumpicrat, Lithiumtoluolsuifohat, Lithiumxylolsulfonat, LIthiumresorcinate, Lithiumxylenolate, Lithiumcaprylate, die Mono- und Dilithiumsalze von Dicarbonsäuren, wie Zitronensäure, Maleinsäure und Apfelsäure, Lithiumstearat, Lithiumoleat, Lithiura-p-nitrotoluol-orthosulfonate, Lithiumtoluolsuifonat, Lithium-1-butansulfonat, Lithiumbenzolsulfonat, Lithiumdodecylbenzolsulfonat, Lithium-2,5-dIchlorbenzolsulfonat, Lithium-2,4-dinItro-l-naphthol-7-sulfonat, Lithlumsalz von sulfoniertem CastorÖl (Napco Oil 1408) und dergleichen.

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Vorzugsweise enthalten die organischen Verbindungen etwa 2 bis 36 Kohlenstoffatome, vorzugsweise etwa 4 bis 36 Kohlenstoffatome und am meisten bevorzugt etwa 7 bis 18 Kohlenstoffatome.

Die am meisten bevorzugten Lithiumsalze sind Lithiumbenzoat, Lithiumphenolsulfonat , Lithlumlaurylsulfat und Llthiumdodecanoat.

Ein Bestandteil, der in den Entwicklern nach der Erfindung verwendet werden kann, ist ein amphoteres oberflächenaktives Mittel. Amphotere oberflächenaktive Mittel werden so bezeichnet, da sie sowohl anionische als auch kationische Gruppen enthalten. Sie benehmen sich wie kationische oberflächenaktive Mittel in sauren Medien und wie anionische oberflächenaktive Mittel in alkalischen Lösungen.

Eine charakteristische Eigenschaft amphoterer oberflächenaktiver Mittel 1st die Tatsache, daß sie einen isoelektrischen Punkt besitzen , wo das Produkt innerlich neutralisiert ist und ein Zwitterion bildet» An diesem Punkt besitzen amphotere Stoffe häufig eine-minimale Löslichkeit, Schaum-,, Benetzungs- und Oberflächenspannragsverminderung. In neutralen oder leicht alkalischen Lösnagen besitzen sie starke schäumungs- und Relnigungsmitteleigenschaf.ten anionischem oberflächenaktiver Stoffe, während sie Substantiv! tat gegenüber Fasern, Metallen und dergleichen haben,

die gewöhnlich mit kationischen Mitteln verbunden ist.

Der kationische Charakter von amphoteren Stoffen beruht auf einem basischen Stickstoff, der als primäre, sekundäre, tertiäre oder quaternäjire Stickstoff gruppe vorliegen kann. Der anionische Teil kaan sich von einem Carboxyl-, Sulfat™, SuIfonat- oder Phos-

phatrest herleiten.

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■ ■ - — 13 - - " ■ _ * ■

Damit amphotere Materialien wirksam als oberflächenaktive Stoffe fungieren, sollten sie eine Älky!gruppe mit etwa 6 bis 20 Kohlenstoffatomen enthalten.

Beispiele der amphoteren oberflächenaktiven Substanzen, die in den Entwicklern nach der Erfindung verwendet werden können, sind jene, die auf substituierten Imidazolinen basieren, wie Monaterics (Handelsname) der Mona Industries, Inc., Paterson. New Jersey. Die oberflächenaktiven Imidazolinderivate können durch Umsetzung langkettiger Imidazoline mit halogenierten oder organischen Zwischenprodukten mit Carboxyl-, Phosphorsäure- oder SuIfonsäuregruppen hergestellt werden. Andere oberflächenaktive Mittel auf Imidazolinbasis, die verwendet werden können, sind beispielsweise folgende;

R- C=N - CH₀ ^N - CH₂

C₂H₄SO₃H · ■" ,

^N- CH₂

R - C^ I

^N- CH- _r__^ C₂H₄N = HC -(/ y - SO₃H

und ihre Natrlumsalze, worin R die nachfolgende Bedeutung hat. Diese Gruppe amphoterer oberflächenaktiver Mittel ist in den. Entwicklern nach der Erfindung bevorzugt.

Eine andere Klasse amphoterer oberflächenaktiver Stoffe, die verwendet werden können, sind ß-Alaninderivate der folgenden Formeln RNHCH₂Ch₂COOX und RN(CH₂CH₂COOX)₂, In diesen Formeln bedeutet R eine aliphatische Kohlenwasserstoffkette mit etwa 6 bis 20 Kohlenstoffatomen, wie einen Octyl-,

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Nonyl-, Decyl-, Undecyl-, Dodecyl-, Tridecyl-, Tetradecyl-, Pentadecyl-, Hexadecyl-, Heptadecyl- oder Octadecylrest, X bedeutet ein Wasserstoffatom oder ein Kation, wie ein Alkalikation, z.B. Natrium, Kalium, Lithium, ein Ammoniumkation oder ein organisches Aminkation, wie das Kation von Diethanolamin, Triäthylamin, Triäthanolamin, Morpholin oder Piperidin. Diese Verbindungen werden durch Umsetzung eines primären Amins mit etwa 6 bis 20 Kohlenstoffatomen mit Chlorpropionsäure oder Brompropionsäure in Gegenwart von Alkali, wie Natriumhydroxid oder Kaliumcarbonat, hergestellt.

Die Verbindungen können auch gemäß der in der USA-Patentschrift 2 468 012 beschriebenen Methode hergestellt werden, indem man bei 25 bis 30° G ein primäres Amin mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen mit Methylacrylat unter Bildung des ß-Alkylaminopropionats kondensiert. Der Methylester wird zu einer Säure hydrolysiert oder nach einer herkömmlichen Verseifungsmethode in die Alkalioder organischen Aminsalze umgewandelt. Das sekundäre Amin erhält man bei Verwendung polarer Mengenverhältnisse, während das tertiäre Amin durch Verwendung von wenigstens zwei Moläquivalenten der Säurederivate erhalten wird«,

Bei der Auswahl der Amine ist es gewöhnlich wirtschaftlicher, jene mit einer geraden Zahl von Kohlenstoffatomen auszuwählen, da sie im Handel erhältlich sind. Die aus Kokosnuß _s Sojabohnen oder Talg erhaltenen Amingemische können mit gleichem Erfolg verwendet werden. Andere Verbindungen, die benutzt werden können, sind beispielsweise folgende:

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^Cl2^H23^NH*^CH2^CH2^COONa Natriüm-N-dodeeyl-ß-aminopropionat

N-Decyl-ß-aminopropionsäure

C _{χ 4},H₂ glSH. CH₂CH „ COOK Kalium-N-tetradecyl-ß-aminopropionat

C₁₆H₃₃NH.CH₂CH₂COONa Natrium-N-hexadecyl-ß-aminopropionat

C₁₈H₃₇NHoCH₂CH₂COONa Natrium-N-octadeeyl-ß-aminopropionat

C₁₂H₂₅N₀CH₂CH₂COONa CH₂CH₂COpH

Mononatriumsals iron N-Dodeeyl°ß»aminodlpropiönat CH₅CH-COONa

Dinatrium-N-octadecyl-ß-aminodipropionat

Eine andere Klasse amphoterer oberflächenaktiver Stoffe? dl© verwendet werden können, umfaßt die Betainderivate-, die -eia@ lange Kohlenstoff kette enthalten.» Diese Betainderivat© werdtes durch die folgende allgemeine Formel gekennzeichnets " .

R₁ - N - CHg-COO·=

CH₃ CH₃ - '

worin R₁ einen aliphatischen Kohlenwasserstoffrest mit etwa I bis 20 Kohlenstoffatomen bedeutete Diese Betainverbindungefi" gewinnt man dureh Umsetzung eines tertiären ,Höheralkylamins^

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Dodecyldimethylamin, Tetradecyldimethylamin oder Hexadecyldiäthylamin, mit Chloressigsäure. Diese Verbindungen können auch durch Kondensation des tertiären Amins mit einem halogenierten Carbonsäureester und Verseifung des Esters gemäß der USA-Patentschrift 2 082 275 hergestellt werden.

