DE2329208A1 - Photolack - Google Patents

Photolack

Info

Publication number
DE2329208A1
DE2329208A1 DE19732329208 DE2329208A DE2329208A1 DE 2329208 A1 DE2329208 A1 DE 2329208A1 DE 19732329208 DE19732329208 DE 19732329208 DE 2329208 A DE2329208 A DE 2329208A DE 2329208 A1 DE2329208 A1 DE 2329208A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
resin
photoresist
photosensitive
weight
acrylic resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19732329208
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Carl W Christensen
Calvin M Isaacson
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shipley Co Inc
Original Assignee
Shipley Co Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shipley Co Inc filed Critical Shipley Co Inc
Publication of DE2329208A1 publication Critical patent/DE2329208A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0233Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
DE19732329208 1972-06-12 1973-06-07 Photolack Pending DE2329208A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US26198272A 1972-06-12 1972-06-12

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2329208A1 true DE2329208A1 (de) 1974-01-03

Family

ID=22995688

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19732329208 Pending DE2329208A1 (de) 1972-06-12 1973-06-07 Photolack

Country Status (6)

Country Link
JP (1) JPS5114042B2 (enExample)
BE (1) BE800708A (enExample)
DE (1) DE2329208A1 (enExample)
FR (1) FR2188193A1 (enExample)
GB (1) GB1440244A (enExample)
NL (1) NL7307936A (enExample)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2403054A1 (de) * 1972-07-27 1975-07-31 Hoechst Ag Lichtempfindliches schichtuebertragungsmaterial
DE3107526A1 (de) * 1980-03-01 1981-12-24 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd., Tokyo Lichtempfindliche harzzusammensetzungen

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57173941A (en) * 1981-04-21 1982-10-26 Oki Electric Ind Co Ltd Formation of positive type photo resist pattern
JP2593305B2 (ja) * 1987-02-02 1997-03-26 日本ペイント株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物
US4999274A (en) * 1987-02-02 1991-03-12 Nippon Paint Co., Ltd. Positive type photosensitive resinous composition with 1,2 quinone diazide sulfonyl unit
DE69033938T2 (de) * 1989-12-01 2002-07-18 Tosoh Corp., Shinnanyo Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzungen zur Herstellung von Linsen
EP1143298A1 (en) * 1999-10-07 2001-10-10 Clariant International Ltd. Photosensitive composition
JP4213366B2 (ja) * 2001-06-12 2009-01-21 Azエレクトロニックマテリアルズ株式会社 厚膜レジストパターンの形成方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2403054A1 (de) * 1972-07-27 1975-07-31 Hoechst Ag Lichtempfindliches schichtuebertragungsmaterial
DE3107526A1 (de) * 1980-03-01 1981-12-24 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd., Tokyo Lichtempfindliche harzzusammensetzungen

Also Published As

Publication number Publication date
NL7307936A (enExample) 1973-12-14
GB1440244A (en) 1976-06-23
BE800708A (fr) 1973-10-01
FR2188193A1 (enExample) 1974-01-18
JPS4957055A (enExample) 1974-06-03
JPS5114042B2 (enExample) 1976-05-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0031592B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares Kopiermaterial
EP0266654B1 (de) Lichtempfindliches Gemisch, dieses enthaltendes Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von positiven oder negativen Reliefkopien unter Verwendung dieses Materials
DE1447919C3 (de) Beschichtungslösung und damit hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial
DE69125580T2 (de) Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung für negative Elektrobeschichtung
DE2623790C3 (de) Lichtempfindliches Gemisch für die Erzeugung von Ätzschutzschichten
DE1622301B1 (de) Mit Alkali entwickelbare Kopierschicht
EP0001254B1 (de) Positiv arbeitende lichtempfindliche Kopiermasse enthaltend ein halogeniertes Naphthochinondiazid
DE2733267C2 (de) Photolack
DE2616992C3 (de) Lichtempfindliches Kopiermaterial zur Herstellung von Reliefs
DE3118039A1 (de) Photosensitives material und verfahren zu seiner herstellung
EP0069966B1 (de) Lichtempfindliches Gemisch auf Basis von o-Naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial
DE3807406A1 (de) Verfahren zur herstellung einer lichtempfindlichen lithographischen platte
EP0051185B1 (de) Lichtempfindliches Gemisch und damit hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial
EP0078981A2 (de) Lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial
DE2329208A1 (de) Photolack
DE2935904A1 (de) Positiv arbeitende photopolymerisierbare formmassen und ihre verwendung zur herstellung von druckplatten sowie aetzmittelbestaendigen resists
EP0211391A2 (de) Lichtempfindliches Gemisch und damit hergestelltes lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
EP0056092B1 (de) Lichtempfindliches Gemisch auf Basis von o-Naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial
DE2044233C3 (de) Photopolymerisierbare Verbindungen
DE1067219B (de) Verfahren zur Herstellung von durch Lichteinwirkung vernetzenden hochpolymeren Verbindungen
DE3037521A1 (de) Photopolymerisierbare masse
EP0263434B1 (de) Lichtempfindliches Gemisch und hieraus hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial
DE2407033C2 (de) Lichtvernetzbare Polymere und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE69904223T2 (de) Wasserlösliche positiv arbeitende photoresistzusammensetzung
DE3842896C2 (de) Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung