DE1514273B2 - Halbleiteranordmng - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 33
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 30
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 28
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims 5
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims 4
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 claims 1
- 230000009969 flowable effect Effects 0.000 claims 1
- 210000001061 forehead Anatomy 0.000 claims 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 claims 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 claims 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-OUBTZVSYSA-N iron-52 Chemical compound [57Fe] XEEYBQQBJWHFJM-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
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- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
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- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
- H01L23/49861—Lead-frames fixed on or encapsulated in insulating substrates
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/4501—Shape
- H01L2224/45012—Cross-sectional shape
- H01L2224/45014—Ribbon connectors, e.g. rectangular cross-section
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/4912—Layout
- H01L2224/49171—Fan-out arrangements
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- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L24/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
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- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
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- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01019—Potassium [K]
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/095—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00 with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials provided in the groups H01L2924/013 - H01L2924/0715
- H01L2924/097—Glass-ceramics, e.g. devitrified glass
- H01L2924/09701—Low temperature co-fired ceramic [LTCC]
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- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/14—Integrated circuits
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/161—Cap
- H01L2924/1615—Shape
- H01L2924/16152—Cap comprising a cavity for hosting the device, e.g. U-shaped cap
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Description
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sondere, daß das genaue Anordnen der einzelnen nung auf der Grundplatte vorteilhaft aufbauen kann.
Leiter auf der Grundplatte zeitraubend und umstand- Dies erfolgt durch Anfügen eines Halbleiterelemen-
lich ist. Eine rationelle Serienfertigung ist auf diese tes 13 an die Metallplatte 3 und durch elektrischen
Weise nicht möglich, insbesondere dann nicht, wenn Anschluß der Elektrodenklemmen des Elementes 13
mehrere dicht nebeneinanderliegende Leiter an- 5 mittels Verbindungsleitungen 4', 5', 6', 7', 8', 9', 10',
zuordnen sind. Das genaue Anordnen der einzelnen 11' und 12' an je einen Leiterschenkel 3', 4, 5, 6, 7,
Bauelemente ist deshalb recht schwierig. 8, 9, 10, 11 und 12, wobei die unter der Abschluß-
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung kappe 14 verdeckten Verbindungsleitungen 4', 8'
einer Halbleiteranordnung besteht deshalb darin, daß und 9' in der Zeichnung nicht dargestellt sind. Die
zunächst aus einem Leiterrahmen unter Stehenlassen ίο aus Glas, Keramik oder Metall bestehende Ab-
einer umlaufenden Randleiste die Leiterschenkel schlußkappe 14 besitzt einen glasartigen Stirnflansch
freigeschnitten werden, daß dann unter entsprechen- 15. Dieser besteht aus einem Glas mit einem Erwei-
der Erhitzung die Enden der Leiterschenkel in eine chungspunkt unter 500° C, das leicht an einem an-
Glasschicht auf einer Grundplatte eingebettet wer- deren Stoff anhaftet. Die Abschlußkappe ist mit der
den, daß nach Einbau eines Halbleiterelementes und 15 Grundplatte verbunden, wobei der Stirnflansch auf
Herstellung der Anschlußverbindungen eine Ab- der Oberfläche der Grundplatte aufsitzt und das EIe-
schlußkappe mit einem niedrig schmelzenden glasar- ment 13 umschließt. Die Anordnung wird dann auf
tigen Stirnflansch auf die Glasschicht der Grund- eine solche Temperatur erhitzt, daß der glasartige
platte aufgesetzt und unter Wärmeanwendung mit Stirnflansch 15 erweicht und das Element 13 dicht
derselben dicht verbunden wird und daß schließlich 20 einschließt, so daß man eine dicht abgeschlossene
die umlaufende Randleiste von den Leiterschenkeln Halbleiteranordnung erhält. Der gewünschte dichte
abgetrennt wird. Abschluß kann mit einem niedrig schmelzenden, in
Es ergibt sich somit eine rationelle Herstellung, da eine geeignete Form gebrachten Glasplättchen oder
der Leiterrahmen eine feste Halterung der Teile der einem niedrig schmelzenden Glaspulver erzielt wer-
Halbleiteranordnung ermöglicht. Mit dem erfin- 25 den, wenn das niedrig schmelzende Glas zur Erzie-
dungsgemäßen Verfahren ist es möglich, auch Schalt- lung eines dichten Abschlusses erhitzt wird,
kreise mit zahlreichen und dicht nebeneinanderlie- F i g. 2 zeigt einen Querschnitt längs der Linie
genden Leitern in verhältnismäßig einfacher Weise A-A' durch die Anordnung nach Fig. 1.
herzustellen, wobei es praktisch unmöglich ist, daß In F i g. 3 sind die Abschlußkappe 14 und das
die einzelnen Bauelemente während des Herstel- 30 Halbleiterelement 13 abgehoben, damit man das We-
lungsverfahrens verschoben werden. sen der Erfindung deutlich erkennen kann. Ein aus
Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus der Metall, beispielsweise einer 48 o/o-Eisen-52°/o-Nickel-
folgenden Beschreibung einer bevorzugten Ausfüh- Legierung, bestehender Leiterrahmen 2 ist beispiels-
rungsform in Verbindung mit den Zeichnungen. weise durch Stanzen oder Photogravierung so ge-
F i g. 1 ist eine teilweise aufgebrochene perspekti- 35 formt, daß von einer umlaufenden Randleiste gold-
vische Ansicht einer Halbleiteranordnung nach der plattierte Leiterschenkel 3', 3", 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11
Erfindung, und 12 sowie eine Metallplatte 3 mit jeweils geeigne-
Fig.2 ein Schnitt längs der Linie A-A' in Fig. 1 ter Abmessung nach innen stehen. Der Leiterrahmen
und 2 wird mit der Oberfläche abschließend in die Glas-
F i g. 3 eine auseinandergezogene perspektivische 40 platte bzw. Glasschicht eingebettet. Eine solche EinAnsicht
der Halbleiteranordnung. bettung kann beispielsweise durch Erhitzen der
Nach F i g. 1 besteht eine Grundplatte 1 aus Glas, Grundplatte 1, des Leiterrahmens 2 und einer Beeinem
entglasten Keramikstoff oder einem ähnlichen schwerung auf 860° C in einer Schutzatmosphäre erStoff
oder aus einer Keramikplatte oder einer auf je- zielt werden, wobei die in einer Einspannvorrichtung
der Seite mit einer Glasschicht überzogenen Metall- 45 gehaltene Beschwerung aus einem Stoff besteht, der
platte. Eine Metallplatte 3 mit Schenkeln 3' und 3" an Glas nicht haftet. Dabei befindet sich die Grundsowie
Leiterschenkeln 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11 und 12 platte fußseitig, und die an dem Leiterrahmen 2 anist
in die Grundplatte 1 bei einer Temperatur ober- liegende Glasschicht übt zusammen mit der Behalb
des Erweichungspunktes des Glases eingebettet, schwerung einen ausreichenden Druck auf den Rahso
daß man einen Grundkörper erhält. Die Metall- 50 men 2 aus. Nach dem elektrischen Anschluß und
platte 3 und die Schenkel 3', 3", 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, dichten Einschluß des Halbleiterelementes wird die
11 und 12 sind in die Glasschicht der Grundplatte 1 Randleiste des Leiterrahmens abgeschnitten, und die
so fest eingebettet, daß man eine Halbleiteranord- Anordnung ist fertig.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (4)
1. Luftdicht gekapselte Halbleiteranordnung, dem, muß man den Abstand der Anschlußleiter vonbei
der auf einer isolierenden Grundplatte meh- 5 einander vergleichsweise groß wählen. Darüber hinrere
metallische Anschlußleiter sowie mindestens aus ist das Halbleiterelement gegenüber Schwingunein
Halbleiterelement angeordnet und von einer gen empfindlich, da es gegenüber der Grundplatte
Abschlußkappe abgedeckt sind, deren Stirnrand nicht ausreichend fest fixiert ist. Durch das bloße
unter Zwischenlage eines durch Wärme beein- Ubereinandersetzen von Grundplatte, Anschlußleiter
flußbaren Bindemittels dicht gegenüber der io und Halbleiter erhält die bekannte Halbleiteranord-Grundplatte
abgeschlossen ist, dadurch ge- nung eine vergleichsweise große Bauhöhe. Schließkennzeichnet,
daß die Anschlußleiter (3', Hch muß, da die Anschlußleiter auf der Grundplatte
4, 5... 12) sowie eine Metallplatte (3) in eine aufsitzen, die Abschlußkappe offenbar mit hohem
Glasüberzugsschicht der Grundplatte (1) glatt mit Druck aufgebracht werden, damit ein dichter Abder
Glasoberfläche abschließend eingebettet sind, 15 schluß erzielt wird.
daß das Halbleiterelement (13) mit der Rück- Aufgabe der Erfindung ist es, eine luftdicht gekap-
fläche auf der Metallplatte (3) aufsitzt und daß selte Halbleiteranordnung zu schaffen, bei der sich
als Bindemittel ein niedrig schmelzendes Glas auch bei Anwendung einer Serienfertigungstechnik
(15) vorliegt. elektrisch und mechanisch beanstandungsfreie Bau-
2. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1, 20 elemente ergeben und bei der die mechanischen
dadurch gekennzeichnet, daß auf den Stirn- Eigenschaften sowohl die Schwingungsfestigkeit als
rand der Abschlußkappe ein Stirnflansch (15) in auch die sichere Abdichtung des Innenraumes umForm
eines niedrig schmelzenden Glasplättchens fassen.
aufgezogen ist. Diese Aufgabe wird gemäß der Erfindung dadurch
3. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1, da- 25 gelöst, daß die Anschlußleiter sowie eine Metalldurch
gekennzeichnet, daß auf den Stirnrand der platte in eine Glasüberzugsschicht der Grundplatte
Abschlußkappe eine Glaspulverschicht mit nied- glatt mit der Glasoberfläche abschließend eingebettet
rigem Schmelzpunkt aufgetragen ist. sind, daß das Halbleiterelement mit der Rückfläche
4. Verfahren zur Herstellung einer Halbleiter- auf der MetaIIplatre"aufsitzt und daß als Bindemittel
anordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, 30 ein niedrig schmelzendes Glas vorliegt.
dadurch gekennzeichnet, daß zunächst aus einem Die erfindungsgemäße Anordnung weist den Vor-Leiterrahmen
unter Stehenlassen einer umlaufen- teil auf, daß die Einbettung der Anschlußleiter in die
den Randleiste die Leiterschenkel freigeschnitten Glasüberzugsschicht der Grundplatte einerseits eine
werden, daß dann unter entsprechender Erhit- mechanische Festlegung der Anschlußleiter mit sich
zung die Enden der Leiterschenkel in eine Glas- 35 bringt und andererseits ein Wegfließen des Lots beim
Schicht auf einer Grundplatte eingebettet werden, Anbringen der elektrischen Anschlüsse verhindert,
daß nach Einbau eines Halbleiterelementes und da das Lot gegenüber der Glasoberfläche nicht beHerstellung
der Anschluß verb indungen eine Ab- netzende Eigenschaften besitzt. Das Lot wird vielschlußkappe
mit einem niedrig schmelzenden mehr durch die Oberflächenspannung auf dem jeweiglasartigen
Stirnflansch auf die Glasschicht der 40 ligen Anschlußleiter tropfenförmig zusammengehal-Grundplatte
aufgesetzt und unter Wärmeanwen- ten. Es kann somit auf der Grundplatte eine wesentdung
mit derselben dicht verbunden wird und lieh höhere Leiterdichte vorgesehen werden. Zur Midaß
schließlich die umlaufende Randleiste von niaturisierung trägt auch die Tatsache bei, daß durch
den Leiterschenkeln abgetrennt wird. das Einbetten der Anschlußleiter eine geringere Bau-
45 höhe erreicht wird. Der Einbau einer besonderen Metallplatte zur Aufnahme des Halbleiterelements
erhöht ferner die mechanische Festigkeit, insbeson-
dere die Schwingungsfestigkeit beträchtlich. Schließlich erhält man durch die Anwendung eines niedrig
50 schmelzenden Glases als Bindemittel einen leicht
Die Erfindung betrifft eine luftdicht gekapselte herstellbaren dichten Abschluß, der sich beim Erhit-Halbleiteranordnung,
bei der auf einer isolierenden zen des Glases der Abschlußkappe ohne weiteres erGrundplatte
mehrere metallische Anschlußleiter so- gibt, da ihm eine ebene Gegenfläche gegenübersteht,
wie mindestens ein Halbleiterelement angeordnet nämlich die Glasoberfläche, in die die Anschlußleiter
und von einer Abschlußkappe abgedeckt sind, deren 55 fluchtend eingebettet sind. Druck muß für diesen
Stirnrand unter Zwischenlage eines durch Wärme be- dichten Abschluß nicht angewendet werden, so daß
einflußbaren Bindemittels dicht gegenüber der die Elemente der erfindungsgemäßen Anordnung
Grundplatte abgeschlossen ist. beim Aufsetzen und Verschließen der Abschluß-
Eine derartige Halbleiteranordnung ist durch die kappe nicht beschädigt werden.
US-PS 3 072 832 bekanntgeworden. Bei dieser be- 60 Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zur
kannten Halbleiteranordnung sind die Anschlußleiter Herstellung einer Halbleiteranordnung,
auf die isolierende Grundplatte lediglich aufgesetzt, Bei der bekannten Vorrichtung gemäß der US-PS
so daß deren Oberkanten die Oberfläche der Grund- 3 072 832 werden die im wesentlichen bandförmigen
platte überragen. Auf den einander zugewandten En- Leiter einzeln auf die isolierende Grundplatte aufge-
den der Anschlußleiter ist das Halbleiterelement auf- 65 legt und mit dieser verbunden. Danach wird der
gesetzt und so mit den Anschlußleitern verbunden. Halbleiter auf die Leiter gesetzt und mit diesen me-
Dadurch ist es bei der bekannten Halbleiteranord- chanisch und elektrisch verbunden und dann die Ab-
nung möglich, daß das Lot zum Anschließen der schlußkappe aufgesetzt. Nachteilig hieran ist insbe-
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4763664 | 1964-08-21 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1514273A1 DE1514273A1 (de) | 1969-04-03 |
DE1514273B2 true DE1514273B2 (de) | 1974-08-22 |
Family
ID=12780704
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1514273A Withdrawn DE1514273B2 (de) | 1964-08-21 | 1965-08-17 | Halbleiteranordmng |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3404319A (de) |
DE (1) | DE1514273B2 (de) |
GB (1) | GB1068208A (de) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
BHN | Withdrawal |