DE2326614A1 - Verfahren zum hermetischen abdichten eines behaelters, insbesondere des gehaeuses eines halbleiters, durch aufsetzen einer deckplatte und verfahren zum herstellen einer solchen deckplatte - Google Patents
Verfahren zum hermetischen abdichten eines behaelters, insbesondere des gehaeuses eines halbleiters, durch aufsetzen einer deckplatte und verfahren zum herstellen einer solchen deckplatteInfo
- Publication number
- DE2326614A1 DE2326614A1 DE2326614A DE2326614A DE2326614A1 DE 2326614 A1 DE2326614 A1 DE 2326614A1 DE 2326614 A DE2326614 A DE 2326614A DE 2326614 A DE2326614 A DE 2326614A DE 2326614 A1 DE2326614 A1 DE 2326614A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- cover plate
- ring
- container
- conductive
- electrodes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 22
- 238000007789 sealing Methods 0.000 title claims description 18
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001128 Sn alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGWWEXORQXHJJQ-UHFFFAOYSA-N [Fe].[Co].[Ni] Chemical compound [Fe].[Co].[Ni] KGWWEXORQXHJJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- JVPLOXQKFGYFMN-UHFFFAOYSA-N gold tin Chemical compound [Sn].[Au] JVPLOXQKFGYFMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 229910000833 kovar Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67126—Apparatus for sealing, encapsulating, glassing, decapsulating or the like
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K1/00—Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
- B23K1/0004—Resistance soldering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/161—Cap
- H01L2924/163—Connection portion, e.g. seal
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49121—Beam lead frame or beam lead device
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49124—On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
- Y10T29/4913—Assembling to base an electrical component, e.g., capacitor, etc.
- Y10T29/49144—Assembling to base an electrical component, e.g., capacitor, etc. by metal fusion
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Fuses (AREA)
- Casings For Electric Apparatus (AREA)
- Connection Of Batteries Or Terminals (AREA)
- Manufacturing Of Electrical Connectors (AREA)
Description
23. Mai 1973 Stuttgart (0711)355539
359619
1 naha. Telegramme Patentschutz
Norman Hascoe, 156 Country Ridge Drive Portchester,
County of Westchester, Kew York 10573, V.St.A.
Verfahren zum, hermetischen Abdichten eines Behälters,
insbesondere des Gehäuses eines Halbleiters, durch Aufsetzen
einer Deckplatte und Verfahren zum Herstellen einer solchen
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum hermetischen
Abdichten eines Behälters, insbesondere des Gehäuses eines Halbleiters, durch Aufsetzen einer Deckplatte
und ein Verfahren zum Herstellen einer solchen Deckplatte.
Es ist bekannt, Halbleiter in Hohlräumen von metallischen oder keramischen, als Gehäuse dienenden Behältern hermetisch
zu verschließen, um sie vor schädlichen atmosphärischen Einflüssen und mechanischen Einwirkungen zu schützen. In
Fällen, in denen keramische Behälter als Gehäuse verwendet werden, ist es üblich, in den Behälter., der den den Halbleiter
enthaltenen Hohlraum umschließt, einen metallischen Ring einzubetten oder einzuschmelzen.
Man ist dazu bislang folgendermassen vorgegangen: Der Kalbleiter
wird in den dicht zu verschließenden Hohlraum eingebracht und abgedeckt, wobei vorher auf das Gehäuse ein ent-
- 2
3Ό9851/Ό825
sprechend geformter Ring aus schmelzbarem Material, beispielsweise
aus einer eutektischen Lötmittel-Legierung ,. aus Gold und Zinn, aufgelegt wird. Bei keramischen Behältern
wird der vorgenannte Ring aus hochschmelzbarem Material mit dem in den Behälter eingebetteten metallischen Ring
ausgerichtet.Anschließend werden die dermaßen zusammengefügten Teile erhitzt, um den Lötmittel-Ring mit der Deckplatte
und dem Behälter zu verschmelzen.
Das Material des Lötmittelringes kann spröde sein,und seine
Abmessungen sind so gering, daß er sehr brüchig und beim Zusammenfügen außerordentlich schwer zu handhaben ist. Wegen
der umständlichen Handhabung solcher abdichtenden "Ringe ist es bislang auch schwierig, den Ring,den Umfang der Deckplatte
und den Hohlraum:, in den die Halbleiter eingebracht werden, genau gegeneinander auszurichten. Als Folge hiervon
ergibt sich - allein durch Schäden an der .hermetischen Abdichtung
bei der Herstellung von Halbleitern eine beachtliche Ausschußmenge. '
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde·, unter Vermeidung
der geschilderten Nachteile Halbleiter auf sichere und rationelle Weise hermetisch abzuschließen.
Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß zunächst eine Deckplatte zum hermetischen Abdichten eines Behälters,
insbesondere des Gehäuses eines Halbleiters dadurch hergestellt wird, daß ein entsprechend geformter, abdichtender
Ring aus schmelzbarem Material auf die Deckplatte genau mit deren Umfang abschließend aufgelegt wird und daß der Ring an
einer Anzahl auseinanderliegender Punkte örtlich bis zur Schmelztemperatur erhitzt wird, derart,daß an jedem dieser
Punkte eine wirksame Verbindung zwischen dem Ring und__ der
Deckplatte erzeugt wird.
Gemäß weiterer Erfindung wird ein Behälter, insbesondere das Gehäuse eines Kalbleiters durch Aufsetzen einer in der vor-
309851 /ÜS2S
— 3 —
23
genannten Weise hergestellter Deckplatte dadurch abgedichtet, daß die .den Ring tragende Deckplatte mit dem Behälter zusammengefügt
wird, wobei sich der Ring auf den den Hohlraum entauflegt
haltenden Behälter/und die zusammengefügten Teile bxs zu einer zum Verschmelzen des Ringes mit der Deckplatte und dem Behälter ausreichenden Temperatur erhitzt werden.
haltenden Behälter/und die zusammengefügten Teile bxs zu einer zum Verschmelzen des Ringes mit der Deckplatte und dem Behälter ausreichenden Temperatur erhitzt werden.
In der Zeichnung, ist ein Ausführungsbeispiel des Gegenstandes der Erfindung dargestellt. Es zeigen:
Fig. 1 eine Vorrichtung zum Herstellen eines hermetisch
abgedichteten Behälters nach dem erfindungsgemässen Verfahren in einem Blockdiagramm,
Fig. 2 eine Vorrichtung zum Verbinden eines entsprechend
geformten Lötmittelringes mit einer Deckplatte für einen hermetisch abzuschließenden Behälter in perspektivischer
Darstellung und
Fig. 3 einen nach dem Verfahren gemäß der Erfindung hermetisch
abzudichtenden Halbleiter in auseinandergezogener Darstellung. ..
In Fig. 1 sind die drei wesentlichen Verfahrensschritte zum Hers-teilen eines hermetisch verschlossenen Behälters für
einen Kalbleiter schematisch dargestellt. In einer Vorrichtung 10 wird ein entsprechend geformter abdichtender
Ring 14, wie weiter unten beschrieben, mit einer Deckplatte 13 verbunden. In einer Vorrichtung 11 wird die Deckplatte
mit einem Gehäuse zusammengefügt und in.einer Vorrichtung 12, beispielsweise einem Brennofen, werden die zusammengefügten
Teile auf eine Temperatur erhitzt,bei der der abdichtende Ring 14 mit der Deckplatte 13 und dem Gehäuse verschmilzt,
so daß der hermetische Verschluß zustandekommt.
In Fig. 2 ist die Anwendung der Vorrichtung 10 nach Fig. 3 0 9 8 5 1/0826
dargestellt. Eine flache Deckplatte 13 mit einem aufgesetzten schmelzbaren, elektrisch leitenden Ring 14 ist in
eine flache Vertiefung 15 einer nichtleitenden Halterung eingesetzt. Die äusseren Abmessungen der Vertiefung 15
sind nur geringfügig größer als die der Deckplatte 13
und des Rings 14, um ein übereinstimmen der Lage des
Rings 14 mit. dem Umfang der Deckplatte 13 zu gewährleisten.
Die Deckplatte 13 kann beispielsweise aus einer unter dem Handelsnamen "Kovar" erhältlichen Kobalt-Nickel-Eisen-Legierung
hergestellt und etwa 0,25 mm dick sein. Der Ring 14 dagegen ist üblicherweise aus einer eutektischen Gold-Zinn-Legierung
hergestellt und rund 0,05 mm dick. Seine äußeren Abmessungen entsprechen denen der Deckplatte 13.
In der Zeichnung ist zur besseren Darstellung die Dicke der Deckplatte 13 und des Rings 14 stark vergrößert. Der
Ausdruck "Ring" ist hier und in den Ansprüchen in einem umfassenden Sinn benutzt. Er schließt alle Arten geschlossener
Schleifen aus leitfähigem Material ein, deren Gestalt dem Aussenumfang der Deckplatte 13 entspricht. In der
Regel ist dieser Umfang rund oder rechteckig.
Die zum Zusammenfügen bestimmte Vorrichtung nach Fig. 2 weist
ferner eine Anzahl auseinanderliegender, d.h. in einem gewissen
Abstand voneinander angeordneter Elektrodenpaare 17, 18 und 19,20 auf, wobei die Elektrode 20 in der Figur verdeckt
ist. Die Elektroden 17 bis 20 sind in Haltern 21 bis 24 verschieblich befestigt und werden von auf einer Betätigungsplatte
29 abgestützten und innerhalb der Halter 21 bis 24 angeordneten Federn 25 bis 28 nach unten gedrückt. Die Betätigungsplatte
29 ist mit einem Antriebszylinder 30 üblicher Bauart verbunden. Wenn der Antriebszylinder die Betätigungsplatte
29 nach unten drückt, so werden die Elektroden 17 bis 20 nachgiebig auf den abdichtenden Ring 14 gepresst,
und zwar alle mit etwa der gleichen Kraft.
309851/0 825
"5" 23266 U
Zwischen jedem Elektrodenpaar wird sodann ein besonderer
Stromimpuls erzeugt. So entsteht durch den Impulserzeuger ein Stromimpuls zwischen den Elektroden 17 und 18, wobei
der Impulserzeuger 31 über Anschlußklemmen 32 von einem Schalter 33 erregt wird. Entsprechend wird zwischen den
Elektroden 19 und 20 von dem Impulserzeuger 34, der über
die Anschlußklemmen 35 von einem.Schalter 36 erregt wird, ein Stromimpuls erzeugt. Es ist auch möglich, die Punktschweissung
unter Verwendung nur eines Impulserzeugers durchzuführen, von dem die Stromimpulse, wie oben geschildert,
in den Elektrodenpaaren erzeugt werden.
Nachdem die Deckplatte 13 und der abdichtende Ring 14, wie
in Fig. 2 dargestellt, in die Vertiefung 15 eingelegt sind, wird die Betätigungsplatte 29 durch den Antriebszylinder
30 nach unten gedrückt. Die Elektroden 17 bis 20 werden dabei an den Punkten 37 bis 40 federnd auf den Ring 14 gepresst.
Auf diese Weise fliesst dann der Strom von einer Elektrode eines Paars durch die Deckplatte und den abdichtenden
Ring 14 zu der anderen Elektrode. Tatsächlich teilt sich der Strompfad zwischen dem Ring 14 und der Deckplatte
13 auf, es fliesst aber genügend Strom durch den Berührungspunkt der Elektrode mit dem Ring 14, um, wie beschrieben,
eine Punktschweissung des Rings 14 mit der Deckplatte 13 zu bewerkstelligen. Würde man alle Elektroden
"gleichzeitig mit einem einzigen Impulserzeuger verbinden,
so würde sich der Strom auf die verschiedenen Strompfade
zwischen den Elektroden entsprechend den unterschiedlichen Widerständen aufteilen. Einige der Elektroden würde dann
ein stärkerer Strom durchfliessen als andere t und einige
würden dann keine einwandfreie Punktschweissung ergeben.
Nachdem der Ring 14 mit der Deckplatte 13, wie eben beschrieben,
verbunden worden ist, wird durch eine Leitung und eine Bohrung 42 in der Halteplatte 16 auf die Unterseite
der Deckplatte 13 ein Luftstrom aufgegeben, um die Deckplatte
13 aus der Vertiefung 15 und beispielsweise in den
309851/082S ■ ■
Auffangtrichter einer automatischen Montagevorrichtung auszuwerfen.
