DE2353992C2

DE2353992C2 - Wäßriger Eintwickler für Flachdruckplatten und dessen Verwendung

Info

Publication number: DE2353992C2
Application number: DE19732353992
Authority: DE
Inventors: Eugene Monsey N.Y. Golda; Leon Dr. Stamford Conn. Katz; William Westfield N.J. Rowe
Original assignee: Polychrome Corp
Current assignee: Polychrome Corp
Priority date: 1972-11-02
Filing date: 1973-10-27
Publication date: 1982-12-02
Also published as: FR2205684A1; NL173564B; JPS5034442B2; AU6203273A; JPS4994402A; FR2205684B1; DE2353992A1; AU462966B2; NL173564C; IT997722B; NL7315060A

Description

35

Die Erfindung betrifft wäßrige Entwickler für Flachdruckplatten, die In ihrer lichtempfindlichen Schicht als Sensibilisator eine Dlazoverblndung enthalten.

Die DE-AS 11 93 366 beschreibt wäßrige Entwickler, die eine alkalische Verbindung und eine Verbindung von to Beryllium, Quecksilber, Calcium, Strontium, Barium, Wismut oder Lanthan enthalten. Aus der DE-OS 24 672 sind wäßrige Entwickler bekannt, die eine freie Sulfonsäure oder ein Natriumsalz einer Sulfonsäurc enthalten. *">

Freie Sulfonsäure enthaltende Entwickler sind relativ stark korrodierend und neigen dazu, das Lager der Entwicklungsapparatur, Leitungen und andere Metallteile zu zerstören. Außerdem zersetzen sich Sulfonsäuren und fällen dabei Benetzungsmittel aus, die häufig In Entwlck- w lern enthalten sind, was zu unerwünschter Schaumbildung führt. Natriumsalze von Sulfonsäuren ergeben einen schmutzigen Hintergrund auf der Platte, und außerdem ergeben Sulfonsäuren und deren Natriumsalze eine unerwünschte Verschärfung der Halbtonpunkte.

Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe bestand nun darin, verbesserte wäßrige Entwickler für Flachdruckplatten mit einer Dlazoverblndung t.i Ihrer lichtempfindlichen Schicht zu bekommen, die weniger korrodierend wirken und nicht die genannten unerwünschten Wirkungen von Sulfonsäuren und deren Nätrlumsalzen haben.

Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß der Entwickler In Lösung ein wasserlösliches Llthlumsalz einer organischen Verbindung mit 1 bis 36 Koh- lenstoffatomen enthält.

Die Entwickler nach der Erfindung können auch Benetzungsmittel und andere Komponenten enthalten.

um die Zeit, die für die Entwicklung der Flachdruckplatte erforderlich 1st, herabzusetzen oder um andere Eigenschaften der Entwickler zu modifizieren.

Mit den erfindungsgemäßen Entwicklern können Flachdruckplatten mit negativ wirkenden oder positiv wirkenden Diazoniumverbindungen entwickelt werden. Die üblichsten negativ wirkenden Diazoverbindungen sind Paradlazodlphenylamin und Derivate desselben, besonders selche, die mit organischen Carbonylverblndungen umgesetzt wurden, wie beispielsweise mit Aldehyden und Acetalen, besonders mit Formaldehyd und Paraformaldehyd. (Siehe z.B. die US-PS 29 22 715 und 29 46 683.)

Beispiele positiv wirkender Diazoverbindungen sind in der US-PS 35 44 317 beschrieben.

Beispiele wasserlöslicher Lithiumsalze, die In den Entwicklern nach der Erfindung verwendet werden können, sind die Lithiumsalze organischer Vermeidungen mit Carbonsäuregruppen, Sulfonsäuregruppen, Schwefelsäuregruppen oder phenolischen Hydroxylgruppen. Speziellere Beispiele der Lithiumsalze sind jene, die durch die folgenden allgemeinen Formeln wiedergegeben werden können:

Il

I. M(CHj),,(CH=CHyCHSq,Ll)_fC — O — Li II. M(CHj)₀(CH=CH)₄(CH₃SOjLlVC-O-SO₃-Li

III. Dlmere von Verbindungen der Formel I oder II oder der Formel I und II, die über eine Diels-Alder-Reaktion hergestellt werden können.

Die Lithiumsalze besitzen idealisierte Formeln, wie folgende:

Il

M(CHz)₅-CH — CH —CH = CH(CHj)₇COLi

I I

M(CHA-CH CH-(CHi)₇COLi

C =CH

In den Formeln I, II und III bedeutet M: —H, -OH, -COOH, O

' Il

-COLi

-C—O—SOj—Ll oder CH₃; a: eine ganze Zahl von O bis 17; b: eine ganze Zahl von O bis 3; c: eine ganze Zahl von O bis 3; die Summe von b und c: eine ganze Zahl von O bis 3; und die Summe von a, b unc c kann maximal 17 sein, wenn M H oder OH bedeutet, und maximal 16 sein, wenn M eine der anderen Gruppen Ist.

° .„ OLi

iv. Il Vi

/\ Il

( V-C-OLi
I J—C-OLi

\/ Il

C-OLi

VII.

SO₃Li y

OLi

χ υ

In den Formeln IV bis X kann X oder Y oder Z unabhängig von den anderen —H, —OLi, —SO₃Ll oder O

Il

— C-OLi

—OH, -NO₂, -Ci, —Br, -COOH odsr -(CH₂^CH₃ sein, worin rf eine ganze Zahl von O bis 17 Ist, wobei aber die Gesamtzahl der Kohlenstoffatome dieser Verbindungen die Zahl 36 nicht Oberschreitet.

Außer den In den obigen Formeln angegebenen funktlonellen Gruppen können die Llthlumsalze in Ihren organischen Resten auch andere funktionell Gruppen enthalten, die Ihre Leistung In den Entwicklern nach der Erfindung nicht nachteilig beeinflussen, wie beispielsweise Hydroxylgruppen, Methoxygruppen, Äthoxygruppen, Nitrogruppen ode Kalogenatome.

Beispiele spezieller wasserlöslicher Llthlumsalze, die In den neuen Entwicklern nach der Erfindung verwendet werden können, sind Llthlumformlai, Llthlumchloracetat, Lllhlumdlchloracetat, Llthlumtrichlo.acetat, Llthlumbenzoat, Llthlumnaphthenate, Llthlumdodecanoat, Llthlumrlclnoleat, Llthlumlaurylsulfonat, Llthlumacetylsallcylat, Llthiumlaurylsulfat, Llthlumphenolat, Llthlum-1-phenanthrolat, Llthlum-O-nltrophenolat, Dlllthlumcatecholat, LlthlumJ^.o-trinltrobenzoat, Llthlumphenolsulfonat, Llthlumplcrat, Llthlumtoluolsulfonat, Llthlumxylolsulfonat, Llthlumrescorclnate, Llthiumxylolenolate, Lithlumcaprylate, die Mono- und Dlllthlumsalze von Dicarbonsäuren, wie Zitronensäure, Maleinsäure und Apfelsäure, Llthlumstearat, Llthlumoleat, Llthlum-p-nltrotoluolorthosulfonate, Llthlumtoluolsulfonat, Llthlum-1-butansulfonat, Lithlumbenzolsulfonat, Llthlumdodecylbenzolsulfonat, Llthlum^^-dlchlorbenzolsulfonat, Llthlum-2,4-dlnltro-l-naphthol-7-sulfonat oder Llthlumsalz von sulfonlertem Rizinusöl.

Vorzugswelse enthalten die organischen Verbindungen 2 bis 36, besonders 4 bis 36 und am meisten bevorzugt 7 bis 18 Kohlenstoffatome. Die am meisten bevorzugten Llthlumsalze sind Llthlumbenzoat, Llthlumphenolsulfonat, Llthlumlaurylsulfat und Llthlumdodecanoat. Zweckmäßig enthalten die Entwickler nach der Erfindung zusätzlich ein amphoteres oberflächenaktives Mittel. Amphoter«; oberflächenaktive Mittel werden so bezeichnet, da sie sowohl anionische als auch kanonische Gruppen enthalten. Sie benehmen sich wie kationische oberflächenaktive Mittel In sauren Medien und wie anlonlsche oberflächenaktive Mittel In alkalischen Lösungen.

Eine charakteristische Eigenschaft amphoterer oberflächenaktiver Mittel Ist die Tatsache, daß sie einen Isoelektrischen Punkt besitzen, bei dem das Produkt Innerlich neutralisiert Ist und ein Zwitterion bildet. An diesem Punkt besitzen amphotere Stoffe häufig eine minimale Löslichkeit, Schaum-, Benetzungs- und Oberflächenspannungsvermlnderung. In neutralen oder leicht alkalischen Lösungen besitzen sie starke Schäumungs- und. Reinigungsmitteleigenschaften anlonlscher oberflächenaktiver Stoffe, während sie Substantlvität gegenüber Fasern, Metallen und dergleichen haben, die gewöhnlich mit kationischen Mitteln verbunden Ist.

Der kationische Charakter von ampholeren Stoffen Ist auf basischen Stickstoff zurückzuführen, der als prlmä rer, sekundärer, tertiärer oder quaternärer Stickstoff vor liegen kann. Der anionische Teil kann sich von einem Carboxyl-, Sulfat-, Sulfonat- oder Phosphatrest herleiten. Die amphoteren oberflächenaktiven Mittel sollten eine Alkylgruppe mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen enthalten.

is Be'splele der amphoteren oberflächenaktiven Mittel, die In den Entwicklern nach der Erfindung verwendet werden können, sind jene, die auf substituierten ImIdazollnen basieren. Diese können durch Umsetzung langkettlger Imidazoline mit halogenlerten oder organischen Zwischenprodukten mit Carboxyl-, Phosphorsäure- oder Sulfonsäuregruppen hergestellt werden. Bevorzugte oberflächenaktive Mitte! auf Irnidazoünbasis, die verwendet werden können, sind beispielsweise folgende:

R-C=N-CH₂

\ I

N-CH₂ C₂H₄SO₃H

,N-CH₂

R-C

\n-

CH₂

und Ihre Natriumsalze, worin R die nachfolgende Bedeutung hat.

Eine andere Klasse amphoterer oberflächenaktiver Stoffe, die verwendet werden können, sind ß-Alanlnderlvate der folgenden Formeln RNHCh₂CH₂COOX und RN(CH₂Ch₂COOX)₂. In diesen Formeln bedeutet R eine aliphatisch^ Kohlenwasserstoffkette mit etwa 6 bis 20 Kohlenstoffatomen, wie einen Octyl-, Nonyl-, Decyl-, Undecyl-, Dodecyl-. Trldecyl-, Tetradecyl-, Pentadecyl-, Hexadecyl-, Heptadecyl- oder Octadecylrest, X bedeutet ein Wasserstoffatom oder ein Kation, wie ein Alkallkation, z. B. Natrium, Kalium, Lithium, ein Ammoniumkation oder ein organisches Amlnkation, wie das Kation von Diäthanolamin, Trläthylamln, Triäthanolamln, Morpholln oder Piperidin. Diese Verbindungen werden durch Umsetzung eines primären Amins mit etwa 6 bis 20 Kohlenstoffatomen mit Chlorproplonsäure oder Brompropionsäure In Gegenwart von Alkall, wie Natriumhydroxid oder Kaliumcarbonat, hergestellt. Sie können auch gemäß der In der US-PS 24 68 012 beschrle benen Methode hergestellt werden.

Die aus Kokosnuß, Sojabohnen oder Talg erhaltenen Amingemische können dabei mit Erfolg verwendet werden. Andere brauchbare amphotere Verbindungen sind bel spielsweise folgende:

C_nH_nNH · CK₂CH₂COONa Natrlum-N-dodecyl-ß-amlnoproplonat

C₁₀H₂₁NH CH₂CH₂COOH
N-Decyl-ß-amlnoproplonsäure

C₁₄H₂₄NH · CH₂CH₂COOK
Kallum-N-tetradecyl-ß-arnlnopropiüP.a!

C₁₆H₃₃NH · CH₂CH₂COONa

Natrium-N-hexadecyl-ß-anilnopropionat

C₁₈H₃₇NH - CH₂CH₂COONa
Natrlum-N-octadecyl-ß-amlnoproplonat

C,,H,₅N ■ CH₂CH₂COONa

CH₂CH₂COOH

Mononatriumsalz von N-Dodecyl-ß-amlnodlproplonpt

CH₂CH₂COONa
C₁₈H₃₇N

CH₂CH₂COONa
Dinalrium-N-octadecy.'.-ß-aminodlpropIonat

Eine weitere Klasse brauchbarer arr:photerer oberflächenaktiver Stoffe umfaßt die Betainderlvate der allgemeinen Formel

R₁ N-CH₂-COO

CH₃ CH₃

worin R₁ einen aliphatischen Kohlenwasserstoffrest mit etwa 6 bis 20 Kohlenstoffatomen bedeutet. Diese Betainverbindungen gewinnt man durch Umsetzung eines tertiären Höheralkylamlns, wie Dodecyldlmethylamln, Tetradecyldimethylamln oder Hexadecyldiäthylamin, mit Chloressigsäure oder durch Kondensation des tertiären Amins mit einem halogenierten Carbonsäureester und Verseifung des Esters gemäß der US-PS 20 82 275.

Die amphoteren oberflächenaktiven Mittel können entweder JIeIn oder In Verbindung mit anderen oberflächenaktiven Mitteln oder Benetzungsmitteln verwendet werden, wie mit den Taurlnen, Saponln oder Polyoxyäthylenderivaten langkettlger Fettsäuren und Alkohole.

Die Wirtschaftlichkeit und die Löslichkeit des Llthlumsalzes Im wäßrigen Entwickler bilden eine praktische Obergtenze für die Konzentration des Lithiumsalzes, während die Entwicklungszelt hautpsächllch die Untergrenze bestimmt. Beispielswelse bei Konzentrationen von etwa 1% liegt die Entwicklungszelt in der Größenordnung von etwa 5 oti^r mehr Minuten, was vom Standpunkt eines beschäftigten Lithographen übermäßig lang ist Im Vergleich mit den etwa 1,5 bis 2 Minuten, die erwünscht sind. Dieser erwünschte Bereich der Entwicklungszelt kann mit den vorliegenden Entwicklersystemen bei Lösungskonzentrationen von etwa 5 bis 25 Gew.-% llthlumorganlscher Verbindung In der Lösung erhalten werden. Der bevorzugte Konzentrationsbereich liegt bei etwa 10 bis 20%, was eine gute Entwicklungszelt In der Größenordnung von etwa 1 Minute und außerdem ausreichend Wasser für die Auflösung und Entfernung des unbelichteten Überzugs ohne das Erfordernis übermäßigen SpUlens ergibt.

Die gleichen Überlegungen gelten für die Konzentrationen des amphoteren oberflächenaktiven Mittels. Beispielswelse bei Konzentrationen von etwa 1% lieg! die Entwicklungszelt In der Größenordnung von etwa 5 cder mehr Minuten, was. <om Standpunkt eines beschäftigten Lithegrsprum ^u lang Ist. Der erwünschte Bereich der Entwicklungszeit "on .1,5 bis 5 Minuten kann Lei Lflsungskonzefltratiivi vur. otw 5 bis jj Gew.-* des amphoteren oberflächenaktiven Mütels iw uer L".sung ■i erhalten werden. Der bevorzugte Konzentrationsbereich liegt bei etwa 10 bis 20*, was Entwicklungszelten In der Größenordnung von etwa 1 Minute ergibt ur/i auch ausreichend Wasser zur Auflösung und Entfernung des unbelichteten Überzugs ohne Erfordernis übermäßigen Spülens liefert.

Der Entwickler nach der Erfindung kann 'n einer Konzentration bereitet werden, die direkt zur Entwicklung von Flachdruckplatten geeignet ist, oder er kann als ein Konzentrat bereitet werden, das vorteilhaft für den Transport und die Lagerung Ist. Vor der Verwendung wird das Konzentrat mit Wasser auf die erwünschte Arbeltskonzentration verdünnt. Das Konzentrat kann bis zu etwa dreimal so konzentriert wie die Arbeitslösung sein. In dem Konzentrat können die amphoteren oberflächenaktlven Mittel und die Lithiumsalze jeder für sich In einer Menge von etwa 15 bis 50°< vorliegen.

Es kann erwünscht sein. In die Entwicklerlösungen auch noch andere Bestandteile einzuarbeiten, um die Entwicklung zu erleichtern. Solche Bestandteile sind belspielsweise Lösungsmittel, Benetzungsmittel, oberflächenaktive Stoffe oder Metallrelniger. Beispielsweise, doch nicht notwendigerweise, unterstützen bis zu etwa 30 Gew.-96 eines mit dem Wasser mischbaren Lösungsmittels die Entfernung der Nichtbildbereiche und ir.sbesondere unterstützen sie die Auflösung von organischem Harz, das entweder mit der Dlazoverblndung in dem Überzug auf der Platte vermischt Ist oder als Überzug über der Dlazoverbindung vorliegt. Vorzugswelse werden bis zu 25%, besonders bevorzugt bis zu 20% und am meisten bevorzugt etwa 5 bis 15% Lösungsmittel verwendet, wie Cyclohexanon, Benzylalkohol, Dimethylformamid, Dimethylsulfoxld, Normalpropylalkohol, Isopropanol, Dloxan und Methylglykol. Oberflächenaktive Mittel oder Benetzungsmittel, um den Kontakt zwischen dem wäßrlgen Entwickler und dem lichtempfindlichen Überzug zu fördern, können In Mengen bis zu 5 oder 10 Gew.-% verwendet werden.

Die Benetzungsmittel, die In den neuen Entwicklern nach der Erfindung verwendet werden können, können nicht-Ionische, anlonlsche oder kaiionische Verbindung sein.

Beispiele der Netzmittel, die verwendet werden können, sind folgende:

Anlonlsche Netzmittel

Ammonium- und Alkallsaize langkettiger Alkoholsulfate, wie beispielsweise Natrlumlaurylsulfat, Natrlumoctylsulfat, Ammonlumlaurylsulfat, Natrlum-N-methyloUaural, Dloctylnatrlumsulfosucclnat, Natrlumdodecylbenzolsulfat, Natrlum-dl-(2-äthylhexyl)-phosphat, Natrlumalkylsulfatp.. Alkylalkylolamlnsulfpie und Natrlumlauryläthersulfat.

Nlcht-Ionlsche Netzmittel

Flüssiger Fjlyainylenglykolather eines linearen Alkohols mit einem HLB*) von 8,0, flüssiger Nonylphenylpolyäthylenglykoläther mit einem HLB·) von 13,6, pastei.."örmlger Nonylph^nylpolyätrulenglykoläther mit einem HLB*> von 15,^r, Dläthanolamln-Laurlnsäurekondensat, G., -^,nmonostearat oder Polyorväthylenglykolmonostejrat

*) hydrophil·Iipophll-Cileichgewichi

Kationische Netzmittel

Quaternare Ammoniumderivate oder äthanollerter Alkylguanldlnamlnkomplex.

Die am meisten bevorzugten Netzmittel sind die anlonlschen, sodann folgen die nlcht-lonlschen und schließlich die kationischen. Von den anlonlschen Netzmitteln sind die Alkylalkylolamlnsulfate und Natrlumlauryläthersulfate bevorzugt. Von den nlcht-lonlschen sind die ersten drei der oben aufgeführten bevorzugt.

Es Ist bevorzugt, daß die Netzmittel, besonders die nlcht-lonlschen, ein hydrophll-llpophll-Glelchgewlcht (HLB) von wenigstens 8 besitzen.

Die Entwickler nach der Erfindung können auch die aromatischen oder aliphatischen Verbindungen mit einer Sulfonsäuregruppe (—SO,—) enthalten, die In den Entwicklern gemäß der US-PS 36 69 660 verwendet werden.

Beispiele solcher Verbindungen sind Benzolsulfonsäure, Toluolsulfonsäure, Naphthallnsulfonsäure, 2,5-nimethylhRr>7nkiilfnn.säure. Benzol natrlumsulfonat.

Naphthalln-2-sulfonsäure. l-Naphthol-2- (oder -4-)-sulfonsäure, 2,4-Dlnltro-l-naphlhol-7-sulfonsäure, 2-Hydrnxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure, m-(p'-Anlllnlphen >lazo)-benzolnatrlumsulfonat, Allzarln-

natrlumsulfonat, o-Toluldln-m-sulfonsäure und Äthansulfonsäure.

Bestimmte Rezepturen der Entwickler nach der Erfindung zeigen deutlich synergistische Effekte. Beispielsweise schwächt das amphotere oberflächenaktive MIttel die Wirkung von Lösungsmitteln ab. Ein Entwickler mit einem Gehalt von 5% eines amphoteren oberflächenaktiven Mittels und 23% Lösungsmittel Ist wirksam zur Entfernung von Nlchlblldberelchen aus der lichtempfindlichen Schicht, beeinträchtigt aber die Blldberelche nicht. Wenn jedoch der Prozentsatz an amphoterem oberflächenaktivem Mittel in der Rezeptur halbiert wird, greift der Entwickler den Blldberelch des Überzuges an. Das amphotere ob rtlächenaktlve Mittel beschleunigt die Wirkung anderer Komponenten von Entwicklerrezepturen, wie beispielsweise von Sulfonsäuren und von deren oben erwähnten Natrium- oder Lithiumsalzen.

Bis zu etwa 5 Gew.-% Phosphorsäure oder Oxalsäure können ebenfalls in dem Entwickler verwendet werden, um das Aluminiumsubstrat zu reinigen, nachdem der desensibllisierte Überzug entfernt wurde.

Die pH-Werte der Entwickler nach der Erfindung liegen Im allgemeinen Im Bereich von etwa 5 bis 10, und sogar bis 12 oder noch höher. Dieser weite pH-Bereich ergibt eine große Breite für die Entwicklungsrezepturen ohne nachteilige Wirkung auf die Aktivität oder Wirksamkeit des Entwicklers. Es Ist überraschend, daß die Entwickler nach der Frflndung mit einem pH-Wert von etwa 11 oder 12 erfolgreich für eine zuverlässige Entwicklung sind, da sonst Diazoverbindungen unter alkalischen Bedingungen bekanntermaßen kuppeln und unlöslich werden. Zur Entwicklung positiv wirkender Systeme ist es bevorzugt, daß der Entwickler auf der alkalischen Seite liegt, vorzugsweise bei einem pH-Wert von wenigstens etwa 12. Die gleichen Entwickler können für negativ und für positiv arbeitende Systeme verwendet werden, was besonders günstig und zeltsparend ist, wenn eine Entwicklermaschine verwendet wird. Die Verwendung eines einzigen Entwicklers bedeutet, daß es nicht erforderlich Ist, beispielsweise einen Negatlvsystementwlckler abzulassen, die Maschine zu spülen und dann mit einem Positivsystementwickler zu füllen, um die unterschiedlichen Systemarten zu entwickeln. In den folgenden Beispielen sind alle Teile und Prozentsätze Gewichtsteile und Gewichtsprozentsätze.

Beispiel I

Eine Aluminlumplatte wurde durch Bürsten gekrönt, anodlslert und chemisch mit Kaliumzlrkonfluorld behan-• delt. um einen Überzug als Zwischenschicht zu bilden. Die Platte wurde dann mit Hilfe eines Wirbiers mit einem lichtempfindlichen Überzug aus vier Teilen Sensibilisator (Additionsprodukt von 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure und para-Diazodlphenyl-

Mi amln-Formaldehyd-Kondensat) und einem Teil eines Glycldylätherpolyepoxlds versehen, so daß der Überzug ein Gewicht von 1076 mg je m² besaß. Nach dem Belichten der Platte mit Ultraviolettlicht durch ein NcpaiK-transparent wurden die unbelichteten Bereiche leicht mit

ι'> den folgenden Entwicklern entfernt und ergaben eine gewerblich brauchbare Flachdruckplatte:

a) 5% Llthlumbcnzoai
95% Wasser

90% Wasser

Beispiel 2

Das Verfahren des Beispiels I wurde wiederholt, doch :> wurde die Alumlnlumplatte chemlch geätzt an Stelle der Bürstenkörnung. Die Entwicklungsersehnisse waren ähnlich.

Beispiel 3

in Das Verfahren des Beispiels I wurde wiederholt, doch bestand der Überzug aus einem Teil Sensibilisator und zwei Teilen Polyvenylacetalharz an Stelle des Polyepoxlds. Die Eir.wlcklungsergebenlsse waren ähnlich.

Beispiel 4

Die Verfahren tier Beispiele I ·;... i warden wiederholt, um drei unterschiedliche Platten zu bekommen, die dann mit Entwickler entwickelt wurden, der 5% Lithlumbenzoat, 5% Alkyalkylolamlnsulfat und 90% Wasser enthielt. 4Ii Die entwickelten Platten waren geeignet für gewerbliche Verwendung In der Lithographie.

Beispiel 5

Die Verfahren des Beispiels 4 wurden wiederholt, doch

M enthielt der Entwickle- 5% Polyäthyk^glykoläthers eines linearen Alkohols anstelle des Alkylalkylolaminsuifais. Die entwickelten Platten waren geeignet für gewerbliche Verwendung in der Lithographie.

Beispiel 6

Die Verfahren der Beispiele 4 und 5 wurden wlerVrholt, doch war der Sensibilisator das Additionsprodukt von Benzolsulfonsäure statt 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure. Die entwickelten Platten waren geeignet für gewerbliche Verwendung in der Lithographie.

Beispiel 7

Die Verfahren des Beispiels 5 wurden wiederholt, doch wurden 4% eines äthanollerten Alkylguanldinamlnkomplexes anstelle des Polyäthylenglykoläthers verwendet. Die Entwicklungsergebnisse waren ähnlich.

Beispiel 8

Die Verfahren der Beispiele 1 bis 3 wurden wiederholt, doch wurden 20% Llthiumnaphthenat anstelle des Lithiumbenzoats verwendet. Der Rest der Zusammensetzung bestand aus Wasser.

Alle entwickelten Platten erwiesen sich als geeignet für gewerbliche Verwertung in der Lithographie.

Beispiele 9 bis 13

Die Verfahren der Beispiele I bis 3 wurden In den Beispielen 9 bis 13 wiederholt, doch mit den folgenden Llthlumsalzen, die dem Wasser zur Bildung der Entwickler zugesetzt wurden:

Beispiel	Prozent	Salz
9	15	l.lthlumrlclnoleat
IO	12	I Ithlumtoluolsulfonat
I!	15	Llthlumxylolsulfonat
12	5	Llthlumlaurylsulfat
13	10	Llthlumdodecanoat

Alle entwickelten Platten erwiesen sich als geeignet für ge« rbllche Vorwendung In der Lithographie.

Beispiel 14

Das Verfahren des Beispiels 10 wurde wiederholt, doch bestand der Überzug aus einem Gemisch von einem Teil des Sensibilisator. 6 Teilen eines Glycldyläiherpolyepoxlds und 4 Teilen Polyvinylacetalharz. Der Entwickler bestand aus 12% Lithlumtoluolsulfonat und 5%lger wäßriger Cyclohexanonlösung. Die entwickelten Platten erwiesen sich alle als geeignet iür gewerbliche lithographische Verwendung.

Beispiel 15

Das Verfahren des Beispiels 1 wurde wiederholt, doch enthielten die Entwickler auch 5% n-Propylalkohol und 3% Benzylalkohol. Die entwickelte Platte war brauchbar für die Verwendung In gewerblicher Lithographie.

Beispiel 16

Das Verfahren des Beispiels 1 wurde wiederholt, doch wurde die Alumlniumplatte mit einer Natrlumslllkatzwlschenschiciit statt derjenigen aus Kallumzlrkonfluorld versehen. Die Entwicklungsergebnisse waren ähnlich.

Beispiel 17

Das Verfahren des Beispiels 1 wurde wiederholt, doch wurden als Entwickler 10% Llthlumchloracetat verwendet. Die Entwicklungsergebnisse waren ähnlich.

Beispiel 18

Das Verfahren des Beispiels 1 wurde einmal mit 10% Llthlumformlat und einmal mit 10% Lithiumeitrat als Entwickler statt der In Beispiel 1 beschriebenen Entwickler wiederholt. Die Ergebnisse waren nicht ganz so gut wie jene des Beispiels 1.

Beispiel 19

Eine Warenzeichen Enco Nr.

7>EMnickplatte mit dem 2 wurde mit Ultraviolettlicht durch ein Negativtransparent 2 Minuten belichtet. Sodann wurde sie mit 15% Llthlumbenzoat In Wasser entwickelt. Die Platte Heß sich leicht entwickeln und ergab eine gewerblich verwertbare lithographische Platte.

Beispiel 20

Ein Farbprüfsatz gemäß der technischen Lehre der GB-PS 11 91 659 aus gelb, cyan, magenta und schwarz vorsenslblllslerten Transparentbereichen auf einer Polyestergrundlage wurde belichtet, und zwar jeder Transparentbereich mit einem entsprechenden Farbentrennegatlv. Jeder belichtete Transparentbereich wurde seinerseits mit einer 10%lgen wäßrigen Lösung von Llthlumbenzoat entwickelt. Nach dem Trocknen und bei geeigneter Registrierung ergab der Satz belichteter und entwickelter Transparentbereiche einen sehr guten fertigen Vierfarbendruck.

Beispiel 21

Eine positiv wirkende vorsenslblllslerte Flachdruckplatte mit der Typenbezeichnung PA 200 der Azoplate Corporation wurde mit Ultravlolettllcht durch ein positives photographisches Transparent belichtet. Die belichtete Platte wurde mit einer 12%lgen Lösung von Llthlumbenzoat entwickelt, wobei deren pH-Wert durch Zugabe von 3%lger Natronlauge auf 12 eingestellt worden war.

Beispiel 22

L)Ie folgende Tabelle I gibt Vergleichswerte der Druckpressenleistung von Platten, die mit verschiedenen Entwicklern entwickelt werden. Die ersten beiden Spalten In der Tabelle zeigen die Entwicklerzusammensetzung und die Zusammensetzungen des Plattenüberzugs In Gewichtstellen. Der Sensibilisator Ist der gleiche wie Im Beispiel 1. Das Überzugsgewicht Ist In Milligramm je m² angegeben. Die Substrate für die beiden ersten beschriebenen Platten wurden gemäß dem Beispiel 1 hergestellt. Die dritte und vierte Platte In der Tabelle besaß Substrate, die gemäß dem Beispiel 2 hergestellt wurden. Die Entwicklung erfolgte durch Aufbringung des Entwicklers von Hand mit einem Wischer. Die Bildbereiche und die Nlchtblldberelche sind beschrieben. Die verwendete Grauskala 1st eine kontinuierliche 21-stufige Grautonfolge. Der Preßversuch wurde In der Welse durchgeführt, daß die Platte 0,15 mm höher als normal unterleg war, wobei bewirkt wurde, daß die Platte mit einem größeren Druck In Kontakt kam, als er normalerweise verwendet würde. Diese Versuchsanordnung verursacht eine übermäßige Abnutzung der Platte Im Vergleich mit einer normal eingestellten Presse. Die Spüllösung enthielt 35% Isopropanol. Üblicherwelse enthalten Spüllösungen nicht mehr als 25% Alkohol. Je mehr Alkohol In der Spüllösung 1st, desto größer ist der nachteilige Effekt auf die Bildfläche der Platte, der erwartet werden kann. Das verwendete Papier war weißes Offsetpapier von 32 kg, das maximal dreimal wiederverwendet wurde. 5000 Kopien wurden gedruckt, und die Qualltat der Drucke war so, wie In der Spalte mit der Bezeichnung »Presseversuch« In der Tabelle angegeben Ist.

Tabelle I

Vergleichswerte bei der Plattenenlwickliing mit unterschiedlichen Belichtungsrahmen (Kohlenbogen)

bei 2-mlnütlger Belichtung In einem

Ent	Zusammen	Über	Substrat	Enlwlcklungs-	Blldberekhe	Nlchlblld-	ϊ Hilfe e les 'Kuibrin&.iisthers	Pressenversuch
wickler	setzung des	zugs-		methode		be reiche
	PlatienUberzugs	gewicht
	(Gew. -Teile)	(mg/m¹)
10% Lithlum-	7 Sensibili	592	Durch Bürsten	Von Hand	Grauskala -	Kein Überzug	5000 Kopien.
benzoat	sator		gekörntes	unter	zusammen	blieb auf der	annehmbare
90% Wasser	1 Glycidyl-		anodlslertes	Verwendung	hängend 5,	Platte In den	Reproduktion
	äther-		Aluminium.	einer	auseinander	unbelichteten
	polyepoxld		Knllumzlrkon-	Standard -	gezogen 8,	Bereichen
			fluorld-	aufbring	Halbton
			/Wlschen-	vorrichtung	reproduktion
			schicht		ähnlich dem
					Negatlv-
					Iransparent
10% Benzol-	7 Sensibili	592	Durch Bürsten	Von Hand	Grauskala -	Überzug	5WKl Kopien.
sulfonsäure	sator		gekörntes	unter	zusammen	blieb auf der	die Nlchihlld
90% Wasser	1 Glycldyl-		anodlsiertes	Verwendung	hängend 9.	Platte In	hereiche
(Vergleich)	äther-		Aluminium	einer	auseinander	unbelichteten	zeigten
	polyepoxld		Kaliumzlrkon-	Standard -	gezogen 8.	lic reiche η	Schaum
			fluorld-	aufbring	Halbton		bildung
			zwlschen-	vorrichtung	reproduktion
			schlcht		zeigt, daß
					restliches
					unbelichtetes
					Polymer auf
					der Platten
					oberfläche
					blieb
15% Lithium	4 Sensibili	1184	Durch	Entwicklung	Grauskala -	Kein Überzug	5000 Kopien.
phenol-	sator		Bürsten	von Hand	zusammen	blieb auf der	annehmbare
sulfonat	i Cjlycidyl-		gekörntes.		hängend 6.	Platte in den	Reproduktion
Si IMj*	älher-		chemisch		ausehiander-	unbelichteten
ΑΛ, ,cn-	polyepoxld		geätztes		gezogen 8.	Bereichen
glykol-			anodlsiertes		Blldrepro-
üther			Aluminium.		duktion
eines linearen			Natrium-		ähnlich
Alkohols			slllkat-		dem Negativ-
80% Wasser			zw Ischen-		transparent
			schicht
15% 2-Hy-	4 Sensibili	1184	Durch	Entwicklung	Grauskala -	Überzug	5000 Kuplen.
droxy-4-	sator		Bürsten	von Hand	zusammen	blieb auf der	die Nichtbild
methoxy-	1 Glycidyl-		gekörntes.		hängend 8.	Platte In	bereiche
5-sulfon-	äther-		chemisch		auseinander	unbelichteten	zeigten auf
säure	polyepoxid		geätztes		gezogen 14.	Bereichen	der Kopie
5% PoIy-			anvisiertes		Lichthöfe		Schaumbildung
äthylen-			Aluminium.		in Tönungs-
glykolülher			Natrlum-		berelchen
wie oben			slllkai-		infolge
10% Wasser			zwischen-		ungenügender
(Vergleich)			schicht		Entwicklung
	Beispiel	23		tiiode bestand n\ "'ner Aufnrlngung des	Entwicklers von
				t-o Hand mi	oder rvazr'·.·-?'·'

Die folgende Tabelle Ii enthält Vergleichsweise hinsichtlich der Pressenleistung von Platten, die mit unterschiedlichen Entwicklern entwickelt wurden. Die erste Spalte in der Tabelle zeigt die Entwicklerzusammensetzungen. Die Plattenüberzüge enthielten die in der zweiten Spalte aufgeführten Bestandteile. Der SensibUisaior ist der gleiche wie der Im Beispiel 1. Das Übenagsgewicht Ist in mg/m² angegeben. Die Entwlcklungsme-

wie angegeben. Die Bildbereiche und NichtbÜdberelche sind beschrieben. Die verwendete Grauskala Ist eine 21-stufige Grautonskala. Eine allgemeine Diskussion der Brauchbarkeit der Grauskalen findet sich In »The Sensitivity Guide«. Research Bulletin No. 215, The Litographic

*I~ ti.»Ii η I/··» 1 ΓΛίιηΗιΙίηπ Ι·-ι/^ T~V<i*- Ϊ7λ·>τ··ι··1· « I — —-ι — t_

1 ,viiiiiwui » uuiiuduuii, luv. U^i τ ci3UtII WUIUC WlC III Beispiel 22 durchgeführt.

fabille 11

/erglekhswerle bei der Plaltenentwlcklung mit unterschiedlichen Entwicklern bei 2-mlnütlger Bellch:ung In einem kllchtu.-igsrahmen (Kohlenbogen)

:nt-	Zusammen	Über-	Substrat	Entwickiiiiigs	Bildbereiche	Nlchtbüd-	Pressenversuch
vlckler	setzung des	ZUgS-		methode		be reche
	Platten-	gcwlcli!
	übcr/ugs	(mg/m¹)
	(Gew.-Teile)
15% Ll-	2 Sensibili	807	Glattes,	Automatische	Grauskala -	Kein Überzug	5000 Kopien,
thlumbenzoat	sator		chemisch	Maschine	zusammen	blieb auf der	crinehmbare
5%. Hexy-	i Glyddyl-		geatztes		hängend 7,	Platten-	Reproduktion
lenglykol	äther-		anodislertes		auselnander-	Oberfläche
80% VVisser	polyepoxld		Aluminium.		gezogen 10,	In den
	' , Polyvi-		Natrium -		Halbton-	unbelichteten
	nylace-		sillkat-		reproduktlon	Bereichen
	talharz		zwlschen-		ähnlich dem
			schlcht		Negativ
					transparent
15% To-	2 Sensibili	807	Glattes	Automatische	Grauskala -	Kein Über	5000 Kopien,
luolsulfon-	sator		chemisch	Maschine	zusammen	zug blieb	langsame
säurc-	1 Glycldyl-		geätztes		hängend 2,	auf der	Druckfarben
Natriumsalz	äther-		anodlslertes		auseinander	Platten-	aufnahme,
5% Hexy-	polyepoxld		Aluminium,		gezogen 4,	oberfläche	vorzeitiger
lyenglykol	'Λ Polyvl-		Natrlum-		Halbton-	in den	Zusammen
80% Wasser	nylace-		slllkat-		reproduktlon -	- unbelichteten	bruch
(Vergleich)	talharz		zwlschen-		Verschärfung	Bereichen	der Raster-
			schlcht		der Raster		tönungs-
					tönungen		blldberelche
20% Li-	2 Sensibili	1076	Durch	Hand	Grauskala -	Kein Überzug	5000 Kopien,
thiumdo-	sator		Bürsten	entwicklung	zusammen	blieb auf der	annehmbare
decanoat	1 Glycldyl-		gekörntes.		hängend 6,	Platte In den	Reproduktion
5% Al-	äther-		chemisch		auseinander	unbelichteten
kylalky-	polyepoxid		geätztes		gezogen 8,	Bereichen
lolamln-	1 Polyvlnyl-		anodlslertes		Blldrepro-
sulfat	acetalharz		Aluminium.		duktlon
75% Wasser			Natrlum-		ähnlich dem
			sllikat-		Negativ
			zwlschen-		transparent
			schicht
25% Nor-	2 Sensibili	1076	Durch	Hand	Grauskala -	Überzug	5000 Kopien,
malpro-	sator		Bürsten	entwicklung	zusammen	blieb auf der	Nli-'ublld-
pylalkohol	1 Glycldyl-		gekörntes.		hängend 2.	Platte in den	bereiche
5% Al-	äther-		chemisch		auseinander	unbelichteten	zeigten
kylal-	polyepoxid		geätztes		gezogen 4,	Bereichen	Schaumbil
kylol-	1 Polyvlnyl-		anodisiertes		Verschärfung		dung,
amin-	acetalharz		Aluminium,		der Halbton		vorzeitiger
sulfat			Natrium-		raster In den		Zusammen
(Vergleich)			silikat-		belichtet:'		bruch der
			7wl5c!\er:-		Bildbereichen		Bildbereiche

schicht

Beispiel 24

Die erste Platte in der folgenden Tabelle III wurde folgendermaßen hergestellt:

Eine Oberfläche e!r«*.r Aluminlumphtt; wurde durch Bürsten gekörnt, anodisiert und chemisch mit Kaliumzirkonfluorid behandelt, um einen Überzug zu bilden, der in der fertigen Platte die Zwischenschicht ist. Die behandelte Plattenoberfläche v*ui*is dsnn mit einem lichtempfindlichen Überzug versehen, der aus vier T.-Mlen Sensibilisator (Additionsprodukt von 2-Hydroxy-4-methoxyben-60 zophenon-5-sulfonsäura und para-Diazodiphenylamln-Formaldehyd-Kondensat) und einem Teil Glycidylätherpolyepoxid bestand. Der Überzug sxf de· Platte besaßt rir. Gewicht von etwa 538 .vig/m². Nach dem Belichten der Platte (die etwa 3 Monate gealtert worden war) mit 65 Ultraviolettlicht während 2 Minuten äurch esa Negaiivtransparer.t wurden die -..nb^UcHeten Bereiche der Platte leicht mit dem angegebener: ErAwickier entfernt, wobei mar. gcwerb.^:.ch verwertbi··« Fl-xhdruckp'aiten erhieit.

15 16

Tabelle III Entwicklerzusammensetzung:

a) 10% Natriumsalz von 2-Capryl-l-(äthylen-ß-oxypropansäure)-imIdazolln

b) 5% Llthlumbenzoat

c) 20% Normalpropylalkohol

d) 40% Benzylalkohol

e) 259b Wasser

Belichtung 2 Minuten mit Kohlenbogen Be- Alte- Trans- Linien- Punkt- Grau

zeich- rung parent raster qualltät skala

nung Punkt- Hin- Pressenerhalterleistung lung grund

4 Sensibilisator 1 Glycidyiätherpolyepoxld

handelsübliche Flachdruckplatte handelsübliche Flachdruckplatte handelsübliche Fiachdruckplatte handelsübliche Flachdruckplatte handelsübliche Flachdruckplatte handelsübliche Flachdruckplatte handelsübliche Flachdruckplatte handelsübliche Flachdruckplatte handelsübliche Flachdruckplatte

3 Mo-Negativ 133 gut

nate 5 bis 90%

gut

gut

gut

gut

zusammen- gut rein 5000 Kopien

A ?	Negativ	133
		5 bis 90%
B ?	Negativ	133
		S bis 90%
C ?	Negativ	133
		5 bis 90%
D ?	Negativ	133
		5 bis 90%
E ?	Negativ	133
		5 bis 90%
F ?	Negativ	133
		5 bis 90%
G ?	Positiv	133
		5 bis 90%
H ?	Positiv	133
		5 bis 90%
I ?	Negativ	133
		5 bis 90%

hängend 4, auseinandergezogen zus. 8 aus. 9 zus. 7 aus. 8 zus. 9 aus. 10 zus. 10 aus. 12 zus. 9 aus. 11 zus. 9 aus. 11 zus. 10 aus. 4 zus. 9 aus. 5 zus. 6 aus. 9

gute

Reproduktion

gut gut gut gut gut gut gut gut

rein

gut rein

Die obige Tabelle III zeigt die Werte bezüglich der Pressenleistung von Platten, die mit dem betreffenden Entwickler entwickelt wurden. Die Entwicklermethode war eine Aufbringung des Entwicklers von Hand mit einem Aufbringwischer. Die Blldflächen und die Nlchtblldfiachen sind beschrieben. Die verwendete Grauskala ist eine kontinuierliche 21-stufige Grautonskala. Der

Tabelle IV Entwicklerzusammensetzung:

a) 20% Natriumsalz von 2-Capryl-Mäthyl-ß-oxypropansäure)-lmldazolln

b) 5% Llthlumbenzoat

c) 75% Wasser

Pressenversuch erfolgt, wie in Beispiel 22 beschrieben ist Beispiel

Die folgende Tabelle IV gibt die Werte bezüglich dei Pressenleistung von Platten, die mit einem anderen Ent wickler entwickelt wurden, wieder.

	Alterung	2-mlnuliges	Belichten mit	Kohlenbogen	Punkt- Hinter	Pressen -
Platte		Trans- Linien-	Entwick	Grauskala	er h a H Ii π κ grund	leistung
		parent rasier	lung*·
		quaiität

Gleich wie die erste in Tabelle III

3 Monate Negativ 133 gut

5 bis 90% zusammenhängend 4 aiiselnandergezogen 8

gut

5000 gut

230 248/1H

Claims

Patentansprüche:

1. Wäßriger Entwickler Tür Flachdruckplauen, die

In Ihrer lichtempfindlichen Schicht als Sensibilisator eine Dlazoverblndung enthalten, dadurch gekennzeichnet, daß der Entwickler !n Lösung ein wasserlösliches Lithiumsalz einer Oi^a.iischen Verbindung mit 1 bis 36 Kohlenstoffatomen enthält.

2. Entwickler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, da3 er 1 bis 25 Gew.-% des Llihumsalzes, bezogen auf die Wassermenge, enthält.

3. Entwickler nach Anspruch 1 und 2. dadurch gekennzeichnet, daß er zusätzlich ein amphoteres oberflächenaktives Mittel enthält.

4. Entwickler nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß er bis zu 50 Gew.-% des amphoteren oberflächenaktiven Mittels, bezogen auf die Wassermenge, enthält.

5. Entwickler nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß er bis zu 30 Gew.-% eines mit Wasser mischbaren Lösungsmittels für die lichtempfindliche Schicht der Flachdruckplatte enthält.

6. Entwickler nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß er zusätzlich bis zu 10 Gew.-% 2s eines nichtionischen, anionischen oder kationischen oberflächenaktiven Benetzungsmittels enthält.

7. Verwendung eines Entwicklers nach Anspruch 1 bis 6 für Flachdruckplatten, die in ihrer lichtempfindlichen Schicht als Senslbllsator ein Reakttonsprodukt jo eines Kondensats aus Aldehyden und Diazoarylamlnen mit einer Hydroxylgruppen oder Sulfonsäuregruppen aufweisenden Verbindung enthalten.