DE2353692B2 - Verfahren zur herstellung von leitende und nichtleitende flaechenbereiche aufweisenden matrizen fuer die galvanoplastische erzeugung von definiert strukturierten metallschichten - Google Patents

Verfahren zur herstellung von leitende und nichtleitende flaechenbereiche aufweisenden matrizen fuer die galvanoplastische erzeugung von definiert strukturierten metallschichten

Info

Publication number
DE2353692B2
DE2353692B2 DE19732353692 DE2353692A DE2353692B2 DE 2353692 B2 DE2353692 B2 DE 2353692B2 DE 19732353692 DE19732353692 DE 19732353692 DE 2353692 A DE2353692 A DE 2353692A DE 2353692 B2 DE2353692 B2 DE 2353692B2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
base body
depressions
filled
conductive material
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19732353692
Other languages
English (en)
Other versions
DE2353692A1 (de
DE2353692C3 (de
Inventor
Martin Gerlafingen Klemm (Schweiz)
Original Assignee
Fritz Buser Ag, Maschinenfabrik, Wiler (Schweiz)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fritz Buser Ag, Maschinenfabrik, Wiler (Schweiz) filed Critical Fritz Buser Ag, Maschinenfabrik, Wiler (Schweiz)
Publication of DE2353692A1 publication Critical patent/DE2353692A1/de
Publication of DE2353692B2 publication Critical patent/DE2353692B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2353692C3 publication Critical patent/DE2353692C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D1/00Electroforming
    • C25D1/08Perforated or foraminous objects, e.g. sieves

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Cell Electrode Carriers And Collectors (AREA)

Description

* EHe Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von leitende und nichtleitende Flächenbereiche aufweisenden Matrizen für die galvanoplastische Erzeugung von definiert strukturierten Metallschichten, insbesondere von Sieben, durch mechanische Herstellung von ίο Vertiefungen, die mit leitendem Material versehen werden.
Es ist ein Verfahren zur Herstellung feinmaschiger Siehe bekannt (US-PS 25 29 086), bei dem auf einen Grundkörper aus Glas oder keramischem Material eine
is Abdeckscfoicht aufgebracht und das Siebmuster durch diese Schacht in die Oberfläche des Grundkörpers geritzt wird. Nach Entfernen der Abdeckschicht wird
eine Metallschicht aufgedampft und diese auf der
Oberfläche mit Ausnahme in den Nuten und am Rand
entfernt Das Sieb wird galvanoplastisch in die Nuten niedergeschlagen und anschließend gewaschen, bis es
leicht aus der Matrize geschält werden kann. Abgesehen von der aufwendigen Herstellung der Matrize können damit keine nahtlosen Zylindersiebe hergestellt werden.
« Bei einem weiteren bekannten Verfahren zur
Herstellung einer Matrize, mit der auch nahtlose Zylindersiebe hergestellt werden können, werden an der Oberfläche eines Matrizenkörpers aus leitendem Material Vertiefungen an den Stellen der Sieböffnungen
eingeprägt, die mit nichtleitendem Material ausgefüllt
werden. Da es jedoch bei Sieben erwünscht ist ein
möglichst großes Öffnungsverhältnis zu erreichen, ist
die aufzuwendende Einprägearbeit sowohl bezüglich der Hersteltoeit als auch der benötigten Einrichtungen aufwendig.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren der eingangs beschriebenen Art so auszubilden, das auch die: Herstellung nahtloser Zylindersiebe erlaubt jedoch gegenüber dem zweitgenannten Verfahren einet: wesentlich geringeren Herstellungsaufwand benötigt
Diese Aufgabe wird gemäß der Erfindung dadurch gelöst daß die Vertiefungen eingeprägt und mit leitendem Material ausgefüllt werden. Die Erfindung ist in der Zeichnung anhand von Verfahrensbeispielen dargestellt und nachfolgend beschrieber. Es zeigt
Fig. 1 bis 3a die Matrizenherstellung nach dem bekannten zweitgenannten Verfahren, wobei
F ig. 1 eine Ansicht des Reliefs, F i g 2 einen Schnitt nach der Linie H-II in F i g. 1, F i g 3 einen Schnitt durch die Oberfläche der geprägten Matrize zeigt und ** Fig. 3a einen Schnitt durch ein »negatives« Relief darstellt
F i g. 4 bis 9 die Matrizenherstellung in einer ersten Ausftihriiingsform,
Fig. 10 bis 14 die Matrizenherstellung nach einer zweiten Ausiführungsform und
Fig. 15 bis 18 die Matrizenherstellung nach einer weiteren Ausführungsform.
Das in F i g. 1 bis 3 dargestellte bekannte Verfahren zur Matrizenheirstellung für die Herstellung von 6S nahtlosen Zylindersieben geht von einem Metallzylinder als Grundkörper 4 aus, der die Abmessungen des herzustellenden Siebes aufweist Seine Mantelfläche besteht aus einer mehr oder weniger dicken Schicht
eines prägbaren Materials, z. a Kupfer, Messing oder WeichstahL deren Oberfläche geglättet ist. z. B. durch Schleifen, Rollen oder elektrolytisches Polieren.
In die Oberfläche des Grundkörpers 4 wird eine Struktur eingeprägt Diese entspricht der Struktur des mittels des Grundkörpers herzustellenden Siebes. Zur Prägung bedient man sich eines sogenannten Reliefs 1. Es ist dies ein kleinerer, gehärteter Stahlzylinder, der auf seiner Oberfläche reliefartig das Muster zeigt, welches man in den Grundkörper 4 einprägen will Das Relief 1 ist auf gravurtechnischem Wege hergestellt Die Elemente seines Musters bestehen in der Regel aus erhabenen Kegeln 2 mit sechseckigen Grundflächen, die zueinander versetzt angeordnet sind und die Reliefoberfläche nahtlos überziehen, wie dies in Fig. 1 und 2 dargestellt ist Zwischen den Kegeln 2 sind Nuten 3 angeordnet, die bei der Prägung Rippen im Grundkörper 4 ergeben.
Preßt man dieses Relief 1 mittels einer geeigneten Maschine, die einer Drehbank ähnelt in die relativ weiche Oberfläche des Grundkörpers 4, so entsteht der negative Abdruck des Reliefs 1 in der Oberfläche des Grundkörpers 4, siehe F i g. 3. Der Preßvorgang selbst wird hierbei rotativ vorgenommen. Um die Nahtlosigkeit des Relief mustere auch auf dem Grundkörper 4 zu :<; verwirklichen, steuert man das Relief 1 während seiner Abwälzbewegung gegenüber dem Grundkörper 4 in der Weise an. daß pro Grundkörperumdrehung das Relief einen Längsvorschub vom Betrag eines oder mehrerer Musterelemente 2 erhält und die Abwälzbewegung des Reliefs 1 pro Grundkörperumdrehung so erfolgt daß an der scheinbaren Nahtstelle der Prägung in die erstgeprägte Vertiefung wiederum ein erhabenes Musterelement 2 des Reliefs fällt Auf diese Weise entsteht ein Verzahnungs- oder Schraubeffekt, der nach Vornahme einer zwangsweisen Ansteuerung in eine Selbststeuerung übergeht. Je nach den Bedingungen dieser als Molettage bekannten Operation ist der Grundkörper 4 nach einem oder mehreren Prägedurchgängen fertig geprägt. Darauf werden die tiefliegenden ,0 Partien 2' des Grundkörpers 4 mit einem elektrisch nichtleitenden Material, ζ. Β Lack, ausgefüllt. Hierbei wird die geprägte Oberfläche mit dem Beschichtungsmaterial völlig bedeckt und anschließend dieses, z. B. durch Schleifer., so weit entfernt daß die erhabenen Partien 3' des Grundkörpers 4 wieder frei sind. Im wesentlichen ist damit die Behandlung des Grundkörpers 4 abgeschlossen. Man bezeichnet ihn in diesem Zustand als Matrize oder Mutterwalze.
Die Matrize wird vorzugsweise galvanisch vernickelt. Entsprechend den leitenden Partien, welche die Matrize netzartig überziehen, schlägt sich Nickel ebenfalls netzartig oder siebförmig nieder. Nach Erreichen der erforderlichen Schichtstärke wird der Vprnicklungsvorgang abgebrochen und die entstandene, perforierte Nickelhaut von der Matrize mittels einer geeigneten Vorrichtung abgezogen; es ist ein nahtloses, vollperforiertes Nickelsieb entstanden.
Dem beschriebenen Verfahren haften Nachteile an, von denen der wesentliche darin besteht, daß für den f>o Prägevorgang, der darauf hinzielt, etwa 2h der Oberfläche des Grundkörpers 4 zu vertiefen, erhebliche Drücke auf das Relief 1 und damit auf den Grundkörper 4 nötig sind. Abgesehen von der entsprechenden schweren Ausführung der für die Durchführung der <\s Molettage benötigten Maschine muß der Grundkörper selbst sehr stabil ausgeführt sein. Dies führt zu sehr hohen Matrizengewichten, die ihrerseits den gesamten Herstellungsprozeß des Siebes verteuern.
Um den Aufwand zn senken, gebt die Erfindung von uem Gedanken der Herstellung sehr leichter Matrizen aus. Hierzu müssen die beim Molettieren aufzuwendenden Drücke verhältnismäßig klein gehalten werden. Dies kann nur aber die Art der Mustergebung des Reliefs erfolgen, da die Härte des zu prägenden Metalls nur in engen Grenzen variiert werden kann.
Bis heute wird, wie bereits vorstehend erläutert wurde, das Relief 1 stets entsprechend Fig.! und 2 ausgebildet Das in dem Grundkörper 4 (Fig.3) zu prägende Mustervolumen, das aus Rastemäpfchen 2' besteht ist hierbei hoch, jedenfalls erheblich größer als das Volumen der durch die Prägung entstandenen Rippe 3'. Werden jedoch nicht die einzelnen Rasternäpfchen 2', sondern die Rippen 3* — der sogenannte Steg — in den Grundkörper 4 geprägt, weil hierbei das zu verdrängende Volumen nur einen Bruchteil des bei der herkömmlichen Molettage zu verdrängenden Volumens ausmacht kann mit erheblich geringeren Molettagedrücken gearbeitet werden. Ein entsprechendes Relief ist ohne Schwierigkeit durch Umprägen eines »normalen« Reliefs 1 in Weichstahl mit anschließender Härtung herstellbar·, das die in Fig.3a dargestellte Oberfläche mit kegeligen Vertiefungen 2" und Erhebungen 3" erhalten kann, wobei die Vertiefungen 2" auch z. B. einen ebenen Grund erhalten können. Dieses »negative« Relief Γ. wie es im Vergleich zum bekannten Relief 1 anschaulicht genannt werden kann, wird nach dem vorstehend beschriebenen Verfahren in einen Grundkörper 5 geprägt siehe Fig.4, auf dem eine Netzstruktur aus tiefliegenden Einkerbungen 6 und hochliegenden Flächen 7 entsteht, deren Tiefe und Ausformung je nach Molettage sowie Reliefstruktur gesteuert werden kann.
Die Weiterbearbeitung des Grundkörpers 5 kann auf drei verschiedene Weisen erfolgen, die alle die Herstellung einer Matrize zur Nickelsieb-Herstellung zum Ziele haben.
Bei der ersten Herstellungsweise (Fig.4 bis 9) wird der nunmthr »negativ« molettiene Grundkörper 5 im galvanischen Bad z. B. hartverchromt (F i g. 5). Es entsteht hierbei ein Aufbau, bei dem auf dem geprägten Material des Grundkörpers 5 eine Chromschicht 8 abgeschieden wird, die aus den in die Einkerbungen 6 und auf die Grundkörperoberfläche 9 abgeschiedenen Chrompartien 10,11 besteht.
Nunmehr wird die Chromschicht 8 soweit abgetragen, z. B abgeschliffen, daß die ehemals hochliegenden Grundkörperoberflächen 9 keine Chromschicht 11 mehr tragen. Die Chromfüllung 10 in den Einkerbungen 6 der Grundkörperoberfläche 9 erhält hierbei das gleiche Höhenniveau wie die Grundkörperoberfläche 9 selbst (Fig. 6).
Nun wird die Grundkörperoberfläche 9 durch ein geeignetes Ätzmittel, das lediglich das Grundkörpermatenal, dagegen nicht oder nur geringfügig Chrom angreift, abgetragen (F i g. 7), wobei vertiefte Partien 12 zwischen den zu Stegen gewordenen Chromfüllungen 10 entstehen.
Es folgt hierauf eine Beschichtung mit einem geeigneten, nichtleitenden Material 13 (F i g. 8), z. B. Lack, das soweit abgetragen wird, daß die netzartig angeordneten Chrom-Stege 10 wieder freiliegen (Fig.9). Damit ist die Herstellung abgeschlossen und eine Matrize entstanden, die sich zur Nickelsiebherstellung eignet.
Bei der zweiten Herstellungsweise (Fig. 10 bis 14)
wird der »negativ« molettierte Grundkörper mit einem geeigneten Abdecklack 14 tamponiert Unter Tamponieren versteht man ein in der Tiefdruckformenherstellung bekanntes Verfahren. Es hat zum Ziel, eine strukturierte Oberfläche derartig mit z. B. einem Lack abzudecken, daß nur die hochliegenden Partien eine Lackschicht erhalten. Mit der Tamponage erreicht man die Abdeckung aller hochliegenden Musterflächen 9 der Oberfläche des Grundkörpers 5 (F i g. 10), während die netzartig angeordneten tiefliegenden Einkerbungen 6 (F i g. 10) keine Abdeckung erfahren.
Der so präparierte Grundkörper 5 wird z. B. vernickelt oder hartverchromt Es entsteht ein Querschnitt gemäß Fig. 11; die tiefliegenden Einkerbungen 6 erhalten eine metallische Füllung 15, während die vom elektrisch nichtleitenden Lack abgedeckten Partien des Grundkörpers 5 keine Metallauflage erhalten.
Nun wird, z. B. durch eine Schleifoperation, die Oberfläche des Grundkörpers eingeebnet womit die Herstellung der Matrize abgeschlossen ist Ihr Querschnitt ist in F i g. 14 dargestellt
Sollte der Tamponierlack zwar für den einmaligen Galvanisierungsprozeß (Verchromen, Vernickeln o. ä.) der Matrizenhersteiiung, nicht aber für den Dauergebrauch der eigentlichen Nickelsieb-Herstellung (z. B. wegen mangelnder chemischer Resistenz über längere Zeit im Nickelelektrolyten) geeignet sein, wird er nach der Vernicklungs- oder Verchromungsoperation, z. B. mit einem geeigneten Lösungsmittel entfernt Hierdurch entstehen vertiefte Partien 16 (F i g. 12). Nunmehr wird die Oberfläche der Matrize mit einem geeigneten Material. z.L. einem Lack, beschichtet (Fig. 13) und sodann soweit eingeebnet daß die Lackschicht 13 mit den Metallstegen 15, die frei von Beschichtungsmaterial sind, eine ebene Fläche bildet (Fig. 14), womit die Herstellung der Matrize abgeschlossen ist
Bei der dritten Herstellungsweise (Fig. 15 bis 18) wird der Grundkörper 5 nach dem Drehen, Schleifen und eventuellen Polieren mit einem geeigneten Lack 17 gleichmäßig beschichtet. Sodann erfolgt die »negative« s Molettage in der Weise, daß die Beschichtung 17 von den Stegen des Reliefs durchschnitten und der Grundkörper 5 mit Einkerbungen 18 relativ schwach geprägt wird (Fig. 15). Hierzu ist der Relief steg zweckmäßigerweise messerartig auszubilden.
ίο Nun erfolgt eine Vernicklung oder Verchromung, die in dem Zeitpunkt beendet wircl, in dem die eigentliche, metallische Prägetiefe 18 ausgefüllt und mit etwa 20-100% vom galvanisch niedergeschlagenen Metall 19 überwachsen ist (F i g. 16).
Die weitere Verarbeitung kann nun in ähnlicher Weise wie bei der zweiten Heirstellungsweise auf zwei verschiedene Welsen erfolgen. Hierbei wird entweder die Oberfläche des Grundkörpers so lange geschliffen, bis zwischen den Chrom- bzw. Nickelstegen 19 (F i g. 18] und den Lackpartien 17 eine plane Fläche entsteht mit welcher Einebnungsoperation. die Herstellung der Matrize abgeschlossen ist
Oder es wird nach der Vemicklung bzw. Verchromung der Lack entfernt wobei vertiefte Partien 2C
2s zwischen den Stegen 19 entstehen (Fig. 17). Sodanr wird die Oberfläche des Grundkörpers 5 mit einerr elektrisch nichtleitenden Material, z. B. einem Lack beschichtet und analog den in Fig.9 und 14 dargestellten Arbeitsoperationen eingeebnet womii ebenfalls eine Matrize entstunden ist die sich zui Herstellung von Sieben eignet
Die auf diese Weise hergestellten Matrizen diener der Herstellung von Sieben aller Art, bei denen, wie ζ. Β bei Filtern und Siebdruckformen, eine bestimmte Groß« und/oder Form der öffnungen vorgeschrieben ist
Hierzu 3 Blatt Zeichnungen

Claims (7)

Patentansprüchen
1. Verfahren zur Herstellung von leitende und nichtleitende Haehenbereiche aufweisenden Matrizen für die galvanoplastische Erzeugung von definiert strukturierten MetaHschicbten, insbesondere von Sieben, durch mechanische Herstellung von Vertiefungen, die mh leitendem Material versehen werden, dadurch gekennzeichnet, daß die Vertiefungen eingeprägt und mit leitendem Material ausgefüllt werden.
2 Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet daß nach der Herstellung der Vertiefungen fine Metallschicht, insbesondere galvanisch, auf die gesamte Oberfläche des Grundkörpers aufgebracht wird, deren Vertiefungen hierbei ausgefüllt werden, und die Metallschicht, insbesondere durch eine Schleifoperation so weit entfernt wird, daß die Partien zwischen den ausgefüllten Vertiefungen freigelegt werden, worauf die freigelegten Partien, insbesondere durch Ätzen, abgetragen und die gesamte Oberfläche des Grundkörpers mit einer Schicht aus einem nichtleitenden Material bedeckt und diese Schicht anschließend bis zur Freilegung der ausgefüllten Vertiefungen durch eine Bearbeitungsoperation, insbesondere Schleifen abgetragen wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die mit den Vertiefungen versehene Oberfläche des Grundkörpers mit einem Abdeckmaterial aus nichtleitendem Material tamponiert wird und hierauf die rnchtbedeckten Vertiefungen galvanisch mit Metall ausgefüllt werden und ?ur Bildung einer ebenen Matrizenoberfläche eingeebnet werden.
4. Verfahren nach Anspruch 1. dadurch gekennzeichnet, daß die mit den Vertiefungen versehene Oberfläche des Grundkörpers mit einer Abdeckschicht aus nichtleitendem Material tamponiert wird und hierauf die nichtbedeckten Vertiefungen galvanisch mit Metall ausgefüllt werden, worauf die Abdeckschicht entfernt und die nunmehr entstandenen vertieften Partien zur Bildung einer ebenen Matrizenoberfläche mit einem nichtleitenden Material ausgefüllt werden.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche des Grundkörpers mit einer Schicht aus einem nichtleitenden Material abgedeckt wird und hierauf die Vertiefungen durch die Abdeckschicht hindurch in den Grundkörper eingeprägt, diese sodann galvanisch ausgefüllt und zur Bildung einer ebenen Matrizenoberfläche eingeebnet werden {F i g. 18).
6. Verfahren nach Anspruch 3 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Vertiefungen galvanisch im Überschuß ausgefüllt werden und durch eine Bearbeitungsoperation, insbesondere Schleifen, auf die Höhe der Abdeckschicht eingeebnet werden.
7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche des Grundkörpers mit einer Schicht aus nichtleitendem Material abgedeckt wird und hierauf die Vertiefungen durch die Abdeckschicht hindurch in den Grundkörper eingeprägt und galvanisch ausgefüllt werden, worauf die Schicht entfernt und die entstehenden vertieften Partien zur Bildung einer ebenen Matrizenoberflä
che mit einem nichtleitenden Material ausgefüllt werden.
DE19732353692 1972-11-28 1973-10-26 Verfahren zur Herstellung von leitende und nichtleitende Flächenbereiche aufweisenden Matrizen für die galvanoplastische Erzeugung von definiert strukturierten Metallschichten Expired DE2353692C3 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH1733072A CH591570A5 (de) 1972-11-28 1972-11-28
CH1733072 1972-11-28

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2353692A1 DE2353692A1 (de) 1974-05-30
DE2353692B2 true DE2353692B2 (de) 1977-05-18
DE2353692C3 DE2353692C3 (de) 1978-01-12

Family

ID=

Also Published As

Publication number Publication date
US3891514A (en) 1975-06-24
CA1012483A (en) 1977-06-21
ZA738850B (en) 1974-10-30
ES420372A1 (es) 1976-04-16
DE2353692A1 (de) 1974-05-30
AR203828A1 (es) 1975-10-31
CH591570A5 (de) 1977-09-30
IT1001734B (it) 1976-04-30
NL158559B (nl) 1978-11-15
NL7316250A (de) 1974-05-30
FR2208001B1 (de) 1977-06-10
BR7309197D0 (pt) 1974-08-29
AT323496B (de) 1975-07-10
IN142202B (de) 1977-06-11
FR2208001A1 (de) 1974-06-21
JPS5143981B2 (de) 1976-11-25
GB1441597A (en) 1976-07-07
JPS4987536A (de) 1974-08-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69002975T2 (de) Gravierter mit Mikro-Keramik beschichteter Zylinder und Beschichtungsverfahren hierfür.
DE19638609A1 (de) Verfahren zur Herstellung einer porösen galvanogeformten Schale
DE4036661C1 (de)
EP0287002B1 (de) Rasterwalze für ein Offsetfarbwerk sowie Verfahren zur Herstellung einer derartigen Rasterwalze
DE2531947C3 (de) Verfahren zur Herstellung einer ohne Wischung verwendbaren Stichdruckplatte, nach diesem Verfahren hergestellte Druckplatte und deren Anwendung
DE3120351C1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Prägegravur auf einem der Oberflächenformung von Preßlaminaten dienenden Prägewerkzeug
DE2353692C3 (de) Verfahren zur Herstellung von leitende und nichtleitende Flächenbereiche aufweisenden Matrizen für die galvanoplastische Erzeugung von definiert strukturierten Metallschichten
EP0402377B1 (de) Verfahren zur herstellung eines mit einem prägemuster versehenen metallischen endlosbandes
DE2353692B2 (de) Verfahren zur herstellung von leitende und nichtleitende flaechenbereiche aufweisenden matrizen fuer die galvanoplastische erzeugung von definiert strukturierten metallschichten
DE2225826B2 (de) Verfahren zum Herstellen einer Vielzahl von jeweils ein Loch enthaltenden Elektroden für Elektronenstrahlsysteme
DE2903483C2 (de)
DE2029646B2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Honen
DE2051728C3 (de) Verfahren zum Herstellen eines Schablonensiebes
DE3231490C1 (de) Druckwalze und Verfahren zur Herstellung einer Tiefdruckform
EP0276264B1 (de) Verfahren zum elektrochemischen bearbeiten von werkstücken sowie vorrichtung zur durchführung des verfahrens
DE2129946C3 (de) Verfahren zum Herstellen einer Fertigungsform
DE2544603A1 (de) Verfahren zur herstellung eines zylindrischen matrizenkoerpers
DE2543201A1 (de) Verfahren zum herstellen eines zylinderfoermigen spiralrillenlagers
DE1961316C3 (de) Verfahren zur Herstellung einer Stahlstichdruckplatte
DE2936693A1 (de) Rotations-filmdruck-walze und herstellungsverfahren dafuer
DE1496744C (de) Verfahren und Vorrichtung zur kontinuierlichen galvanoplastischen Herstellung eines siebförmigen Metall blatts
DE727963C (de) Verfahren zum Umkupfern von Kupfertiefdruckwalzen
DE3734615C1 (en) Manicure and pedicure files having a filing, grinding or polishing metal layer and process for the production thereof
DE10143126B4 (de) Verfahren zur Herstellung von metallischem Halbzeug sowie danach hergestelltes Halbzeug und dessen Verwendung
DE2048000A1 (de) Druckform für das Hochdruckverfahren

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
EHJ Ceased/non-payment of the annual fee