NL173564B - Werkwijze voor het ontwikkelen van een belichte diazo-gesensibiliseerde fotogevoelige bekleding op een substraat. - Google Patents

Werkwijze voor het ontwikkelen van een belichte diazo-gesensibiliseerde fotogevoelige bekleding op een substraat.

Info

Publication number
NL173564B
NL173564B NL7315060A NL7315060A NL173564B NL 173564 B NL173564 B NL 173564B NL 7315060 A NL7315060 A NL 7315060A NL 7315060 A NL7315060 A NL 7315060A NL 173564 B NL173564 B NL 173564B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
developing
substrate
photosensitive coating
sensitized photosensitive
exposed diazo
Prior art date
Application number
NL7315060A
Other languages
English (en)
Other versions
NL173564C (nl
NL7315060A (nl
Original Assignee
Polychrome Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from US303072A external-priority patent/US3891438A/en
Priority claimed from US05/302,994 external-priority patent/US4147545A/en
Priority claimed from US303071A external-priority patent/US3891439A/en
Application filed by Polychrome Corp filed Critical Polychrome Corp
Publication of NL7315060A publication Critical patent/NL7315060A/xx
Publication of NL173564B publication Critical patent/NL173564B/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL173564C publication Critical patent/NL173564C/nl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
NL7315060A 1972-11-02 1973-11-02 Werkwijze voor het ontwikkelen van een belichte diazo-gesensibiliseerde fotogevoelige bekleding op een substraat. NL173564C (nl)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US303072A US3891438A (en) 1972-11-02 1972-11-02 Aqueous developing composition for lithographic diazo printing plates
US05/302,994 US4147545A (en) 1972-11-02 1972-11-02 Photolithographic developing composition with organic lithium compound
US303071A US3891439A (en) 1972-11-02 1972-11-02 Aqueous developing composition for lithographic diazo printing plates

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NL7315060A NL7315060A (nl) 1974-05-06
NL173564B true NL173564B (nl) 1983-09-01
NL173564C NL173564C (nl) 1984-02-01

Family

ID=27404911

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL7315060A NL173564C (nl) 1972-11-02 1973-11-02 Werkwijze voor het ontwikkelen van een belichte diazo-gesensibiliseerde fotogevoelige bekleding op een substraat.

Country Status (6)

Country Link
JP (1) JPS5034442B2 (nl)
AU (1) AU462966B2 (nl)
DE (1) DE2353992C2 (nl)
FR (1) FR2205684A1 (nl)
IT (1) IT997722B (nl)
NL (1) NL173564C (nl)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5146205A (en) * 1974-10-17 1976-04-20 Unitika Ltd Kankosono genzohoho
DE3100259A1 (de) * 1981-01-08 1982-08-05 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Verfahren und entwicklergemisch zum entwickeln von belichteten negativ arbeitenden diazoniumsalzschichten
US4980271A (en) * 1985-08-05 1990-12-25 Hoechst Celanese Corporation Developer compositions for lithographic printing plates with benzyl alcohol, potassium toluene sulfonate and sodium (xylene or cumene) sulfonate
JPH0820738B2 (ja) * 1986-11-21 1996-03-04 オーシージー マイクロエレクトロニック マテリアルズ インコーポレイテッド ポジ型フオトレジスト組成物の改良現像方法および現像液
JPS63170646A (ja) * 1987-01-08 1988-07-14 Konica Corp 現像性等が改良される感光性平版印刷版から印刷版の作製方法
JPS63271256A (ja) * 1987-04-28 1988-11-09 Konica Corp 感光材料の現像液組成物
JP2591643B2 (ja) * 1988-03-03 1997-03-19 コニカ株式会社 ０−キノンジアジド化合物を含有する感光材料の現像液

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE606642A (nl) * 1960-07-29
US3669660A (en) * 1970-05-21 1972-06-13 Polychrome Corp Lithographic plate developing composition and process of use thereof

Also Published As

Publication number Publication date
FR2205684A1 (en) 1974-05-31
NL173564C (nl) 1984-02-01
IT997722B (it) 1975-12-30
DE2353992A1 (de) 1974-05-16
JPS4994402A (nl) 1974-09-07
AU6203273A (en) 1975-05-01
NL7315060A (nl) 1974-05-06
JPS5034442B2 (nl) 1975-11-08
FR2205684B1 (nl) 1976-06-18
DE2353992C2 (de) 1982-12-02
AU462966B2 (en) 1975-07-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL183963C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een ontwikkelaar voor elektrostatische fotografie.
NL7612028A (nl) Inrichting voor het fotografisch aanbrengen van een masker.
NL185017C (nl) Werkwijze voor het etsen van een polyimidefilm.
DK137290B (da) Fremgangsmåde til elektrografisk fremkaldelse.
NL168058C (nl) Werkwijze voor het ontwikkelen van een belichte gesensibiliseerde lithografische plaat.
NL162157C (nl) Werkwijze voor de bekleding van een betonnen ondergrond.
NL178088B (nl) Werkwijze voor het vormen van een hoogglanzende bekleding op een substraat.
NL171633C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een gesensibiliseerde fotolithografische drukplaat.
NL168343C (nl) Werkwijze voor het ontwikkelen van belicht fotografisch materiaal.
NL162491C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een ontwikkelaaroplos- sing en werkwijze voor het ontwikkelen en desensibili- seren van een fotolithografische drukplaat.
NL186720C (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een fotografisch registratiemateriaal.
NL173564C (nl) Werkwijze voor het ontwikkelen van een belichte diazo-gesensibiliseerde fotogevoelige bekleding op een substraat.
NL7504277A (nl) Werkwijze voor het aanbrengen van een spectraal- -selectieve bekleding op een plaat.
NL177857B (nl) Werkwijze voor het vormen van een elektrofotografische film en gevormde elektrofotografische film.
NL161590C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een fotografische ontwikkelaar.
NL7710358A (nl) Werkwijze voor het justeren van een belich- tingsmasker ten opzichte van een substraat- schijf.
NL164277C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een oplossing voor het ontwikkelen van fotografische zilverhalogenide- -emulsies.
NL7609970A (nl) Werkwijze voor het ontwikkelen van een foto- grafisch materiaal.
NL7504882A (nl) Werkwijze voor het ontwikkelen van een licht- gevoelige harsplaat.
NL141661B (nl) Werkwijze voor het ontwikkelen van een fotografische filmeenheid.
NL7510713A (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een tegen etsmiddel bestendig schabloon op een oppervlak.
NL173103C (nl) Werkwijze voor het ontwikkelen van een elektrostatisch beeld.
NL7501968A (nl) Werkwijze en ontwikkelaar voor het ontwikkelen van lichtgevoelige lagen.
NL7703769A (nl) Werkwijze voor het fotografisch aanbrengen van een kleurendruk op een substraat.
NL7613224A (nl) Ontwikkelinrichting voor lichtgevoelige materialen met een verdamper voor het verdampen van een ontwikkelmedium uit een oplossing.

Legal Events

Date Code Title Description
BA A request for search or an international-type search has been filed
BB A search report has been drawn up
BC A request for examination has been filed
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee