DE2315711B2 - Verfahren zum Kontaktieren einer integrierten Schaltungsanordnung - Google Patents

Verfahren zum Kontaktieren einer integrierten Schaltungsanordnung

Info

Publication number
DE2315711B2
DE2315711B2 DE2315711A DE2315711A DE2315711B2 DE 2315711 B2 DE2315711 B2 DE 2315711B2 DE 2315711 A DE2315711 A DE 2315711A DE 2315711 A DE2315711 A DE 2315711A DE 2315711 B2 DE2315711 B2 DE 2315711B2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
contacting
spider
frame
fingers
semiconductor body
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE2315711A
Other languages
English (en)
Other versions
DE2315711A1 (de
Inventor
Georg 7101 Obereisesheim Birglechner
Leonhard 7100 Heilbronn Botzenhardt
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Licentia Patent Verwaltungs GmbH
Original Assignee
Licentia Patent Verwaltungs GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Licentia Patent Verwaltungs GmbH filed Critical Licentia Patent Verwaltungs GmbH
Priority to DE2315711A priority Critical patent/DE2315711B2/de
Priority to JP49031423A priority patent/JPS49130687A/ja
Priority to US05/453,880 priority patent/US3967366A/en
Publication of DE2315711A1 publication Critical patent/DE2315711A1/de
Publication of DE2315711B2 publication Critical patent/DE2315711B2/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/34Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/39Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49517Additional leads
    • H01L23/49524Additional leads the additional leads being a tape carrier or flat leads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49537Plurality of lead frames mounted in one device
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/495Lead-frames or other flat leads
    • H01L23/49568Lead-frames or other flat leads specifically adapted to facilitate heat dissipation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/34Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/36Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
    • H01L24/37Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process of an individual strap connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/34Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/36Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/37Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process of an individual strap connector
    • H01L2224/37001Core members of the connector
    • H01L2224/37099Material
    • H01L2224/371Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/37138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/37147Copper [Cu] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/34Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/36Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/37Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process of an individual strap connector
    • H01L2224/3754Coating
    • H01L2224/37599Material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/838Bonding techniques
    • H01L2224/83801Soldering or alloying
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01029Copper [Cu]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01033Arsenic [As]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01079Gold [Au]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01082Lead [Pb]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49121Beam lead frame or beam lead device

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Kontaktieren einer integrierten Schaltungsanordnung mit Hilfe von zwei Kontaktierungsspinnen, die aus je einem Rahmen mit nach innen ragenden Kontaktierungsfingern bestehen, bei dem die Kontaktierungsfinger der ersten Kontaktierungsspinne mit den Anschlußelektroden des Halbleiterkörpers und Teile der ersten Kontaktierungsspinne mit Kontaktierungsfingern der zweiten Kontaktierungsspinne verbunden werden und die Kontaktierungsfinger der ersten Kontaktierungsspinne voneinander getrennt werden,
Durch die DE-AS 18 13 164 ist ein Verfahren zum Kontaktieren von integrierten Halbleiterbauelementen bekannt, bei dem die freien Enden der Kontaktierungsfinger einer ersten Kontaktierungsspinne an den Kontaktierungsfläcben der integrierten Halbleiterbauelemente befestigt werden. Anschließend wird eine zweite Kontaktierungsspinne mit ihren nach innen verlaufenden Kontaktierungsfingern auf die zugeordneten Kontaktzungen der ersten Kontaktierungsspinne ausgerichtet Schließlich werden die freien Enden der
is Kontaktierungsfinger der ersten Kontaktierungsspinne mit den Kontaktierungsfingern der zweiten Kontaktierungsspinne verbunden und die nicht für die Kontaktgabe mit dem integrierten Halbleiterbauelement benötigten Teile der ersten Kontaktierungsspinne entfernt.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum Kontaktieren von integrierten HaIbieiterschaitungsanordnungen anzugeben, weiches keine so genaue Justierung erfordert und mit geringerem Ausschluß arbeitet als das bekannte Verfahren.
Außerdem soll die im Halbleiterkörper erzeugte Verlustleistung rasch abgeführt werden.
Zur Lösung dieser Aufgabe wird bei einem Verfahren der eingangs erwähnten Art nach der Erfindung vorgeschlagen, daß der Halbleiterkörper mit seiner Rückseite auf einem in der zweiten Kontaktierungsspinne zentral angeordneten, als Wärmesenke ausgebildeten Trägerteil befestigt wird, daß danach die erste Kontaktierungsspinne so auf den Halbleiterkörper einjustiert wird, daß die freien Enden ihrer Kontaktierungsfinger mit den Anschlußelektroden des Halbleiterkörpers und Teile des Rahmens der ersten Kontaktierungsspinne mit den freien Enden der Kontaktierungsfinger der zweiten Kontaktierungsspinne verbunden werden, wonach die zwischen den Kontaktierungsfingern der zweiten Kontakticrung^plnne verlaufenden Teile des Rahmens der ersten Kontaktierungsspinne durchgetrennt werden.
Nach der Herstellung aller Verbindungsstellen und dem Auftrennen des Rahmens der ersten Kontaktie-
« rungsspinne wird der Halbleiterkörper mit einem Gehäuse umgeben.
Der Rahmen der ersten Kontaktierungsspinne ist vorzugsweise von einem zweiten Rahmen umgeben, wobei beide Rahmen durch Stege miteinander verbun-
w den sind.
Es empfiehlt sich, die Kontaktierungsfinger der zweiten Kontaktierungsspinne so vorzuprägen, daß durch ihren Verlauf der Höhenunterschied zwischen den Anschlußelektroden des Halbleiterkörpers und den Kontaktierungsfingern der zweiten Kontaktierungsspinne ausgeglichen wird. Das den Halbleiterkörper aufnehmende Trägerteil wird vorzugsweise so ausgebildet, daß über dieses Trägerteil die im Halbleiterkörper entstehende Wärme rasch abgeführt werden kann. Das Trägerteil verläuft vorzugsweise zentral im Inneren der zweiten Kontaktierungsspinne und verbindet zwei einander gegenüberliegende Seitenteile des Rahmens dieser Kontaktierungsspinne miteinander.
Die Erfindung wird im folgenden an einem Ausfüh-
hr· rungsbeispicl anhand der Figuren näher erläutert.
In der Fig. 1 ist die erste Kontaktierungsspinne 1 dargestellt. Diese Kontaktierungsspinne wurde in ein Metallband eingeätzt, das beispielsweise aus einer 35 bis
50 μη* starken Kupferfolie besteht. Der Rahmen 2 der Kontaktierungsspinne 1 weist in das Innere des Rahmens ragende Zungen 3 auf, deren freie Enden 6 zum drabtfreien Anschluß an die Elektroden eines Halbleiterkörpers vorgesehen sind. Der Rahmen 2 ist durch schmale Stege 4 mit den äußeren Seitenstegen des Metallbandes 1 und den Querstegen 5 verbunden. Durch die weitgehende Freiätzung des Rahmens 2 kann dieser Rahmen sehr leicht aus der Trägerfolie 1 herausgenommen werden. Bei dem in der F i g. 1 dargestellten Herstellungsstadium wurden die Kontaktierungsfinger 3 bereits durch einen Prägevorgang so mit einem Fragebogen versehen, daß die Enden 6 fiber die vom Rahmen 2 gebildete Fläche hochragen. Vor oder nach der Prägung werden der Rahmen 2 und die zugeordneten Kontaktierungsfinger 3 vorzugsweise verzinnt
In der F i g. 2 ist die größere, zweite Kontaktierungsspinne dargestellt, die beispielsweise in ein ca. 250 μΐη dickes Kupferband eingeätzt oder eingestanzt wurde. Auch der Rahmen 7 dieser Kontaktierungsspinne weist nach innen ragende Kontaktierungsfinger 8 auf, die sich außerhalb des Rahmens in den Anschiußzungen 12 fortsetzen. Durch das Innere des Rahmen* 7 verläuft parallel oder senkrecht zur Richtung der Kontaktierungsfinger ein Trägerteil 9, das die beiden einander gegenüberliegenden Seitenteile 13 des Rahmens miteinander verbindet und sogar über die Seitenteile hinausragt Das Trägerteil 9 ist re^'iv breit ausgebildet, so daß die im Halbleiterkörper entstehende Wärme gut abgeführt wird. Der Rahmen 7 wird völlig oder teilweise verzinnt 10. Danach wird der Halbleiterkörper 11 auf das Trägerteil 9 mit seiner Rückseite mit Hilfe des Zinns 10 aufgelötet Auf der Vorderseite des Halbleiterkörpers sind die meist aus Gold bestehenden Anschlußelektroden 14 des Halbleiterkörpers erkennbar. Die in das Innere des Rahmens ragenden Kontaktierungsfinger 8 sind so geformt daß ihre freien Enden möglichst in unmittelbarer Nähe der zugeordneten Anschlußelektroden des Halbleiterkörpers enden.
Die Stege 4 in F i g. 1 werden nun durchgetrennt und der Rahmen 2 der ersten Kontaktierungsspinne wird aus seinem Trägerstreifen herausgenommen und in. der in der F i g. 3 dargestellten Weise auf die Elektroden des Halbleiterkörpers einjustiert Dabei kommen die freien Enden 6 der Kontaktierungsfinger 3 mit den Elektroden 14 in Berührung, während der Rahmen 2 quer über die freien Enden der Kontaktierungsfinger 8 im Rahmsn der zweiten Kontaktierungsspinne verläuft. Nach der Justierung wird beispielsweise auf den Rahmen 2 und die Enden 6 ein Stempel aufgesetzt, der so erhitzt wird, daß sowohl die Kontaktierungsfingerenden 6 mit den Elektroden 14 als auch der Rahmen 2 mit den Kontaktierungsfingem 8 fest verbunden werden. Es ist auch möglich, daß die Verbindungsstellen an die Halbleiterelektroden bzw. an den Enden der Kontaktierungsfinger 8 nacheinander in beliebiger Reihenfolge hergestellt werden. Da beide Rahmen bereits verzinnt sind, dient dieses Zinn an den Stellen 15 als
Verbindungsmaterial zwischen den Rahmenteilen. Gemäß der Fig.4 wird der Rahmen 2 an den die
is Kontaktierungsfinger 8 überbrückenden Teilen durchgetrennt Dies geschieht beispielsweise mit einem Messer, einer Schere oder einem Meißel. Verwendet man beispielsweise einen Schneidrr.eiße!, so werden die über die Kontaktierungsfinger hinausragenden Teile des Rahinens 2 bei dem Freischneideprozeß zugleich nach unten abgebogen, so daß ^ eine Kurzschlüsse zwischen den einzelnen Kontaktieruujnfingern möglich sind.
Schließlich wird gemäß F i g. 5 der Halbleiterkörper
und alle Verbindungsstellen in ein Kunststoffgehäuse 17 eingegossen. Danach müssen noch die zwischen den Kontaktierungsfingern 8 verbleibenden Teile der Verbindungsstege 13 (Fig.4) sowie die äußeren Seitenstege 18 abgetrennt werden. Die Anschlußleitungen 12 können danach noch gemäß F i g. 5 umgebogen werden und bilden somit steckbare Schaltungsanschiüsse. Die aus dem Gehäuse herausragenden Enden des Trägerteils 9 sind die Kühlfahnen der integrierten Halbleiterschaltungen und können mit weiteren Kühlflächen verbunden werden.
Die Erfindung bietet die Möglichkeit nicht vergoldete, sondern nur verzinnte Kontaktierungsspinnen zu verwenden. Dadurch können die Kosten der Metallstreifen erheblich reduziert werden. Die Bi cite des Rahmens der ersten Kontaktierungsspinne liegt bei ca. 04 cm, während die Breite des Rahmens der zweiten Kontaktierungsspinne beispielsweise in der Größenordnung von 2 cm liegt. Die Kontaktierungsfinger der ersten Kontaktierungsspinne sind beispielsweise nur 0,2 mm breit
Hierzu 3 Blatt Zeichnungen

Claims (6)

  1. Patentansprüche;
    U Verfahren mm Kontaktieren einer integrierten Schaltungsanordnung mit Htjfe von zwei Kontaktierungsspinnen, die aus je einem Rahmen mit nach innen ragenden Kontaktierungsfingern bestehen, bei dem die Kontaktierungsfinger der ersten Kontaktierungsspinne mit den Anschlußelektroden des Halbleiterkörpers und Teile der ersten Kontaktierungsspinne verbunden werden und die Kontaktierungsfinger der ersten Kontaktierungsspinne voneinander getrennt werden, dadurch gekennzeichnet, daß der Halbleiterkörper (11) mit seiner Rückseite auf einem in der zweiten Kontaktierungsspinne (7) zentral angeordneten, als Wärmesenke ausgebildeten Trägerteil (9) befestigt wird, daß danach die erste Kontaktierungsspinne (1) so auf den Halbleiterkörper (11) einjustiert wird, daß die freien Enden (6) ihrer Kontaktierungsfinger (3) mit den Anschlußelektroden (14) des Halbleiterkörpers (11) und Teile Jes Rahmens (2) der ersten Kontaktierungsspinne (1) mit den freien Enden der Kontaküerungsfinger (8) der zweiten Kontaktierungsspinne (7) verbunden werden, wonach die zwischen den Kontaktierungsfingern der zweiten Kontaktierungsspinne verlaufenden Teile des Rahmens der ersten Kontaktierungsspinne durchgetrennt werden.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß nach dem Auftrennen des Rahmens (2) der ersten Kontaktierungsspinne der Halbleiterkörper (11) mit einem Gehäuse (17) umgeben wird, und daß die zwei < 5 Kontaktierungsspinne so aufgetrennt wird, daß ihre Kontaktierungsfinger (8, 12) von einander isolierte, ins Gehäuseinnere führende Anschlußleitungen für die integrierte Halbleiterschaltungsanordnung bilden.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß eine erste Kontaktierungsspinne verwendet wird, deren Rahmen (2) von einem zweiten Rahmen (1) umgeben ist, wobei beide Rahmen durch Stege (5) miteinander verbunden sind.
  4. 4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Kontaktierungsfinger (8) der zweiten Kontaktierungsspinne (7) so vorgeprägt sind, daß durch ihren Verlauf der Höhenunterschied zwischen den Anschlußelektroden des Halbleiterkörpers und den Kontaktierungsfingern der zweiten Kontaktierungsspinne ausgeglichen wird.
  5. 5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die beim Durchtrennen des Rahmens (2) der ersten Kontaktierungsspinne überstehenden Rahmenteile umgebogen werden.
  6. 6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Kontaktierungsspinnen verzinnt werden (10).
DE2315711A 1973-03-29 1973-03-29 Verfahren zum Kontaktieren einer integrierten Schaltungsanordnung Withdrawn DE2315711B2 (de)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2315711A DE2315711B2 (de) 1973-03-29 1973-03-29 Verfahren zum Kontaktieren einer integrierten Schaltungsanordnung
JP49031423A JPS49130687A (de) 1973-03-29 1974-03-19
US05/453,880 US3967366A (en) 1973-03-29 1974-03-22 Method of contacting contact points of a semiconductor body

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2315711A DE2315711B2 (de) 1973-03-29 1973-03-29 Verfahren zum Kontaktieren einer integrierten Schaltungsanordnung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2315711A1 DE2315711A1 (de) 1974-10-03
DE2315711B2 true DE2315711B2 (de) 1980-07-17

Family

ID=5876359

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2315711A Withdrawn DE2315711B2 (de) 1973-03-29 1973-03-29 Verfahren zum Kontaktieren einer integrierten Schaltungsanordnung

Country Status (3)

Country Link
US (1) US3967366A (de)
JP (1) JPS49130687A (de)
DE (1) DE2315711B2 (de)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2840973A1 (de) * 1978-09-20 1980-03-27 Siemens Ag Verfahren zur herstellung pruefbarer halbleiter-miniaturgehaeuse in bandform
US4439918A (en) * 1979-03-12 1984-04-03 Western Electric Co., Inc. Methods of packaging an electronic device
US4312926A (en) * 1980-04-14 1982-01-26 National Semiconductor Corporation Tear strip planarization ring for gang bonded semiconductor device interconnect tape
DE3234745C2 (de) * 1982-09-20 1986-03-06 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur Handhabung von filmmontierten integrierten Schaltkreisen und Vorrichtung zu seiner Durchführung
US4721993A (en) * 1986-01-31 1988-01-26 Olin Corporation Interconnect tape for use in tape automated bonding
US4800419A (en) * 1987-01-28 1989-01-24 Lsi Logic Corporation Support assembly for integrated circuits
JP2816244B2 (ja) 1990-07-11 1998-10-27 株式会社日立製作所 積層型マルチチップ半導体装置およびこれに用いる半導体装置
US5138430A (en) * 1991-06-06 1992-08-11 International Business Machines Corporation High performance versatile thermally enhanced IC chip mounting
EP0594299A3 (de) * 1992-09-18 1994-11-23 Texas Instruments Inc Schaltungsgittereinheit aus mehreren Schichten und Verfahren für integrierte Schaltung.
US5371654A (en) * 1992-10-19 1994-12-06 International Business Machines Corporation Three dimensional high performance interconnection package
US20050062492A1 (en) * 2001-08-03 2005-03-24 Beaman Brian Samuel High density integrated circuit apparatus, test probe and methods of use thereof
US5766983A (en) * 1994-04-29 1998-06-16 Hewlett-Packard Company Tape automated bonding circuit with interior sprocket holes
US6003369A (en) * 1997-05-19 1999-12-21 Continental Teves, Inc. Method for manufacturing encapsulated semiconductor devices
JP2959521B2 (ja) * 1997-05-21 1999-10-06 日本電気株式会社 半導体装置の製造方法、リードフレーム
EP1316999A1 (de) * 2001-11-28 2003-06-04 Continental ISAD Electronic Systems GmbH & Co. oHG Verfahren und Vorichtung zum Kontaktieren von Leistungselektronik-Bauelementen
FR3055737B1 (fr) * 2016-09-08 2018-11-30 Continental Automotive France Procede de fabrication sur une plaque de maintien metallique d'au moins un module electronique incluant au moins un test electrique
US20220181290A1 (en) * 2020-12-03 2022-06-09 Semiconductor Components Industries, Llc Clip interconnect with micro contact heads

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3387359A (en) * 1966-04-01 1968-06-11 Sylvania Electric Prod Method of producing semiconductor devices
US3544857A (en) * 1966-08-16 1970-12-01 Signetics Corp Integrated circuit assembly with lead structure and method
US3436810A (en) * 1967-07-17 1969-04-08 Jade Corp Method of packaging integrated circuits
US3553828A (en) * 1967-11-22 1971-01-12 Rca Corp Lead assembly structure for semiconductor devices
US3698074A (en) * 1970-06-29 1972-10-17 Motorola Inc Contact bonding and packaging of integrated circuits
US3762039A (en) * 1971-09-10 1973-10-02 Mos Technology Inc Plastic encapsulation of microcircuits

Also Published As

Publication number Publication date
DE2315711A1 (de) 1974-10-03
US3967366A (en) 1976-07-06
JPS49130687A (de) 1974-12-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2315711B2 (de) Verfahren zum Kontaktieren einer integrierten Schaltungsanordnung
DE1514827C2 (de) Verfahren zur serienmäßigen Herstellung von Halbleiterbauelementen
DE2926200C2 (de)
EP0374648B1 (de) Vorrichtung zum Anschluss eines eletrischen Kabels
DE1121139B (de) Verfahren zur Herstellung gedruckter Schaltungen
DE3123198A1 (de) Traegerelement fuer einen ic-baustein
DE2941613A1 (de) Traegerplaettchen mit leiterbahnen und ggf. elektronischen schaltungsbauteilen sowie verfahren zu seiner herstellung
DE1803554A1 (de) Elektrische Vorrichtung,insbesondere als Sicherung oder Heizvorrichtung
DE1948925B2 (de) Verbindungsanordnung für Druckschaltungskarten
DE2735124C2 (de)
DE2920028A1 (de) Elektrischer kontakt fuer einen schalter sowie verfahren zur herstellung eines solchen kontaktes
DE2502214C2 (de) Verfahren zur Herstellung von laminierten Sammelschienen
DE69927623T2 (de) Antennenrahmen für eine IC-Karte
DE2941229A1 (de) Werkstoffbahn und verfahren zur herstellung flexibler bedruckter schaltungsplatinen
DE2444892C3 (de) Verfahren zur Herstellung von streifenförmigen Anschlußelementen
DE2904197C3 (de) Strommeßwiderstand
EP0057253B1 (de) Systemträgerband mit mehreren Systemträgern für integrierte Schaltkreise
WO2015043951A1 (de) Verfahren zur herstellung von bändern und streifen aus zwei metallischen materialien
DE2136386A1 (de) Elektrische schmelzsicherung und verfahren zu ihrer herstellung
DE69400980T2 (de) Elektrische Anschlussvorrichtung und zugehöriges Herstellungsverfahren
DE3446647C2 (de)
DE3508806C2 (de)
DE1915148B2 (de) Verfahren zur Herstellung metallischer Hocker bei Halbleiteranordnungen
DE3786132T2 (de) Verfahren zum Verbinden metallischer Streifen beim Herstellen von elektrischen Bestandteilen und Bestandteile mit solchen Streifen.
DE2622766A1 (de) Verfahren zur herstellung einer leiterplatte

Legal Events

Date Code Title Description
8227 New person/name/address of the applicant

Free format text: TELEFUNKEN ELECTRONIC GMBH, 7100 HEILBRONN, DE

8239 Disposal/non-payment of the annual fee