In Fig. 3 wird das Verfahren zum Verbinden der Baueinheit
Deckplatte-Ring 13-14 mit einem Behälter 43 erläutert, der einen Hohlraum 44 mit einem darin enthaltenen Halbleiter
45 aufweist. Der Behälter 43 wird von einer größeren Halteplatte 46 getragen, die aus keramischem Material bestehen
kann, und weist in die Halteplatte 46 eingebettete Anschlußstifte 47,48 auf, die in den Zuführungsdrähten
für die Halbleiter 45 enden. Der Behälter 43 kann entweder aus keramischem Material oder aus Metall bestehen. Falls
er aus keramischem Material besteht, ist in ihn um den Hohlraum 44 herum ein leitender Ring 49 eingeschmolzen.
Die in Fig. 3 dargestellten zusammengefügten Teile werden, nachdem die Deckplatte 13 aufgesetzt ist, durch einen geeigneten
Bandofen hindurchgeführt (Vorrichtung 12 in Fig. 1) ,
um den abdichtenden Ring T 4 zum Schmelzen zu bringen. Hierbei wird der im Holraum 44 enthaltene Halbleiter 45 hermetisch
abgeschlossen.
Die Vorteile des beschriebenen Verfahrens liegen insbesondere darin, daß ein Hantieren des vorgeformten abdichtenden
Ringes 14 vermieden wird, da die Deckplatte 13 stabil
genug ist, um den Ring 14 aufzunehmen. Ferner ist es nicht mehr möglich, daß der abdichtende Ring 14 während der Abdichtvorgänge
aus seiner genauen Lage zwischen der Deckplatte 13 und dem äusseren Umfang des Hohlraums im Gehäusekörper
herausrutscht. Des weiteren besteht nur noch eine geringe Wahrscheinlichkeit, daß Verunreinigungen in den abzudichtenden
Bereich eindringen. Das erfindungsgemässe Verfahren ist außerdem erheblich wirtschaftlicher als bekannte Verfahren,
da es weniger Handarbeit erfordert, eine bessere Ausbeute und wegen der besseren Ausrichtung der Teile eine
309851/0 826 ~?~
verbesserte Herstellung sowie geringeren Ausschuß ergibt.
Es erleichtert auch die Automatisierung der für das Zusammenfügen der Teile erforderlichen Arbeitsgänge mit
den damit verbundenen wirtschaftlichen Vorteilen.
30985 1/082 5
Claims (10)
- Patentansprüche1J Verfahren zum Herstellen einer Deckplatte zum hermetischen Abdichten eines Behälters, insbesondere des Gehäuses eines Halbleiters,dadurch gekennzeichnet, daß ein entsprechend geformter, abdichtender Ring (14) aus schmelzbarem Material auf die Deckplatte (13),genau mit deren Umfang abschließend, aufgelegt wird und daß der Ring (14) an einer Anzahl auseinanderliegender Punkte (37 bis 40) örtlich bis zur Schmelztemperatur erhitzt wird, derart, daß an jedem dieser Punkte (37 bis 4O) eine wirksame Verbindung zwischen dem Ring (14) und der Deckplatte (13) erzeugt wird.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,daß das örtliche Erhitzen des Ringes (14) durch eine Anzahl auseinanderliegender, wärmeerzeugender Elemente (17 bis 20) bewirkt wird.
- 3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zum örtlichen Erhitzen des Rings (14) dieser gegen eine Anzahl auseinanderliegender Elektroden (17 bis 20) angelegt und durch jede dieser Elektroden (17 bis 20), den leitenden Ring (14) und die leitende Deckplatte (13) ein Stromimpuls gesandt wird.3 09851/0826
- 4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die leitende Deckplatte (13) zusammen mit einem aufgelegten, entsprechend geformten leitenden Ring (14) in .eine flache Vertiefung (15) einer Halterung (16) eingebracht wird, wobei die Vertiefung (15) nur geringfügig größere Abmessungen als die Deckplatte (13) aufweist» ■
- 5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß nach der Herstellung der Verbindung ein Luftstrahl auf den Boden der Vertiefung (15) gerichtet wird, um die Deckplatte (13) aus der Vertiefung (15) auszuwerfen.
- 6. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß eine Anzahl auseinanderliegender Elektrodenpaare (17,18.; 19,20) vorgesehen ist, wobei durch jedes Elektrodenpaar ein besonderer Stromimpuls gegeben wird.
- 7. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß jede der Elektroden (17 bis 20) mit im wesentlichen gleichem Kontaktdruck federnd gegen den Ring (14) anliegen,
- 8. Verfahren zum.hermetischen Abdichten eines Behälters, insbesondere des Gehäuses eines Halbleiters-, durch Aufsetzen einer nach einem der vorstehenden Ansprüche hergestellten Deckplatte, dadurch gekennzeichnet, daß die den Ring (14) tragende. Deckplatte (13) mit dem Behälter (43) zusammengefügt wird, wobei sich der Ring (14) auf den den Hohlraum (44) enthaltenden Behälter (43) auflegt und die zusammengefügten Teile bis zu einer zum Verschmelzen des Rings (14) mit der Deckplatte (13) und dem Behälter (43) ausreichenden Temperatur erhitzt werden.- 10 -309851/U82b2328614
- 9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß gegenüber einem weiteren leitenden Ring (49) , der mit dem den Hohlraum (44) umschließenden Behälter (43) aus keramischem Material verschmolzen ist,die den Ring (14) tragende Deckplatte (13) an ■: dem Behälter (43) derart'^ angebracht wird, daß die leitenden Ringe (14,49) fluchten.
- 10. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die den Ring (14) tragende Deckplatte (13) unmittelbar mit dem metallischen Behälter (43) zusammengefügt wird, derart, daß der Ring (14) den Hohlraum (44) des Behälters (43) umgibt.309851/U82b
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US00257390A US3823468A (en) | 1972-05-26 | 1972-05-26 | Method of fabricating an hermetically sealed container |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2326614A1 true DE2326614A1 (de) | 1973-12-20 |
DE2326614B2 DE2326614B2 (de) | 1979-11-08 |
DE2326614C3 DE2326614C3 (de) | 1980-07-24 |
Family
ID=22976114
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2366284A Expired DE2366284C2 (de) | 1972-05-26 | 1973-05-25 | Verfahren zum Verschließen eines Halbleiterbauelementgehäuses |
DE2326614A Expired DE2326614C3 (de) | 1972-05-26 | 1973-05-25 | Verfahren zum Herstellen einer Deckplatteneinheit zum hermetischen Abschließen eines Halbleiterbauelementgehäuses |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2366284A Expired DE2366284C2 (de) | 1972-05-26 | 1973-05-25 | Verfahren zum Verschließen eines Halbleiterbauelementgehäuses |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3823468A (de) |
JP (2) | JPS5636577B2 (de) |
CA (1) | CA966556A (de) |
DE (2) | DE2366284C2 (de) |
GB (1) | GB1391383A (de) |
NL (1) | NL169044C (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0092944A1 (de) * | 1982-04-24 | 1983-11-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Verfahren zum Einkapseln von elektronischen Teilen |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2227182B2 (de) * | 1973-01-26 | 1979-01-19 | Usinor | |
JPS5197978A (en) * | 1975-02-25 | 1976-08-28 | Shusekikairono patsukeejino shiiringuyosuzuro | |
US4117300A (en) * | 1977-04-05 | 1978-09-26 | Gte Sylvania Incorporated | Redundant welding method for metal battery containers |
IT1160700B (it) * | 1977-10-25 | 1987-03-11 | Bfg Glassgroup | Pannelli |
JPS6011644Y2 (ja) * | 1978-12-28 | 1985-04-17 | 富士通株式会社 | 半導体装置 |
US4280039A (en) * | 1979-01-12 | 1981-07-21 | Thomas P. Mahoney | Apparatus for fabricating and welding core reinforced panel |
US4190176A (en) * | 1979-01-23 | 1980-02-26 | Semi-Alloys, Inc. | Sealing cover unit for a container for a semiconductor device |
US4232814A (en) * | 1979-06-14 | 1980-11-11 | Semi-Alloys, Inc. | Method and apparatus for fabricating a sealing cover unit for a container for a semiconductor device |
US4291815B1 (en) * | 1980-02-19 | 1998-09-29 | Semiconductor Packaging Materi | Ceramic lid assembly for hermetic sealing of a semiconductor chip |
US4572924A (en) * | 1983-05-18 | 1986-02-25 | Spectrum Ceramics, Inc. | Electronic enclosures having metal parts |
EP0160222B1 (de) * | 1984-04-30 | 1993-01-20 | AlliedSignal Inc. | Nickel/Indium-Legierung für die Herstellung eines hermetisch verschlossenen Gehäuses für Halbleiteranordnungen und andere elektronische Anordnungen |
US4666796A (en) * | 1984-09-26 | 1987-05-19 | Allied Corporation | Plated parts and their production |
US4601958A (en) * | 1984-09-26 | 1986-07-22 | Allied Corporation | Plated parts and their production |
JPS61204953A (ja) * | 1985-03-08 | 1986-09-11 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ハ−メチツクシ−ルカバ−及びその製造方法 |
US4640438A (en) * | 1986-03-17 | 1987-02-03 | Comienco Limited | Cover for semiconductor device packages |
US4852250A (en) * | 1988-01-19 | 1989-08-01 | Microelectronics And Computer Technology Corporation | Hermetically sealed package having an electronic component and method of making |
US5639014A (en) * | 1995-07-05 | 1997-06-17 | Johnson Matthey Electronics, Inc. | Integral solder and plated sealing cover and method of making same |
US6390353B1 (en) | 1998-01-06 | 2002-05-21 | Williams Advanced Materials, Inc. | Integral solder and plated sealing cover and method of making the same |
US6958446B2 (en) * | 2002-04-17 | 2005-10-25 | Agilent Technologies, Inc. | Compliant and hermetic solder seal |
JP3776907B2 (ja) * | 2003-11-21 | 2006-05-24 | ローム株式会社 | 回路基板 |
WO2012033040A1 (ja) * | 2010-09-06 | 2012-03-15 | 本田技研工業株式会社 | 溶接方法及びその装置 |
JP7138026B2 (ja) * | 2018-11-28 | 2022-09-15 | 京セラ株式会社 | 光学装置用蓋体および光学装置用蓋体の製造方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL225331A (de) * | 1957-03-01 | 1900-01-01 | ||
US2979599A (en) * | 1959-05-12 | 1961-04-11 | Air Reduction | Multiple electrode holder |
US3141226A (en) * | 1961-09-27 | 1964-07-21 | Hughes Aircraft Co | Semiconductor electrode attachment |
US3266137A (en) * | 1962-06-07 | 1966-08-16 | Hughes Aircraft Co | Metal ball connection to crystals |
US3340602A (en) * | 1965-02-01 | 1967-09-12 | Philco Ford Corp | Process for sealing |
US3415973A (en) * | 1966-02-08 | 1968-12-10 | Budd Co | Method of welding sheet material |
US3538597A (en) * | 1967-07-13 | 1970-11-10 | Us Navy | Flatpack lid and method |
US3579817A (en) * | 1969-05-21 | 1971-05-25 | Alpha Metals | Cover for coplanar walls of an open top circuit package |
US3648357A (en) * | 1969-07-31 | 1972-03-14 | Gen Dynamics Corp | Method for sealing microelectronic device packages |
-
1972
- 1972-05-26 US US00257390A patent/US3823468A/en not_active Expired - Lifetime
-
1973
- 1973-03-27 CA CA167,138A patent/CA966556A/en not_active Expired
- 1973-04-18 GB GB1867173A patent/GB1391383A/en not_active Expired
- 1973-04-27 NL NLAANVRAGE7305997,A patent/NL169044C/xx not_active IP Right Cessation
- 1973-05-25 DE DE2366284A patent/DE2366284C2/de not_active Expired
- 1973-05-25 DE DE2326614A patent/DE2326614C3/de not_active Expired
- 1973-05-25 JP JP5790273A patent/JPS5636577B2/ja not_active Expired
-
1977
- 1977-02-17 JP JP1664277A patent/JPS52132676A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0092944A1 (de) * | 1982-04-24 | 1983-11-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Verfahren zum Einkapseln von elektronischen Teilen |
US4517738A (en) * | 1982-04-24 | 1985-05-21 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | Method for packaging electronic parts |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL7305997A (de) | 1973-11-28 |
JPS5636577B2 (de) | 1981-08-25 |
JPS4943578A (de) | 1974-04-24 |
CA966556A (en) | 1975-04-22 |
NL169044C (nl) | 1982-06-01 |
DE2366284C2 (de) | 1982-12-23 |
DE2326614C3 (de) | 1980-07-24 |
US3823468A (en) | 1974-07-16 |
JPS52132676A (en) | 1977-11-07 |
GB1391383A (en) | 1975-04-23 |
JPS5749142B2 (de) | 1982-10-20 |
DE2326614B2 (de) | 1979-11-08 |
NL169044B (nl) | 1982-01-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2326614A1 (de) | Verfahren zum hermetischen abdichten eines behaelters, insbesondere des gehaeuses eines halbleiters, durch aufsetzen einer deckplatte und verfahren zum herstellen einer solchen deckplatte | |
DE2526037C3 (de) | Überspannungsableiter | |
DE3921990C2 (de) | ||
DE1514273B2 (de) | Halbleiteranordmng | |
DE2659871A1 (de) | Vakuumleistungsschalter und verfahren zu seiner herstellung | |
DE2413571A1 (de) | Waermebetaetigte kurzschlussvorrichtung | |
EP0248977A1 (de) | Elektrisches Anzündelement und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE2454605C2 (de) | Halbleiterbauelement | |
DE1054585B (de) | Halbleiterbauelement, z. B. Diode oder Transistor | |
DE3304263A1 (de) | Glasschmelzsicherungen sowie verfahren zu ihrer herstellung | |
DE1138486B (de) | Verfahren zum hermetischen Verschliessen eines Gehaeuses, das ein Halbleiter-Bauelement umschliesst | |
DE2646233A1 (de) | Schweissgeraet | |
EP0410211A1 (de) | Verfahren zur Herstellung einer elektrisch leitenden Verbindung zwischen Kupferlackdrähten und Anschlusselementen | |
EP0057006B1 (de) | Elektrische Glühlampe | |
DE2103057C2 (de) | Verfahren zur Befestigung von Elektrodenelementen an Anschlußstiften einer Gasentladungsanzeigevorrichtung | |
EP3200568B1 (de) | Batteriebrücke und verfahren zum aktivieren einer elektronischen vorrichtung | |
DE2735468A1 (de) | Verfahren zur herstellung einer passiven elektro-optischen anzeigezelle | |
DE3532472A1 (de) | Mehrteilige leitungsdurchfuehrung durch einen isolator | |
DE1813164A1 (de) | Verfahren zum Herstellen von Leitungsverbindungen an elektronischen schaltelementen | |
DE2809423C2 (de) | Verfahren zum Herstellen eines elektrischen Kondensators | |
DE1564856C3 (de) | Verfahren zum Auflöten von Halbleiterbauelementen auf Kontaktfinger eines Kontaktierungsstreifens | |
DE1540270C (de) | Verfahren zum Befestigen radialer Stromzufuhrungsdrahte an metallenen Kap pen elektrischer Bauelemente | |
EP0637380B1 (de) | Verfahren zur herstellung von elektrochemischen fühlern, sowie elektrochemischer fühler | |
DE1564476C3 (de) | Verfahren zum Montieren eines Elektronenstrahlerzeugungssystems | |
DE923446C (de) | Verfahren zur Herstellung einer Metalldurchfuehrung fuer Entladungsroehren aus Quarz, insbesondere fuer Kurzwellenroehren |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OGA | New person/name/address of the applicant | ||
OI | Miscellaneous see part 1 | ||
OI | Miscellaneous see part 1 | ||
OI | Miscellaneous see part 1 | ||
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
AH | Division in |
Ref country code: DE Ref document number: 2366284 Format of ref document f/p: P |
|
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: ALLIED CORP., MORRIS TOWNSHIP, N.J., US |
|
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: RUEGER, R., DR.-ING. BARTHELT, H., DIPL.-ING., PAT.-ANW., 7300 ESSLINGEN |
|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |