DE2353692B2 - Verfahren zur herstellung von leitende und nichtleitende flaechenbereiche aufweisenden matrizen fuer die galvanoplastische erzeugung von definiert strukturierten metallschichten - Google Patents
Verfahren zur herstellung von leitende und nichtleitende flaechenbereiche aufweisenden matrizen fuer die galvanoplastische erzeugung von definiert strukturierten metallschichtenInfo
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- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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- C25D1/08—Perforated or foraminous objects, e.g. sieves
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Description
* EHe Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung
von leitende und nichtleitende Flächenbereiche aufweisenden Matrizen für die galvanoplastische Erzeugung
von definiert strukturierten Metallschichten, insbesondere von Sieben, durch mechanische Herstellung von
ίο Vertiefungen, die mit leitendem Material versehen
werden.
is Abdeckscfoicht aufgebracht und das Siebmuster durch
diese Schacht in die Oberfläche des Grundkörpers
geritzt wird. Nach Entfernen der Abdeckschicht wird
eine Metallschicht aufgedampft und diese auf der
entfernt Das Sieb wird galvanoplastisch in die Nuten
niedergeschlagen und anschließend gewaschen, bis es
leicht aus der Matrize geschält werden kann. Abgesehen
von der aufwendigen Herstellung der Matrize können
damit keine nahtlosen Zylindersiebe hergestellt werden.
« Bei einem weiteren bekannten Verfahren zur
eingeprägt, die mit nichtleitendem Material ausgefüllt
werden. Da es jedoch bei Sieben erwünscht ist ein
möglichst großes Öffnungsverhältnis zu erreichen, ist
die aufzuwendende Einprägearbeit sowohl bezüglich
der Hersteltoeit als auch der benötigten Einrichtungen
aufwendig.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren der eingangs beschriebenen Art so auszubilden, das auch die: Herstellung nahtloser Zylindersiebe
erlaubt jedoch gegenüber dem zweitgenannten Verfahren einet: wesentlich geringeren Herstellungsaufwand
benötigt
Diese Aufgabe wird gemäß der Erfindung dadurch gelöst daß die Vertiefungen eingeprägt und mit
leitendem Material ausgefüllt werden.
Die Erfindung ist in der Zeichnung anhand von Verfahrensbeispielen dargestellt und nachfolgend beschrieber. Es zeigt
Fig. 1 bis 3a die Matrizenherstellung nach dem bekannten zweitgenannten Verfahren,
wobei
F ig. 1 eine Ansicht des Reliefs,
F i g 2 einen Schnitt nach der Linie H-II in F i g. 1,
F i g 3 einen Schnitt durch die Oberfläche der geprägten Matrize zeigt und
** Fig. 3a einen Schnitt durch ein »negatives« Relief
darstellt
F i g. 4 bis 9 die Matrizenherstellung in einer ersten Ausftihriiingsform,
Fig. 10 bis 14 die Matrizenherstellung nach einer zweiten Ausiführungsform und
Fig. 15 bis 18 die Matrizenherstellung nach einer
weiteren Ausführungsform.
Das in F i g. 1 bis 3 dargestellte bekannte Verfahren zur Matrizenheirstellung für die Herstellung von
6S nahtlosen Zylindersieben geht von einem Metallzylinder als Grundkörper 4 aus, der die Abmessungen des
herzustellenden Siebes aufweist Seine Mantelfläche besteht aus einer mehr oder weniger dicken Schicht
eines prägbaren Materials, z. a Kupfer, Messing oder
WeichstahL deren Oberfläche geglättet ist. z. B. durch
Schleifen, Rollen oder elektrolytisches Polieren.
In die Oberfläche des Grundkörpers 4 wird eine Struktur eingeprägt Diese entspricht der Struktur des
mittels des Grundkörpers herzustellenden Siebes. Zur Prägung bedient man sich eines sogenannten Reliefs 1.
Es ist dies ein kleinerer, gehärteter Stahlzylinder, der auf seiner Oberfläche reliefartig das Muster zeigt, welches
man in den Grundkörper 4 einprägen will Das Relief 1 ist auf gravurtechnischem Wege hergestellt Die
Elemente seines Musters bestehen in der Regel aus erhabenen Kegeln 2 mit sechseckigen Grundflächen, die
zueinander versetzt angeordnet sind und die Reliefoberfläche nahtlos überziehen, wie dies in Fig. 1 und 2
dargestellt ist Zwischen den Kegeln 2 sind Nuten 3 angeordnet, die bei der Prägung Rippen im Grundkörper
4 ergeben.
Preßt man dieses Relief 1 mittels einer geeigneten Maschine, die einer Drehbank ähnelt in die relativ
weiche Oberfläche des Grundkörpers 4, so entsteht der negative Abdruck des Reliefs 1 in der Oberfläche des
Grundkörpers 4, siehe F i g. 3. Der Preßvorgang selbst wird hierbei rotativ vorgenommen. Um die Nahtlosigkeit
des Relief mustere auch auf dem Grundkörper 4 zu :<;
verwirklichen, steuert man das Relief 1 während seiner Abwälzbewegung gegenüber dem Grundkörper 4 in der
Weise an. daß pro Grundkörperumdrehung das Relief einen Längsvorschub vom Betrag eines oder mehrerer
Musterelemente 2 erhält und die Abwälzbewegung des Reliefs 1 pro Grundkörperumdrehung so erfolgt daß an
der scheinbaren Nahtstelle der Prägung in die erstgeprägte Vertiefung wiederum ein erhabenes
Musterelement 2 des Reliefs fällt Auf diese Weise entsteht ein Verzahnungs- oder Schraubeffekt, der nach
Vornahme einer zwangsweisen Ansteuerung in eine Selbststeuerung übergeht. Je nach den Bedingungen
dieser als Molettage bekannten Operation ist der Grundkörper 4 nach einem oder mehreren Prägedurchgängen
fertig geprägt. Darauf werden die tiefliegenden ,0 Partien 2' des Grundkörpers 4 mit einem elektrisch
nichtleitenden Material, ζ. Β Lack, ausgefüllt. Hierbei wird die geprägte Oberfläche mit dem Beschichtungsmaterial
völlig bedeckt und anschließend dieses, z. B. durch Schleifer., so weit entfernt daß die erhabenen
Partien 3' des Grundkörpers 4 wieder frei sind. Im wesentlichen ist damit die Behandlung des Grundkörpers
4 abgeschlossen. Man bezeichnet ihn in diesem Zustand als Matrize oder Mutterwalze.
Die Matrize wird vorzugsweise galvanisch vernickelt. Entsprechend den leitenden Partien, welche die Matrize
netzartig überziehen, schlägt sich Nickel ebenfalls netzartig oder siebförmig nieder. Nach Erreichen der
erforderlichen Schichtstärke wird der Vprnicklungsvorgang abgebrochen und die entstandene, perforierte
Nickelhaut von der Matrize mittels einer geeigneten Vorrichtung abgezogen; es ist ein nahtloses, vollperforiertes
Nickelsieb entstanden.
Dem beschriebenen Verfahren haften Nachteile an, von denen der wesentliche darin besteht, daß für den f>o
Prägevorgang, der darauf hinzielt, etwa 2h der
Oberfläche des Grundkörpers 4 zu vertiefen, erhebliche Drücke auf das Relief 1 und damit auf den Grundkörper
4 nötig sind. Abgesehen von der entsprechenden schweren Ausführung der für die Durchführung der
<\s Molettage benötigten Maschine muß der Grundkörper selbst sehr stabil ausgeführt sein. Dies führt zu sehr
hohen Matrizengewichten, die ihrerseits den gesamten Herstellungsprozeß des Siebes verteuern.
Um den Aufwand zn senken, gebt die Erfindung von uem Gedanken der Herstellung sehr leichter Matrizen
aus. Hierzu müssen die beim Molettieren aufzuwendenden
Drücke verhältnismäßig klein gehalten werden. Dies kann nur aber die Art der Mustergebung des
Reliefs erfolgen, da die Härte des zu prägenden Metalls nur in engen Grenzen variiert werden kann.
Bis heute wird, wie bereits vorstehend erläutert wurde, das Relief 1 stets entsprechend Fig.! und 2
ausgebildet Das in dem Grundkörper 4 (Fig.3) zu
prägende Mustervolumen, das aus Rastemäpfchen 2' besteht ist hierbei hoch, jedenfalls erheblich größer als
das Volumen der durch die Prägung entstandenen Rippe 3'. Werden jedoch nicht die einzelnen Rasternäpfchen
2', sondern die Rippen 3* — der sogenannte Steg — in
den Grundkörper 4 geprägt, weil hierbei das zu verdrängende Volumen nur einen Bruchteil des bei der
herkömmlichen Molettage zu verdrängenden Volumens ausmacht kann mit erheblich geringeren Molettagedrücken
gearbeitet werden. Ein entsprechendes Relief ist ohne Schwierigkeit durch Umprägen eines »normalen«
Reliefs 1 in Weichstahl mit anschließender Härtung herstellbar·, das die in Fig.3a dargestellte Oberfläche
mit kegeligen Vertiefungen 2" und Erhebungen 3" erhalten kann, wobei die Vertiefungen 2" auch z. B.
einen ebenen Grund erhalten können. Dieses »negative« Relief Γ. wie es im Vergleich zum bekannten Relief
1 anschaulicht genannt werden kann, wird nach dem vorstehend beschriebenen Verfahren in einen Grundkörper
5 geprägt siehe Fig.4, auf dem eine Netzstruktur aus tiefliegenden Einkerbungen 6 und
hochliegenden Flächen 7 entsteht, deren Tiefe und Ausformung je nach Molettage sowie Reliefstruktur
gesteuert werden kann.
Die Weiterbearbeitung des Grundkörpers 5 kann auf drei verschiedene Weisen erfolgen, die alle die
Herstellung einer Matrize zur Nickelsieb-Herstellung zum Ziele haben.
Bei der ersten Herstellungsweise (Fig.4 bis 9) wird
der nunmthr »negativ« molettiene Grundkörper 5 im galvanischen Bad z. B. hartverchromt (F i g. 5). Es
entsteht hierbei ein Aufbau, bei dem auf dem geprägten Material des Grundkörpers 5 eine Chromschicht 8
abgeschieden wird, die aus den in die Einkerbungen 6 und auf die Grundkörperoberfläche 9 abgeschiedenen
Chrompartien 10,11 besteht.
Nunmehr wird die Chromschicht 8 soweit abgetragen, z. B abgeschliffen, daß die ehemals hochliegenden
Grundkörperoberflächen 9 keine Chromschicht 11 mehr tragen. Die Chromfüllung 10 in den Einkerbungen
6 der Grundkörperoberfläche 9 erhält hierbei das gleiche Höhenniveau wie die Grundkörperoberfläche 9
selbst (Fig. 6).
Nun wird die Grundkörperoberfläche 9 durch ein
geeignetes Ätzmittel, das lediglich das Grundkörpermatenal,
dagegen nicht oder nur geringfügig Chrom angreift, abgetragen (F i g. 7), wobei vertiefte Partien 12
zwischen den zu Stegen gewordenen Chromfüllungen 10 entstehen.
Es folgt hierauf eine Beschichtung mit einem geeigneten, nichtleitenden Material 13 (F i g. 8), z. B.
Lack, das soweit abgetragen wird, daß die netzartig angeordneten Chrom-Stege 10 wieder freiliegen
(Fig.9). Damit ist die Herstellung abgeschlossen und
eine Matrize entstanden, die sich zur Nickelsiebherstellung eignet.
Bei der zweiten Herstellungsweise (Fig. 10 bis 14)
wird der »negativ« molettierte Grundkörper mit einem
geeigneten Abdecklack 14 tamponiert Unter Tamponieren versteht man ein in der Tiefdruckformenherstellung
bekanntes Verfahren. Es hat zum Ziel, eine strukturierte Oberfläche derartig mit z. B. einem Lack
abzudecken, daß nur die hochliegenden Partien eine Lackschicht erhalten. Mit der Tamponage erreicht man
die Abdeckung aller hochliegenden Musterflächen 9 der Oberfläche des Grundkörpers 5 (F i g. 10), während die
netzartig angeordneten tiefliegenden Einkerbungen 6 (F i g. 10) keine Abdeckung erfahren.
Der so präparierte Grundkörper 5 wird z. B. vernickelt oder hartverchromt Es entsteht ein Querschnitt
gemäß Fig. 11; die tiefliegenden Einkerbungen 6 erhalten eine metallische Füllung 15, während die vom
elektrisch nichtleitenden Lack abgedeckten Partien des Grundkörpers 5 keine Metallauflage erhalten.
Nun wird, z. B. durch eine Schleifoperation, die Oberfläche des Grundkörpers eingeebnet womit die
Herstellung der Matrize abgeschlossen ist Ihr Querschnitt ist in F i g. 14 dargestellt
Sollte der Tamponierlack zwar für den einmaligen Galvanisierungsprozeß (Verchromen, Vernickeln o. ä.)
der Matrizenhersteiiung, nicht aber für den Dauergebrauch der eigentlichen Nickelsieb-Herstellung (z. B.
wegen mangelnder chemischer Resistenz über längere Zeit im Nickelelektrolyten) geeignet sein, wird er nach
der Vernicklungs- oder Verchromungsoperation, z. B. mit einem geeigneten Lösungsmittel entfernt Hierdurch
entstehen vertiefte Partien 16 (F i g. 12). Nunmehr wird die Oberfläche der Matrize mit einem geeigneten
Material. z.L. einem Lack, beschichtet (Fig. 13) und
sodann soweit eingeebnet daß die Lackschicht 13 mit den Metallstegen 15, die frei von Beschichtungsmaterial
sind, eine ebene Fläche bildet (Fig. 14), womit die Herstellung der Matrize abgeschlossen ist
Bei der dritten Herstellungsweise (Fig. 15 bis 18) wird der Grundkörper 5 nach dem Drehen, Schleifen
und eventuellen Polieren mit einem geeigneten Lack 17 gleichmäßig beschichtet. Sodann erfolgt die »negative«
s Molettage in der Weise, daß die Beschichtung 17 von den Stegen des Reliefs durchschnitten und der
Grundkörper 5 mit Einkerbungen 18 relativ schwach geprägt wird (Fig. 15). Hierzu ist der Relief steg
zweckmäßigerweise messerartig auszubilden.
ίο Nun erfolgt eine Vernicklung oder Verchromung, die
in dem Zeitpunkt beendet wircl, in dem die eigentliche,
metallische Prägetiefe 18 ausgefüllt und mit etwa 20-100% vom galvanisch niedergeschlagenen Metall
19 überwachsen ist (F i g. 16).
Die weitere Verarbeitung kann nun in ähnlicher Weise wie bei der zweiten Heirstellungsweise auf zwei
verschiedene Welsen erfolgen. Hierbei wird entweder die Oberfläche des Grundkörpers so lange geschliffen,
bis zwischen den Chrom- bzw. Nickelstegen 19 (F i g. 18]
und den Lackpartien 17 eine plane Fläche entsteht mit welcher Einebnungsoperation. die Herstellung der
Matrize abgeschlossen ist
Oder es wird nach der Vemicklung bzw. Verchromung
der Lack entfernt wobei vertiefte Partien 2C
2s zwischen den Stegen 19 entstehen (Fig. 17). Sodanr
wird die Oberfläche des Grundkörpers 5 mit einerr elektrisch nichtleitenden Material, z. B. einem Lack
beschichtet und analog den in Fig.9 und 14
dargestellten Arbeitsoperationen eingeebnet womii ebenfalls eine Matrize entstunden ist die sich zui
Herstellung von Sieben eignet
Die auf diese Weise hergestellten Matrizen diener der Herstellung von Sieben aller Art, bei denen, wie ζ. Β
bei Filtern und Siebdruckformen, eine bestimmte Groß«
und/oder Form der öffnungen vorgeschrieben ist
Hierzu 3 Blatt Zeichnungen
Claims (7)
1. Verfahren zur Herstellung von leitende und
nichtleitende Haehenbereiche aufweisenden Matrizen für die galvanoplastische Erzeugung von
definiert strukturierten MetaHschicbten, insbesondere von Sieben, durch mechanische Herstellung von
Vertiefungen, die mh leitendem Material versehen werden, dadurch gekennzeichnet, daß die
Vertiefungen eingeprägt und mit leitendem Material ausgefüllt werden.
2 Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet daß nach der Herstellung der Vertiefungen
fine Metallschicht, insbesondere galvanisch, auf die
gesamte Oberfläche des Grundkörpers aufgebracht wird, deren Vertiefungen hierbei ausgefüllt werden,
und die Metallschicht, insbesondere durch eine Schleifoperation so weit entfernt wird, daß die
Partien zwischen den ausgefüllten Vertiefungen freigelegt werden, worauf die freigelegten Partien,
insbesondere durch Ätzen, abgetragen und die gesamte Oberfläche des Grundkörpers mit einer
Schicht aus einem nichtleitenden Material bedeckt und diese Schicht anschließend bis zur Freilegung
der ausgefüllten Vertiefungen durch eine Bearbeitungsoperation, insbesondere Schleifen abgetragen
wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die mit den Vertiefungen versehene
Oberfläche des Grundkörpers mit einem Abdeckmaterial aus nichtleitendem Material tamponiert wird
und hierauf die rnchtbedeckten Vertiefungen galvanisch mit Metall ausgefüllt werden und ?ur Bildung
einer ebenen Matrizenoberfläche eingeebnet werden.
4. Verfahren nach Anspruch 1. dadurch gekennzeichnet, daß die mit den Vertiefungen versehene
Oberfläche des Grundkörpers mit einer Abdeckschicht aus nichtleitendem Material tamponiert wird
und hierauf die nichtbedeckten Vertiefungen galvanisch mit Metall ausgefüllt werden, worauf die
Abdeckschicht entfernt und die nunmehr entstandenen vertieften Partien zur Bildung einer ebenen
Matrizenoberfläche mit einem nichtleitenden Material ausgefüllt werden.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche des Grundkörpers mit
einer Schicht aus einem nichtleitenden Material abgedeckt wird und hierauf die Vertiefungen durch
die Abdeckschicht hindurch in den Grundkörper eingeprägt, diese sodann galvanisch ausgefüllt und
zur Bildung einer ebenen Matrizenoberfläche eingeebnet werden {F i g. 18).
6. Verfahren nach Anspruch 3 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Vertiefungen galvanisch im
Überschuß ausgefüllt werden und durch eine Bearbeitungsoperation, insbesondere Schleifen, auf
die Höhe der Abdeckschicht eingeebnet werden.
7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche des Grundkörpers mit
einer Schicht aus nichtleitendem Material abgedeckt wird und hierauf die Vertiefungen durch die
Abdeckschicht hindurch in den Grundkörper eingeprägt und galvanisch ausgefüllt werden, worauf die
Schicht entfernt und die entstehenden vertieften Partien zur Bildung einer ebenen Matrizenoberflä
che mit einem nichtleitenden Material ausgefüllt werden.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH1733072A CH591570A5 (de) | 1972-11-28 | 1972-11-28 | |
| CH1733072 | 1972-11-28 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2353692A1 DE2353692A1 (de) | 1974-05-30 |
| DE2353692B2 true DE2353692B2 (de) | 1977-05-18 |
| DE2353692C3 DE2353692C3 (de) | 1978-01-12 |
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ID=
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| CA1012483A (en) | 1977-06-21 |
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| ES420372A1 (es) | 1976-04-16 |
| DE2353692A1 (de) | 1974-05-30 |
| AR203828A1 (es) | 1975-10-31 |
| CH591570A5 (de) | 1977-09-30 |
| IT1001734B (it) | 1976-04-30 |
| NL158559B (nl) | 1978-11-15 |
| NL7316250A (de) | 1974-05-30 |
| FR2208001B1 (de) | 1977-06-10 |
| BR7309197D0 (pt) | 1974-08-29 |
| AT323496B (de) | 1975-07-10 |
| IN142202B (de) | 1977-06-11 |
| FR2208001A1 (de) | 1974-06-21 |
| JPS5143981B2 (de) | 1976-11-25 |
| GB1441597A (en) | 1976-07-07 |
| JPS4987536A (de) | 1974-08-21 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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