Die amphoteren oberflächenaktiven Mittel nach der Erfindung können entweder allein oder in Verbindung mit anderen oberflächenaktiven Mitteln oder Benetzungsmitteln verwendet werden, wie mit den Taurinen, Saponin oder Polyoxyäthylenderivaten langkettiger Fettsäuren und Alkohole.

Es scheint: keine Begrenzung hinsichtlich der Menge der lithiumorganischen Verbindungen in den Entwickellösungen außer solche aufgrund praktischer Erwägungen zu geben. Beispielsweise bilden die Wirtschaftlichkeit und die Löslichkeit der Verbindung in Wasser oder im wäßrigen Entwicklersystem eine praktische Obergrenze der Konzentration, während die Entwicklungszeit hauptsächlich die Untergrenze bestimmt. Beispielsweise bei Konzentrationen von etwa 1 % liegt die Entwicklungszeit in der Größenordnung von etwa 5 oder mehr Minuten, was vom Standpunkt eines beschäftigten Lithographen übermäßig lang-ist im Vergleich mit den etwa 1 1/1 bis 2 Minuten, die er erwünscht findet. Dieser erwünschte Bereich der Entwicklungszeit kann mit den vorliegenden Entwicklersystemen bei Lösungskonzentrationen von etwa 5 bis etwa 25 Gewichts-% lithiumorganischer Verbindung in der Lösung erhalten werden. Der bevorzugte Konzentrationsbereich liegt bei etwa 10 bis 20 %, was eine gute Entwicklungszeit in der Größenordnung von etwa 1 Minute und außerdem ausreichend Wasser für

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die Auflösung und Entfernung des unbelichteten Überzugs ohne das Erfordernis übermäßigen Spülens ergibt.

Es gibt offenbar auch keine Begrenzung der Menge des amphöteren oberflächenaktiven Mittels in den Entwicklerlösungen mit Ausnahme jener, die durch praktische Gesichtspunkte bestimmt werden . Beispielsweise bestimmt die ,Wirtschaftlichkeit und die Löslichkeit der Verbindung in Wasser oder dem wäßrigen Entwicklersystem eine praktische obere Grenze der Konzentration', während die Entwicklungszeit grundsätzlich die Untergrenze bestimmt·. Beispielsweise bei Konzentrationen von etwa 1 % liegt die Entwicklungszeit in der Größenordnung vpn etwa 5 oder mehr Minuten, was vom Standpunkt eines beschäftigten Lithographen übermäßig lang ist im Vergleich mit den 1 1/2 bis etwa 2 Minuten, die er erwünscht findet. Dieser erwünschte Bereich der Entwicklungszeit kann mit den vorliegenden Entwieklersystemen bei Lösungskonzentrationen von etwa 5 bis 30 Gewichts-% des amphöteren oberflächenaktiven Mittels in der Lösung erhalten werden. Der bevorzugte Konzentrationsbereich liegt bei etwa 10 bis 20 %, die gute Entwicklungszeiten in der Größenordnung von etwa X Minute . ergeben und auch ausreichend Wasser zur Auflösung.und Entfernung des unbelichteten Überzugs ohne Erfordernis Übermäßigen Spülens liefern.

Der Entwickler nach der Erfindung kann in einer Konzentration in Wasser bereitet werden, die direkt zur Entwicklung lithographischer Platten geeignet ist, oder er kann anfangs als ein Konzentrat bereitet werden, d.h. als eine wäßrige Lösung, in der die aktiven Bestandteile in einer höheren Konzentration, als für

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die Verwendung als Entwickler erforderlich, vorhanden sind. Dies ist vorteilhaft für den Transport und die Lagerung. Vor der Verwendung sollte das Konzentrat mit Wasser auf die bevorzugte Arbeitskonzentration verdünnt werden. Das Konzentrat kann bis zu etwa dreimal mehr konzentriert als die Arbeitslösung sein. In dem Konzentrat können die amphoteren oberflächenaktiven Stoffe und die lithiumorganischen Salze jeder für sich in einer Menge von etwa 15 bis 5O % vorliegen.

Es kann erwünscht sein, in die Entwicklerlösungen auch noch andere Bestandteile einzuarbeiten, um die Entwicklung zu erleichtern und die Platte zu behandeln. Solche Bestandteile sind belT spielsweise Lösungsmittel, Benetzungsmittel oder oberflächenaktive Stoffe, Metallreiniger und dergleichen. Beispielsweise, doch nicht notwendigerweise, unterstützen bis zu etwa 3O Gewichts-% eines mit dem Wasser mischbaren Lösungsmittels die Entfernung der Nichtbildbereiche der Diazonlumverbindung, und insbesondere unterstützen sie die Auflösung von organischem Harz, das entweder mit der Diazoniumverbindung in dem überzug auf der Platte vermischt ist oder als Überzug über der Diazoniumverbindung vorliegt. Das Lösungsmittel ist auch hilfreich als Elndringungsmittel, besonders anstelle aller herkömlichen oberflächenaktiven Netzmittel oder eines Teiles derselben, wenn der Entwickler in einer Entwicklungsmaschine verwendet werden soll, worin das herkömmliche Benetzungsmittel unerwünschte Schaumtendenz hätte. Vorzugsweise werden bis zu etw;a 25 %, besonders bevorzugt bis zu etwa 20 % und am meisten bevorzugt etwa 5 bis 15 % Lösungsmittel verwendet, wie Cyclohexanon, Benzylalkohol, Dimethyl-

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^ 19 -

formamid, Dimethylsulfoxid, Normalpropylalkohol, Isopropanol, Dioxan und" Methylcellosolve (Handelsname) usw. Oberflächenaktive Mittel oder Benetzungsmittel, um den Kontakt zwischen dem wäßrigen Entwickler und dem lichtempfindlichen Oberzug zu for* dern, können in Mengen bis zu etwa 5 oder 10 Gewichts-% verwen^ det werden.

Die Benetzungsmittel, die in den neuen Entwicklern nach der Erfindung verwendet werden können, können nicht ionische, anionische oder kationische Verbindungen sein.

Beispiele der Netzmittel, die verwendet werden können, sind folgende;

Anionische Netzmittel

Solche Mittel sind Ammonium=· und Alkalisalz©' langkettiger Aiko-* holsulfate* wie beispielsweise Na-tri.uin-laurylsu.Xfst, NatriuBioc-. tylsulfat, Amraoniumläury!sulfat, Natrium-N-m©thyl©l.@yllaurafcy -. Dioctylnatriumsulf osuccinat, Natrlumdodecylbensolsulf at _e - _ Natrium-d-(2-athylhexyl)-phosphat (Tergitol P-28 det Union Garbide) , ■ ■

die Duponol-Reihe (du Pont), allgemein Natriumalky!sulfat©, Duponol Sp, ein. flüssiges AlkylalkyloLaminsulfat (au Pont), Ävirol 116 (Henkel, 'Inc,), Natriumlauryläthersulfatnadeiti,."-Avirol 111 LC (Henkel, Ine»), flüssiges Natriumalky!sulfat'usw.'

Nicht ionische Netzmittel

Tergitol 15-S-3 (Union Carbide) , ein flüssiger' .Polyöthylenglyco lather eines linearen Alkohols _Ami|^^ .einem HLB .^οώ 8»0_f _^: . -.

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Tergitol NPX (Union Carbide), ein flüssiger NonylphenylpolyäthylengIycoläther mit einem HLB von 13_f6,

Tergitol NP-35 (Union Carbide), ein pastenförmiger Nonylphenyl-

polyäthylenglycoläther mit einem HLB von 15,0,

Gaftex Texol 237 (GAP Corporation), ein Diäthanolamin-Laurinsäu-

rekondensat,

Glycerlnxnonostearat oder Polyoxyäthylenglycolmonostearat ⁺) Hydrophil-lipophil-Gleichgewicht

Kationische Netzmittel

Gafstats (GAF), quaternäre Ammoniumderivate,

Aerosol C 61 (American Cyanamid Co.) , ein äthanolierter Alkyl-

guanidinaminkomplex, usw.

Die am meisten bevorzugten Netzmittel sind die anionischen, sodann folgen die nicht-ionischen und schließlich die kationischen. Von den anionischen Netzmitteln sind die Älkylalkylolaminsulfate und NatriumlaurylMthersulfate bevorzugt. Von den nichtionischen sind die ersten drei der oben aufgeführten bevorzugt.

Es 1st bevorzugt, daß die Netzmittel, besonders die nlcht-ionischen, ein Hydrophil-lipoph'il-Gleichgewicht (HLB) von wenigstens etwa 8 besitzen.

Die Entwickler nach der Erfindung können auch die aromatischen oder aliphatischen Verbindungen mit einer Sulfonsäuregruppe (-SO3-) enthalten, die in den Entwicklern gemäß der USA-Patentschrift 3 669 660 verwendet werden.

Solche Verbindungen sind im allgemeinen die gleichen wie jene, die oben als geeignet zusammen mit der Dlazoverbindung, dem

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lichtempfindlichen Reaktionsprodukt, das in dem ten überzug auf der Platte beschrieben wurde, Beispiele solcher Verbindungen sind Benzolsulfonsäuren Toluolsulfonsäure, Naphthalinsulf onsäiire, 2 rS-DimethylbenzQlsulfOnsäure* Benzolnätriumsulfonat, Naphthalin-Z^sulfonsäure, 1-Naphthole» (oder -4-)— sulfonsäure _t Z,4^Din±trQ-l^naphthQl^7-sulfonsäure, 2-Hydroxy-4-methoxy^ benzophenon^S^sulfonsäure _r. mr- (p' -ÄnilinophenyIstzo) -benzolnatriumsulfonati Ältzarinnatriuinsulfon.at« o-^BTQluidin"i!ti--sulfonsäure und Äthansulfonsäure *» Die Sulfongäuregruppe 'enthaltendenVerbindungen werden in Wasser unter Bildung der Entwickleriösungen gelöst.

Bestimmte Rezepturen der Entwickler nach der Erfindung zeigen deutlich einzigartige synergistisqhe Effekte. Beispielsweise moderiert das amphotere oberflächenaktive Mittel die Wirkung von Lösungsmitteln. Ein Entwickler mit einem Gehalt von 5 % eines

■ iv ■ ^: - ^;

amphoteren pberflächenakten Mittels und 23 % Lösungsmittel ist wirksam zur Entfernung von Nichtbildbereichen aus dem piazosensibilisierten tiberzugr beeintraphtigt aber die Bildbereiche nicht. Wenn jedoch der Prozentsatz an amphqterem oherflächeivaktivem Mittel in der Rezeptur halbiert wird_rfreift der Entwickler den Biidbereich des Überzuges an. Das amphotere oberflächenaktive Mittel beschleunigt die .Wirkung anderer Komponenten von Entwicklerrezepturen, wie beispielsweise von Sulfonsäuren und von deren oben erwähnten Natrium- oder Lithiumsalzen,

Bis zu etwa 5 Qewichts^% Phosphorsäure oder Oxalsäure können ebenfalls in dem Entwicklernach der^Erfindung verwendet werden, um den Äluminiumbasisbogen zu reinigen, nachdem der desensibili" sierte Überzug entfernt wurde« Andere ähnliche bekannte Mittel._..., können allgemesin a»ch benutzt werden,;-wenn- dies erwünscht ist.

Die pH-Werte der Entwickler nach der Erfindung liegen im allgemeinen im Bereich von etwa neutralem pH, d.h. einem pH-Wert von etwa 5 bis etwa 10, und irgendeinem Bereich so hoch wie 11 oder 12 oder noch höher. Dieser weite pH-Bereich ergibt eine große Breite für die Entwicklerrezepturen ohne nachteilige Wirkung auf die Aktivität oder Wirksamkeit des Entwicklers, Es ist bekannt, daß bei steigend alkalischen pH-Werten Diazoverbindungen eine Neigung besitzen, irreversibel zu kuppeln und relativ unlöslich zu werden. Wenn ein alkalischer Entwickler ohne unterschied sowohl die Bildbereiehe als auch die Nichtbildbereiche einer lithographischen Diazoplatte härten würde, würde er nicht als wirksamer Entwickler angesehen. Es ist überraschend, daß die Entwickler nach der Erfindung, deren Alkalitätsbereich bis zu einem pH-Wert von etwa 11 oder 12 reicht, erfolgreich für eine zuverlässige Entwicklung lithographischer Platten sind. Im Hinblick auf die Neigung von Diazoverbindungen, unter alkalischen Bedingungen zu kuppeln, enthielten viele der bekannten Entwickler, die beispielsweise Natriumsalze oder aromatische Sulfonsäuren verwendeten, einen Überschuß an Phosphorsäure, Oxalsäure, Zitronensäure oder Sulfonsäure oder irgendeiner anderen Säure, die verwendet wurden, um einen niedrigen pH-Wert zu erhalten.

Die Entwickler nach der Erfindung können auf belichtete lichtempfindliche überzüge, besonders Diazo-sensibilisierte überzüge, entweder manuell oder maschinell aufgebracht werden. Der erfahrene Fachmann wird natürlich die Entwicklerrezeptur gemäß der Lehre der vorliegenden Erfindung so einstellen, daß der spezielle belichtete überzug entwickelt wird, unabhängig davon, ob es

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sich um eine lithographische Druckplatte (entweder vorseiisibill-r siert öder vom Aufwischtyp) oder um irgendeine andere Oberfläche, wie Papier oder einen klaren Kunststoffilm, wie in einem Prüfsystem zur Prüfung der Farbetrennungstransparenie, handelt. Die Entwickler nach der Erfindung sind universell, da sie zur Entwicklung positiv wirkender Systeme geeignet und besonders geeignet und wirksam bei der Entwicklung negativ Wirkender Systeme sind. Zur Entwicklung positiv wirkender Systeme ist es bevorzugt, daß der Entwickler auf der alkalischen Seite liegt, vorzugsweise bei einem pH-Wert von wenigstens etwa 12, doch können auch niedrige pH-Werte verwendet werden. Im Hinblick auf die Universalität einiger der Entwickler nach der Erfindung, wie beispielsweise jener, die ein amphoteres oberflächenaktives Mittel und das wasserlösliche lithiumorganische Salz oder eine Verbindung mit einer SuIfonsäuregruppe, wie sie in der USA-Patentschrift 3 669 660 beschrieben ist, enthalten, ist es für den Lithographen möglich, einen Entwickler für negativ als auch'für positiv arbeitende Systeme zu verwenden. Die Verwendung eines einsigen Entwicklers für beide Systeme ist besonders günstig und seitsparend, wenn eine Entwicklermaschine verwendet wird» Die Verwendung .eines einzigen Entwicklers bedeutet, daß es nicht erforderlich ist, beispielsweise einen Negativsystement\^ickler abzulassen, die Maschine zu spülen und dann mit einem Positivsystementwickler zu füllen, um die unterschiedlichen Systemarten zu entwikkein. Die Universalität erstreckt sich auch auf mehr Plattenarten , besonders.jene mit.überzügen, die organische Harze enthalt ten, wenn die Entwickler auch Lösungsmittel enthalten„

409820/105 6 -^-

Die folgenden Beispiele, dienen der weiteren Erläuterung der Erfindung, doch können vom Fachmann selbstverständlich innerhalb des Erfindungsgedankens Modifikationen der Bestandteile, Mengenverhältnisse und Verfahrensbedingungen vorgenommen werden, ohne den Erfindungsgedanken damit zu verlassen. In den folgenden Beispielen sind alle Teile und Prozentsätze Gewichtsteile und Gewichtsprozentsätze.

Beispiel 1

Eine Aluminiumplatte wurde durch Bürsten gekörnt, anodisiert und chemisch mit Kaliumzirkonfluorid behandelt, um einen Überzug zu bilden, der alseine Zwischenschicht in der fertigen Platte fungiert. Die behandelte Platte wurde dann mit Hilfe eines Wirbiers mit einem lichtempfindlichen Überzug aus vier Teilen Sensibilisator (Additionsprodukt von 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure und para-Diazodiphenylamin^Formaldehyd-Kondensat) und einem Teil eines Glycidylätherpolyepoxids versehen, so daß der Überzug ein Gewicht von IOO mg je 929 cm {Quadratfuß) besaß. Nach dem Belichten der Platte mit Ultraviolettlicht durch ein Negativtransparent wurden die unbelichteten Bereiche leicht mit den folgenden Entwicklern entfernt und ergaben eine gewerblich verwertbare lithographische Plätte:

a) 5 % Lithiumbenzoat 95 % Wasser ·

b) 10 % Lithiumbenzoat 90 % Wasser

4 09820/1056

Beispiel 2 - ." .

Das Verfahren des Beispiels 1 wurde wiederholt, doch wurde die Aluminiumplätte chemisch geätzt anstelle der Bürstenkörnung. Die Entwicklungsergebnisse waren ähnlich.

Beispiel .3

Das Verfahren des Beispiels l wurde wiederholt, doch bestand der Überzug aus, einem Teil Sensibilisator und zwei Teilen Formvar 12/85 (Handelsname *- ein Polyvinylacetalharz der Monsanto Company) anstelle des Polyeppxiäs. Die Entwicklungsergebnisse waren ähnlich, _: '

Beispiel 4 ■ ~ -

Die Verfahren der Beispiele 1 bis 3 wurden wiederholt, um drei unterschiedliche Platten zu bekommen, die dann mit Entwickler entwickelt wurden, der 5 % Lithiumbenzoat, 5 % Alkylalkylolaminsülfat (Duponol EP - Handelsbezeichnung der duPont Company) und 90 % Wasser enthielt. Die entwickelten Platten waren geeignet für gewerbliche Verwendung in der Lithographie.

Beispiel 5 ■■;-,'

Die Verfahren des Beispiels 4 wurden wiederholt, doch enthielt der Entwickler 5 % eines Polyäthylenglycoläthers eines linearen Alkohols (Tergitol 15-S-3 - Handelsbezeichnung der Union Carbide Corporation) anstelle von Duponöl EP. Die entwickelten Platten waren geeignet für gewerbliche Verwendung in der Lithographie.

Beispiel 6

Die Verfahren der Beispiele4 und 5 wurden wiederholt, doch war der Sensibilisator das Additionsprodukt von Benzolsulfonsäure statt 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure. Die entwikkelten Platten waren geeignet für gewerbliche Verwendung in der Lithographie. '

Beispiel 7

Die Verfahren des Beispiels 5 wurden wiederholt, doch wurden 4 % eines äthanolierten Alkylguanidinaminkomplexes (Aerosol G 6 Γ der American Cyanamid Company) anstelle des Tergitol 15-S-3 verwendet. Die Entwicklungsergebnisse waren ähnlich.

Beispiel 8

Die Verfahren der Beispiele 1 bis 3 wurden wiederholt, doch wurden 2O % Lithiumnaphthenat anstelle der Mengen an Lithiumbenzoat verwendet. Der Rest der Zusammensetzung bestand aus Wasser. Alle entwickelten Platten erwiesen sich als geeignet für gewerbliche Verwertung in der Lithographie. .

Beispiele 9 bis 13

Die Verfahren der Beispiele 1 bis 3 wurden in den Beispielen 9 bis 13 wiederholt, doch mit den folgenden Lithiumsalzen, die dem Wasser zur Bildung der Entwickler zugesetzt wurden:

Beispiel	Prozent	Salz
9	15	Lithlumricinoleat
10	12	Lithiumtoluolsulfonat
11	15	Lithiumxylolsulfonat
12	5	Lithlumlaurylsulfat
13	10	Lithiümdodecanoat

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■- 27 -

Alle entwickelten Platten erwiesen sich als geeignet für gewerbliche Verwendung in der Lithographieν

Beispiel 14 ,

Das Verfahren des Beispiels 10 wurde wiederholt, doch bestand der Oberzug aus einem Gemisch von einem Teil des Sensibilisators, 6 Teilen eines Glycidylätherpoiyepöxids und 4 Teilen Formvar 12/85. Der Entwickler bestand aus 12 % Lithiumtoluolsulfonat und 5 % Cyclohexanon in Wasser. Die entwickelten Platten erwiesen sich alle als geeignet für gewerbliche lithographische Verwendung.

Beispiel 15

Das Verfahren des Beispiels 1 wurde wiederholt, doch enthielten die Entwickler auch 5 % Nomalpropylalkohol und 3 % Benzylalkohol. Die entwickelte Platte war brauchbar für die Verwendung in gewerblicher Lithographie. - ~

Beispiel 16 · . . ·

Das Verfahren des Beispiels 1 wurde wiederholt-, doch wurde' di© Äluminiumplatte mit einer Natriumsilikatswischenschicht statt derjenigen a s Kaliumzirkonfluorid behandelt. Die Entwicklungsergebnisse waren ähnlich.

Beispiel 17

Das Verfahren des Beispiels 1 wurde wiederholt, doch wurden als Entwickler 10 % Lithiumchloracetat verwendet. Die Entwicklungsergebnisse waren ähnlich.

. . 4D98-2071058

Beispiel 18

Das Verfahren des Beispiels 1 wurde einmal mit IO % Lithiumformiat und einmal mit 10 % Lithiumeitrat als Entwickler statt der in Beispiel 1 beschriebenen Entwickler wiederholt. Die Ergebnisse waren nicht ganz so gut wie jene des Beispiels 1.

Beispiel 19

Eine vorsensibilisierte lithographische Platte Enco^v-^/N-2 der Azoplate Corporation wurde mit Ultraviolettlicht durch ein Negativtransparent 2 Minuten belichtet. Sodannn wurde sie mit 15 % Lifchiumbenzoat in Wasser entwickelt. Die Platte ließ sich leicht entwickeln und ergab eine gewerblich verwertbare lithographische Platte.

Beispiel 20

Das Verfahren des Beispiels 19 wurde wiederholt, doch wurde eine ^lfR"-vorsensibilisierte lithographische Platte der 3 M Company anstelle der Enco-Platte verwendet. Die Ergebnisse waren , ähnlich.

Beispiel 21

Ein Farbprüfsatss, hergestellt gemäß der technischen Lehre der britischen Patentschrift 1 191 659 und bestehend aus gelb, cyan, magenta und schwarz vorsensibilisierten Transparentbereichen auf einer Polyestergrundlage wurde belichtet, und zwar jeder Transparentbereich mit einem entsprechenden Farbentrennnegativ. Jeder belichtete Transparentbereich würde seinerseits mit eier 10 %-igen wäßrigen Lösung von Lithiumbenzoat entwickelt.

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-.29 ■■- 2353S02

Nach dein Trocknen und bei geeigneter Registrierung ergab der Satz belichteter und entwickelter Trahsparentbereiehe.eine sehr gute Nä6%ung oder Prüfung des fertigen Vlerfarbendruckes.

Beispiel 22 '

Eine positiv wirkende vörsenslbillsierte lithographische Platte PA 200 der Azoplate Corporation wurde mit Ultraviolettlicht durch ein positives photögraphisches Transparent belichtet* Die belichtete Platte wurde «lit einer 12 %-igen Lösung von liithiumbenzoat entwickelt/ wobei deren pH-Wert durch Zugabe von 3 %-iger Natronlauge auf 12 eingestellt worden war,

Beispiel 23

Die folgende Tabelle I gibt Vergleichswerte der Druckpressenleistung von Platten, die mit verschiedenen Entwicklern entwikkelt wurden. Die ersten beiden Spalten in der Tabelle zeigen die Entwicklerzusammensetzungeh und die Zusammensetzungen des Plattenüberzugs in Gewichtsteilen. Der Sensibilisator ist der gleiche wie der Sensibilisator in dem obigen Beispiel 1* Das tfberzugsgewicht ist in Milligramm je 929 cm angegeben:. Die Substrate für die beiden ersten beschriebenen Platten wurden ge<mäß dem Verfahren des obigen Beispiels 1 hergestellt» Die dritte nand vierte Platte in der Tabelle besaß Substrate, die gem3ß dem Verfahren des obigen Beispiels 2 hergestellt wurden. Die Entwick-Ibuhg erfolgte durch ÄuOaringung des Entwicklers von Hand mit einem Äüfbrindischer. Die MMbereiche und diö ehe sind beschrieben., ©ie verwendete Grauskala ist eine ierliche 21-stuflge ^Grautonifölge, die bei der Stoufiör Graphic

Arts Equipment Company (South Bend, Indiana) erhältlich 1st. Der PreBversuch wurde in der Weise durchgeführt,- daß die Platte auf einer lithographischen Presse Chief 22, die 0,15 nun "überpackt" war, womit gemeint ist, daß die Platte 0,15 mm höher als normal unterlegt war, befestigt wurde, wobei bewirkt wurde, daß die Platte mit einem größeren Druck in Kontakt kam, als er normalerweise verwendet würde, tiberpacken verursacht eine übermäßige Abnutzung der Platte im Vergleich mit-einer normal eingestellten Presse. Die Spüllösung enthielt 35 % Isopropanol. üblicherweise enthalten Sptillösungen nicht mehr als 25 % Alkohol. Je mehr Alkohol in der SpüllösAing ist, desto größer ist der nachteilige Effekt auf die Bildfläche der Platte, der erwartet werden kann. Die verwendete Druckfarbe war Chromatone Nr. 4559 (ein Produkt der Chromatone Printing Ink Company, einer Tocher der Polychrome Corporation). Das verwendete Papier war weißes Offsetpapier von 32 kg (70 Pfund), das maximal dreimal wiederverwendet wurde. 5OOO Kopien wurden gedruckt, und die Qualität der Drucke war so, wie in der Spalte mit der Bezeichnung "Pressenversuch" in der Tabelle angegeben ist.

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Tabelle I

Vergleichsweise bei der Plattenentwicklung mit unterschiedlichen Entwicklern bei 2-minütiger

Belichtung in einem Belichtungsrahmen Nu Arc (Kohlenbogen)

Entwiek-

10 % Lithiumben-

Zusammen-· Setzung des Platten-Überzugs (Gew.-Teile)

Überzugsgewicht (mg/929 cm*)

Entwicklungs-Substrat methode

NichtbiId-Bildbereiche bareiche

Pressenversuch

90 % Was·

ser

7 Sensibilisator

1 Glycidylätherpo*· lyeposiid

Durch Bürsten geköm·" tes anodisier~ tes Aluminium, Kalium^ zirkonfluosridzwischen· schicht

Von Hand unter >Verwendung einer Standardaufbringvor richtung

10 % Ben- 7 Sensibilizoläulsator fonsäure 1 Glycidyl-

90 % Was- äthexpolyepoKid Grauskala zusammenhän gend 5, auselnandergezo gen B, Halbtonreproduk tion ähnlich derr Negativtranspareni.

Grauskala zusammemhängend 9,' auseinandergezo gen 8, Halbtonreproduk tion zeigt Verstopfung (restliches unbelichtetes Polymer blieb auf der Plattenobarfläche)

Kein überzug blieb auf der Platte in den, unbelichteten Bereichen

5000 Kopien auf der überpackten Presse, annehmt bare ^«produktion

überzug blieb auf der Platte in unbelichte ten Bereichen

5000 Kopien auf der überpackten Presse, die Nichtbildbereiche zeigten S chaumb i1dung

CJ 4Π CO CO (O

Fortsetzung der Tabelle I

Zusammensetzung Uberzugs-.des. Platten- gewicht
Entwick- Oberzuges (mg/929
ler (Gew. -Teile) cm2)

.Entwicklungs-Substrat methode.

Nichtbild-Bildbereiche bereiche

Pressenversuch

15% Lithium-
phenolsulfonat
% Tergitol
NP-3 5
80% Wasser

Sensibilisator

Glycidylätherpolyepoxid

2-Hy 4 Sensibili-
<n droxy-4- sator
methoxy- 1 Glycidyl-5-sulfonätherposäure lyepoxid
5% Tergitol NP-35
10% Wasser

Durch Entwicklung Bürsten von Hand gekörntes ,chemisch
geätztes analysiertes Aluminium , Natriumsilikat- zwischenschicht

Durch Entwicklung Bürsten von Hand gekörntes , chemisch
geätztes analysiertes Aluminium , Natriumsilikatzwischenschicht Grauskala zusammenhän
gend 6, auseinandergezo
gen 8, Bildreproduktion
ähnlich dem
Negativtransparent

Kein Überzug blieb auf der Platte in den unbelichteten Bereichen

50OO Kopien auf der überpackten Presse, annehmbare Reproduktion

Grauskala zusammenhän
gend 8_f auseinandergezo
gen 14,Licht
höfe in TÖ-nungsbereichen infolge
ungenügender
Entwicklung

Oberzug blieb auf der Platte in unbelichte ten Bereichen

5000 Kopien auf der überpackten Presse, die Nichtbildbereiche zeigten auf der Kopie Schäumbildung

cn co co co

Beispiel 24

Die folgende Tabelle II enthält Vergleichswerte hinsichtlich der Pressenleistung von Platten, die mit unterschiedlichen !Entwicklern entwickelt wurden* Die erste Spalte in der Tabelle zeigt die Entwicklerzusammensetzlingen. Die Plattenüberzüge enthielten die in der zweiten Spalte aufgeführten Bestandteile. Der Sensibilisator ist der gleiche wie der im obigen Beispiel 1. Das Überzugsgewicht ist in mg/929 cm (Quadratfuß) angegeben. Die Entwicklungsmethode bestand in einer Aufbringung des Entwicklers von Hand mit Hilfe eines Aufbringwischers oder maschinell, wie angegeben. Die Bildbereiche und Nichtbildbereiche sind beschrieben. Die verwendete Grauskala ist eine 21-stufige Grautonskala, die von Stoüffer Graphic Arts Equipment Company (South Bend, Indiana) erhältlich ist. Eine allgemeine Diskussion der Brauchbarkeit der Grauskalen findet sich .in "The Sensitivity Guide", Research Bulletin No. 215, The Lithographie Technical Foundation, Inc. Der Versuch wurde wie in Beispiel 23 durchgeführt*

9 it Q/ 10fr

Tabelle II Vergleichawerte bei der Plattenentwicklung mit unterschiedlichen Entwicklern bei 2-minütiger Belichtung in einem Belichtungsrahmen Nu Arc (Kohlenbogen)

Entwickler

Zusammensetzung überzugsdea Platten- gewicht Überzugs (mg/929 (Gew.-Teile) cm2)

Entwicklungs-Substrat methode Nichtbild-Bildbereiche bereiche Pressenversuch

15 % Li- 2 Sensiblli thiumbenzoat

5 % Hexylenglycol 80 % Wasser

sator 1 Glycidyl-

ätherpo-

lyepokid 1/2 Formvar

12/85

75 Glattes, Automatische chemisch Maschine geätztes anodisiertes Aluminium,Natriumsilikatzwischen- schicht

15 % ToIuolsulfonsäure-Natriumsalz 5 % Hexy-IyengIycol

80 % Wasser

Grauskala zusammenhän gend 7,auseinandergezogen IO, Halbtonreproduktion ähnlich Negativtransparent

Grauskala zusammenhän gend 2, auseinanderge zogen 4, Halbtonreprpduktion Verschärfung der Rastertönungen

Kein über- 5000 Kopien zug blieb auf der überauf der packten Presse, Platten- " annehmbare Reoberfläche produktion in den unbelichte ten Bereichen

Kein Überzug blieb auf der Plattenoberfläche in den unbelichte ten Bereichen

5000 Kopien auf der überpackten Presse, langsame Druckf arbenaufnähme, vorzeitiger Zusammenbruch der Rastertönungsbeildbereiche

CO CD CO /Ό

Fortsetzung der Tabelle II

Entwiok-

20 5,Lithiumdo-■$ecanoat 5 % Duponol C-20 75 % Wasser

Zusammensetzung Überzugs· des Platten- gewicht Überzugs (mg/929 (Gew.-TeIIe) cm-²)

cn 25 ί Noro> malpropyialko-

5 % Öupo-,nol Cr 20 7ö % was-

Entwicklungs-Substrat methode

Nichtbild-BiIdbereiche bereiche

Pressenversuch

2 Sensibilisator

1 Glycidylätherpolyepoxid

1 .Pormvar 12/85

100

Durch Handentwick-	Grauskala-	Kein Über	5000 Kopien auf
Bürsteh lung	zusammenhän-	zug blieb	der überpackten
gekörn	gend 6,aus- ■	auf der	Presse, annehm
tes ,che	einandergezo-	Platte in	bare Reproduk
misch	gen 8, Bild	den unbe	tion
geätztes,	reproduktion	lichteten
anödi-	ähnlich dem1	Bereichen
siertes	Negativ
Alumini-	transparent
umr Na-
triumsi=· k
likatzwi-
sehen-
Schicht

Grauskala zusammenhän
gend 2, auseinandergezo
gen 4, Verschärfung
der Halbtonraster in
den belichteten Bildbereichen

Überzug blieb auf der Platte in den unbelichte ten Bereichen

5OOO Kopien auf der Überpackten Presse, Nichtbildbereiohe zeigten Schaumbildung, vorzeitiger Zusammenbruch der Bildbereiche

cn co co

Beispiel 25

Jeweils eine Oberfläche von zwei Alximiniumplatten wurde durch Bürsten gekörnt, anodisiert und chemisch mit Kaliumzirkonfluorid behandelt, um einen Oberzug zu bilden, der als eine Zwischenschicht In den fertigen Platten fungiert. Die behandelten Plattenoberflächen wurden dann mit Hilfe eines Wirbiers mit einem lichtempfindlichen überzug beschichtet, der aus vier Teilen Sensibilisator (Additionsprodukt von 2-Hydroxy-4-methoxy-benzopherion-5-sulfonsäure und para-Diazodiphenylamin-Formaldehyd-Kondensat) und einem Teil Glycidylätherpolyepoxid bestand. Der Oberzug auf einer Platte besaß ein Gewicht von etwa 100 mg/929

2
cm (Quadratfuß). Der Oberzug auf der anderen Platte besaß ein

■ 2
Gewicht von etwa 50 mg/929 cm . Nach dem Belichten der Platten (die etwa 3 Monate gealtert worden waren) mit Ultraviolettlicht während 2 Minuten durch ein Negativtransparent wurden die unbelichteten Bereiche der Platten leicht mit den folgenden Entwicklern entfernt und ergaben gewerblich verwertbare lithographische Platten:

a) 30 % Natriumsalz von 2-Capry1-1-(äthyl-ß-oxypropansäure)-

imidazolin

70 % Wasser

b) 50 % Natriumsalz von 2-Capryl-l-(äthyl-ß-oxypropansäure)-

imidazolin

50 % Wasser

Die Entwicklung war schneller mit dem Entwickler b). Einzelheiten über den Versuch sind in Tabelle III aufgeführt.

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Die obige Tabelle III enthält Werte für die Pressenleistung von Platten, die mit den verschiedenen Entwicklern entwickelt wurden. Die Entwickiungsmethpde war eine Aufbringung des Entwicklers von Hand mit Hilfe»eines Aufbringwischers. Die Bildbereiche und die Nichtbildbereiche sind beschrieben. Die verwendete Grauskala ist eine kontinuierliche 21-stufige Grautonskala, die von Stpuffer Graphic Arts Equipment Company (South Bend, Indiana) erhältlich ist. Der Pressenversuch erfolgte, wie in Beispiel 23 beschrieben.

Beispiel 26

Das Verfahren des Beispiels 25 wurde wiederholt, um Platten mit den angegebenen öberzjugsgewichten herzustellen, und diese Platten wurden dann mit Entwicklern entwickelt, wie in Beispiel 25 beschrieben ist, doch besaßen diese Entwickler pH^-Werte, die mit 4 %-iger Phosphorsäure auf 4 eingestellt waren. Die entwickelten Platten wurden gemäß dem Verfahren des Beispiels 25 bewertet, wobei man fand, daß sie ähnlich den entwickelten Platten des Beispiels 25 waren.

Beispiel 27

Die Verfahren des Beispiels 25 wurden wiederholt, doch war der Entwickler wie in Tabelle IV angegeben zusammengesetzt. Die Ergebnisse sind ebenfalls in der Tabelle IV zusammengestellt.

Tabelle IV

Vergleichswert® bei der Plattenentwicklung bei 2-minütiger Belichtung in einem Belichtungsrahmen Nu Arc (Kohlenbogen)

Entwickler+ ,

Zusammensetzung Überzugades Platten- gewicht Überzugs (mg/929 (Gew.-Teile) cm^)

Entwicklungs-Substrat methode

Nichtbild-Bildbereiche bereiche Pressenversuch

20 ampho- 4
teres

Sensibilisator .

50

oberflä- 1 Glydicylchenakti- ätherpo-

ves Mi t-

lyepoxid

10 % Natriumsalz
von Xylol·-
sulfonsäu-

re

70 % Wasser

Durch Bürsten

gekörntes anödisJLer.-; tes' Aluminium, Kaliumzirkonfluoridswi sehenschicht'

Von Hand unter Verwendung einer Standardaufbringein richtung

100

) pH 10,5 bis 11

) Natriumsalz von 2-Capryl~l-(äthyl-S-oxypropanaäur@)-imidazolin Presse, gute Reproduktion

Grauskala - Kein über- 5000 Kopien auf zusammenhän- zug blieb der überpackten gend 3, aus- auf der einandergezo Platte in gen 7, Halb- den unbetonreproduk- lichteten tion (133 Bereichen Linien je 2,5 cm Raster 5 bis 90 %)" ähnlichdem Negativtransparent

Grauskala - " zusammenhängend 2, auseinander ge zo gen 6, HaIbssonreproduktion (133 Linien/2,5 cm Raster 5 bis 90 %) ähnlich dem Negativtransparent

N3

cn co co co

Beispiel 28

Das Verfahren des Beispiels 25 wurde wiederholt, doch enthielt der Entwickler IO % des amphoteren oberflächenaktiven Mittels, 20 % Normalpropylalkohol und 5 % Benzylalkohol und als Rest Wasser. Die entwickelte Platte war brauchbar für die Verwendung in gewerblicher Lithographie.

Beispiel 29

Eineyorsensibilisierte lithographische Platte Encö^N-2 der Azoplate Corporation wurde mit Ultraviolettlicht durch ein Negätivtransparent während 2 Minuten belichtet. Sodann wurde die Platte mit dem Entwickler des Beispiels 28 entwickelt. Die Platte ließ sich leicht entwickeln und ergab eine gewerblich verwertbare lithographische Platte.

Beispiel 30

Das Verfahren des Beispiels 29 wurde wiederholt, doch wurde anstelle der Enco-Platte eine vorsenslbillslerte lithographische Platte "R" der 3 M Company verwendet. Die Ergebnisse waren ähnlich.

Beispiel 31

Ein Parbprüfsatz, der gemäß der technischen Lehre der britischen Patentschrift 1 191 659 hergestellt worden war und aus gelb, cyan ,magenta und schwarz vorsensibilierten Transparenten auf Polyesterbasis bestand, wurde belichtet und zwar jedes Transparent mit seinem entsprechenden Parbetrennegativ. Jedes belichtete Transparent wurde seinerseits mit dem Entwickler gemäß Beispiel 28 entwickelt. Nach dem Trocknen und bei geeigneter Registrierung

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2353932

ergab der Satz der belichtetem und entwickelten Transparente eine sehr gute Annäherung oder Prüfung des fertigen Vierfabdruckes * .

Beispiel 32

Eine positiv wirkende vorsensibilisierte lithographische Platte PA 200 der Äzoplate Corporatioii wurde mit öltraviolettlicht durch ein positives photog-raphisches Transparent belichtet* Die belichtete Platte wurde mit dem Entwickler des Beispiels' 28

entwickelt« . . ■

Beispiel 33

Sie Verfahren des Beispiels 28 wurden wiederholt_r doch wurde eine Platte Lydel (Handelsname) der Firma düPont belichtet und entwickelt* Die entwickelte Fla-tte erwies sich als; geeignet für gewerbliche Verwendungin der Lithographie,

B^eis-piel 34

Die ers^te Platte in der f ©If en-deii Tabelle V w/urde f ©Igenderma-! ß,en hergestellt5

Oberfläche ei?i?r Alumi;^iup^latte wurde durch Biiraten atf anpdisiert uäd cjbieniisch r»it Ka:liüpzirkonfluoriel delt_r unt ein;en tlberzug zu bildenr der in der fertigen Platte als; §w4scjhenschiGht fungiert,. IJIe behandeiite Plattenpbeff ISctie wurde dann mit einem: lic|itejEnpf j|ndlic?hen, iiberzug; versiehepjf der vier feile Sensibilisator f|^|^iönspro:d5ttfct ^on. %-l

^S^SfUlfo^tsiSure undi γ und= eitt

umfaßte.. Der Überzug auf der Platte besaß ein Gewicht von etwa 50 mg/929 cm (Quadratfuß). Nach dem Belichten der Platte (die etwa 3 Monate gealtert worden war) mit ültraviolettlicht während 2 Minuten durch ein Negativtransparent wurden die unbelichteten Bereiche der Platte leicht mit dem angegebenen Entwickler entfernt, wobei man gewerblich verwertbare lithographische Platten erhielt.

409820/10-5$

Tabelle V
Amphoterer Univearsalentwickler

Entwicklerzusammensetzung; . · ■

a) 10 % Natriumsalz von 2-Capryl-.l-(äthyl-ß-oxypropansäure) -imidazolin

b) 5 % Lithiumbenzoat

c). 20 % Normalpropylalkohol

d) 40 % Benzylalkohol

e)' 25 % Wasser ■■ . . , . ■ ' '' ■ ,' ■ · '

Belichtung 2 Minuten mit Nu Arc

Platte

Be- Punktzeich- Alte- Trans- Linien- quali- Graunung rung parent raster tat skala

	4 Sensi	S	3 Mon.	Negativ	133	gut	zusam	4	8	9	gut
					5-90 %		menhän	ausein-	9	10
O	bilisator	K					gend	.ander	7	10
co	1 Glyci-						gezogen 7	8	12
KJU PO	dylMther	T					züs.	9
O,	polyep-						aus.	11
_» O	okid	N-25	7	Negativ	133	gut	zus.	9	gut
(Xl	3M				5-90 %		aus.	11
σ>		N-50	: ·.?	Il	π	' Il	ZUS .	10	11
	3M						aus.	4
		' N-IOO	?	η	ή	«»	zus.	9	It
	3M						aus.	5
		PA-200	?	ti	I!	η	zus.	6	ti
	Eneo						aus.	9
		PA-400	7	ti , .	η	η	zus.	Ii.
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	duPont

Punkterhaltung Hintergrund Presse

rein

5000·Kopien gute
Reproduktion

rein

U) CD CD

Die obige Tabelle V zeigt die Werte bezüglich der Pressenleistung von Platten, die mit dem betreffenden Entwickler entwikkelt wurden. Die Entwickelmethode war eine Aufbringung des Entwicklers von Hand mit einem Aufbringwischer. Die Bildflächen und die Nichtbildflächen sind beschrieben. Die verwendete Grauskala ist eine kontinuierlich 21-stufige Grautonskala, die von der Stouffer Graphic Arts Equipment Company (South Bend, Indiana) erhältlich ist. Der Pressenversuch erfolgte/ wie in Beispiel 23 beschrieben ist.

Beispiel 35

Die folgende Tabelle VI gibt die Werte bezüglich der Pressenleistung von Platten, die mit einem anderen Entwickler entwikkelt wurden, wieder.

409820/10-5

Tabelle VI

Amphoteres oberflächenaktives Mittel und, Lithiumbenzoat

Entwicklerzusammensetzung:

a) 20 % Natriumsalz von 2-Gapryl^wl^(äthyl^ß^oxypropansä,ure)'-^;iinidazolin

b) 5," % Lithiumbenzoat

q) 75 % Wasser .

CD CO	Platte	Alterung
OO
	Gleich	3 Monate
	wie die
*>> ■	erste
""■*	in Ta
cn	belle V
o>

2-minütiges Belichten mit Nu Arc
(Kohlenbpgen)

Linien- Entwicklungs- Grau-Transparent raster gualltät skala

Negativ

133
5-90 %

gut

zusammenhan gend 4 ausein ander-Punkterhaltung

gut

Hinter
grund

gut

Presse

5000
gut

cn co CO CO

Claims (26)

1. Patentansprüche

   1/. Verfahren zur Entwicklung eines belichteten Diazo-sensibilisierten lichtempfindlichen Überzugs auf einem Substrat unter Entfernung der Nichtbildflächen hiervon, dadurch gekennzeichnet, daß man die belichtete Oberfläche der Platte mit einer wäßrigen Lösung eines wasserlöslichen Lithiumsalzes einer organischen Verbindung mit 1 bis etwa 36 Kohlenstoffatomen und wenigstens einem sauren Wasserstoffatom und/oder mit einem amphoteren oberflächenaktiven Mittel behandelt und die Lösung mit dem Sensibilisator von den Michtbildflachen der Platte entfernt.
2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Lösung verwendet, in der das lithiumorganische Salz 2 bis etwa 36, vorzugsweise 4 bis etwa 36, besonders etwa 7 bis 18 Kohlenstoff atome enthält.
3. 3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Lösung verwendet, in der das lithiumorganische Salz Lithlumformiat, Lithiumchloracetat, Lithiumdichloracetat, Lithiumtrichloracetat, Lithiumbenζoat, Lithiumnaphthenat, Lithiumdodecanoat, Lithiumricinoleat, Lithiumlaurylsulfonat, Lithiumacetylsalicylat, Lithiumlaurylsulf at,, Lithiumphenolat, Lithium-1-phenanthrolat, Lithium-o-nitrophenolat, Lithiumcatecholat_f Lithium-2,4,6-trinitrobenzoat, Lithiumphenolsulfonat, Lithiumpi-

   . crat, Lithiumtoluolsulfonat, Lithiumxyiolsulfonat, Lithiumresorcinatst Lithiumxylenolate, Lithiumcaprylate, die Mono- undDilithiumsalze von Zitronensäure, Maleinsäure oder Apfelsäure, Li-

   A09820/1056

   thiumstearat, Lithiumoleat, Lithium-p-hitrotoluol-ortho-sulfonate, Lithiumtoluolsulfonat, Lithium-1-butansulfonat, Lithiumbenzolsulfonat, Lithiumdodecylbenzolsulfonat, Lithium-2,5-dichlorbenzolsulfonat oder Lithium-2^-dinitro-l-napthol-V-sülfonat ist.
4. 4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß

   man eine Lösung verwendet, die etwa 1 bis 25 Gewichts-%, vorzugsweise etwa 5 bis 25 Gewichts-% des lithiumorganischen Salzes, bezogen auf die Wassermenge der Lösung?enthält=
5. 5. Verfahren nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Lösung verwendet, in der das amphotere oberflächenaktive Mittel 2-Alkyl-l-(äthyl-ß-oxypropansäure)-imidazolin ist, worin die Alkylgruppe etwa 6 bis 20, vorzugsweise etwa 6 bis 18, besonders etwa 7 bis 18 Kohlenstoffatome enthält.
6. 6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet,.daß man eine Lösung verwendet, in der das amphotere oberflächenaktive Mittel das Natriumsalz von 2-Capryl-l-(äthyl-ß-oxypropansäure)-imidazolin oder das innere Salz von 2-Kokosnuß-l-(äthyl-ß-oxypropan-

   säure)-imidazolin ist.
7. 7. Verfahren nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß man eine konzentrierte Entwicklerlösung verwendet, die bis zu etwa 5O Gewichts-% des amphoteren oberflächenaktiven Mittels, bezogen auf die Wassermenge darin, enthält.
8. 8. Verfahren nach "Anspruch 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Lösung_sverwendet, die etwa 1 bis 30, vorzugsweise etwa 5 bis 25 Gewichts-% des amphoteren oberflächenaktiven Mittels, bezogen auf die Wassermenge der Lösung enthält„

   409 82Ό/Ί0 56 , .
9. 9. Verfahren nach Anspruch 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Lösung verwendet, die bis zu etwa 30 Gewichts-%, vorzugsweise bis zu etwa 25 Gewichts-%, besonders bis zu etwa 10 Gewichts-% eines mit Wasser mischbaren Lösungsmittels für den lichtempfindlichen überzug, bis zu etwa 10 Gewichts-% eines oberflächenaktiven Mittels oder bis zu etwa 5 Gewichts-% Phosphorsäure oder Oxalsäure enthält.
10. 10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Lösung verwendet, die Benzylalkohol, Normalpropylalkohol, Isopropanol, Cyclohexanon, Dimethylformamid, Dimethylsulfoxid, Dioxan und/oder Methylcellosolve enthält.
11. 11. Verfahren nach Anspruch 1 bis IO, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Lösung verwendet, die bis zu etwa IO Gewichts-% eines anionischen oberflächenaktiven Mittels enthält.
12. 12. Verfahren nach Anspruch 1 bis 11? dadurch gekennzeichnet, daß man eine Lösung verwendet, die bis zu etwa 5 Gewichts-% eines nichtionischen, anionischen oder kationischen oberflächenaktiven Mittels enthält.
13. 13. Verfahren nach Anspruch 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß man einen lichtempfindlichen überzug behandelt, der ein Reaktions-

    • produkt eines Diazo-aromatischen Polymers und einer hydroxylhaltigen Verbindung oder einer sulfonsäurehaltigen Verbindung ist.
14. 14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß man einen überzug behandelt, in dem das Diazo-aromatische Polymer aus para-Diazodiphenylamin und reaktiven carbonylhaltigen Verbindungen erhalten worden ist.

    409820/1056 .

    2353892
15. 15. Verfahren nach Anspruch-.-JL bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß man eine lithographische Platte oder ein Probedrycksystern feehandelt, die, negativ wirkend sind und deren lichtempfindlicher überzug im wesentlichen wasserunlöslich und lösungsmittelunlöslich ist oder die positiv wirkend sind, wobei man im letzteren Falle eine, wäßrige Lösung mit einem pH-Wert von wenigstens etwa 12
16. 16, Entwickler zur purehftihrung des Verfahrens nach Anspruch 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß er aus einer wäßrigen Losung eines wasserlösliehen Xithiumorganischen Salzes einer organischen Verbindung mit. 1 bis etwa 36 Kohlenstoffatomen und mit nigstens einem sauren Wasserstoffatom und/oder eines amphoteren oberflächenaktiven Mittels besteht. ,
17. 17,. Entwicklier nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß das li thiumorganische Salz 2 bis 36, vorzugsweise 4 bis 36, besonders 7 bis l§ Kohlenstoffatome enthält. ,
18. 18. Entwickler nach Anspriich 16 und 17, dadurch gekennzeichnet, daß er als lithiumorganisches Salz Lithiumformiat* i tat, Iiithiumdichloracetat, Lithiumtrichloracetat, at, Lithiumnaphthenate, Iiithiumdodecanoat, Lithiumrdcinoleat, Iiithiumlaurylsulfonat, Lithiumaeetylsaiicylat, Iiithiumlaurylsulf at, Lithiumphenolat, %±thium-1 -"-phenanthrolat, hithium-onitrQphenolat, Dilithiumeateqholatr Iiithium-2,4,6-trinitrobenzoat ,· Lithiumphenolsulfonat, 'Lithiumpicrati Iiithiumtpl.uQls.ulfonat, Lithiuiracylplsulfonat, Lithiumresorcinate, Lithiumxylenolate, Lithiuracaprylate, die Wono«und Dilithiumsalze von ZÜtronensäure, Maleinsäure oder Apfelsäure, Lithiumstearat, Lithiumoleat,

    4Q982!0/1 OSS

    Lithium-p-nitrQtoluQl-Qrtho-sulfonate, Lithiumtoluolsulfonat, Lithium-1-butansulfonat, Lithiumbenzolsulfonat, Lithiumdodecylbenzolsulfonat, Iiithium-Z^-dichlorbenzolsulfonat oder Lithium-2,,4-dinitro-l-naphthol-7-sulfonat oder ein Lithiumsalz von sulfonlertem Castoröl enthält.
19. 19. Entwickler nach Anspruch 16 bis 18, dadurch gekennzeichnet« daß er etwa 1 bis 25, vorzugsweise etwa 5 bis 25 Gewichts-% des Iithiumorganischen Salzes, bezogen auf die enthaltene Wassermenge, enthält.
20. 20. Entwickler nach Anspruch 16 bis 19, dadurch gekennzeichnet, daß er als amphoteres oberflächenaktives Mittel ein 2-Alkyl-l- · (äthyl-ß-oxypropansäure)-iniidazolin enthält, dessen Alky!gruppe 6 bis 20, vorzugsweise 6 bis 18, insbesondere 7 bis 18 Kohlenstoffatome umfaßt.
21. 21. Entwickler nach Anspruch 2O, dadurch gekennzeichnet, daß er als amphoteres oberflächenaktives Mittel das Natriumsalz von 2-Capryl-1-(äthyl-ß-oxypropansäure)-imidazolin oder das innere Salz von 2-Kokosnuß-l-(äthyl-ß-oxypropansäure)-imidazolin enthält.
22. 22. Entwickler nach Anspruch 16 bis 21, dadurch gekennzeichnet, daß er bis zu etwa 50, vorzugsweise etwa 1 bis 3O_r insbesondere etwa 5 bis 25 Gewichts-% des amphoteren oberflächenaktiven Mittels, bezogen auf die enthaltene Wassermenge enthält.
23. 23. Entwickler nach Anspruch 16 bis 22, dadurch gekennzeichnet, daß er bis zu etwa 30 Gewichts-% eines mit Waser mischbaren Lösungs-

    mittels für den lichtempfindlichen überzug, bis zu etwa 10 Gewicht8-% eines nichtionischen, anionischen oder kationischen

    4 0 9 8 20/1056

    oberflächenaktiven Mittels oder bis zu etwa 5 Gewichts-% Phosphorsäure oder Öxalsure enthält.
24. 24. Entwickler nach Anspruch 16 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß er bis zu etwa 25 Gewichts-%, vorzugsweise bis zu etwa 10 Gewichts-% eines Lösungsmittels für den lichtempfindlichen Oberzug enthält.
25. 25. Entwickler nach Anspruch 23 und 24, dadurch gekennzeichnet, daß er Benzylalkohol, Normalpropylalkohol, Isopropanol, Cyclohexanon, Dimethylformamid, Dimethylsulfoxid, Dioxan und/oder Methylcellosolve enthält.
26. 26. Entwickler nach Anspruch 16 bis 25, dadurch gekennzeichnet, daß er bis zu etwa 5 Gewichts-% eines nichtionischen, anionischen oder kationischen oberflächenaktiven Mittels enthält.

    0/1056-;