DE2308627A1 - Semitransparente, aetzbare duenne schicht auf einem substrat - Google Patents

Semitransparente, aetzbare duenne schicht auf einem substrat

Info

Publication number
DE2308627A1
DE2308627A1 DE19732308627 DE2308627A DE2308627A1 DE 2308627 A1 DE2308627 A1 DE 2308627A1 DE 19732308627 DE19732308627 DE 19732308627 DE 2308627 A DE2308627 A DE 2308627A DE 2308627 A1 DE2308627 A1 DE 2308627A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
substrate
semitransparent
thin layer
etchable thin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19732308627
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Walter Hertlein
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mettler Instrumente AG
Original Assignee
Mettler Instrumente AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mettler Instrumente AG filed Critical Mettler Instrumente AG
Publication of DE2308627A1 publication Critical patent/DE2308627A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0002—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits for manufacturing artworks for printed circuits
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/05—Patterning and lithography; Masks; Details of resist
    • H05K2203/0548—Masks
    • H05K2203/056—Using an artwork, i.e. a photomask for exposing photosensitive layers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Compounds Of Iron (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
DE19732308627 1972-04-11 1973-02-21 Semitransparente, aetzbare duenne schicht auf einem substrat Pending DE2308627A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH539372A CH565500A5 (it) 1972-04-11 1972-04-11

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2308627A1 true DE2308627A1 (de) 1973-10-18

Family

ID=4292810

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19732308627 Pending DE2308627A1 (de) 1972-04-11 1973-02-21 Semitransparente, aetzbare duenne schicht auf einem substrat

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JPS4915961A (it)
CH (1) CH565500A5 (it)
DE (1) DE2308627A1 (it)
GB (1) GB1359250A (it)
NL (1) NL7300287A (it)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH071389B2 (ja) * 1985-11-22 1995-01-11 シャープ株式会社 フオトマスクの製造方法
JPS63121054A (ja) * 1986-11-10 1988-05-25 Nec Corp フオトマスク

Also Published As

Publication number Publication date
CH565500A5 (it) 1975-08-15
NL7300287A (it) 1973-10-15
JPS4915961A (it) 1974-02-12
GB1359250A (en) 1974-07-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69010249T2 (de) Verfahren zur Herstellung optischer Wellenleiter.
DE2922791C2 (de) Verfahren zum Trockenätzen von Aluminium und Aluminiumlegierungen
DE2052424C3 (de) Verfahren zum Herstellen elektrischer Leitungsverbindungen
DE2251382A1 (de) Verfahren zur herstellung von aluminiumtraegern
DE102009010855A1 (de) Fotomaskenrohling, Fotomaske und Verfahren zum Herstellen einer Fotomaske
DE2838645A1 (de) Verfahren zur herstellung einer metallschicht mittels plattieren
DE2313106A1 (de) Verfahren zum herstellen eines elektrischen verbindungssystems
DE2724045A1 (de) Galvanogeformter gegenstand oder ueberzug
DE2835577C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Dünnfilmmagnetkopfes und Dünnfilmmagnetkopf
DE2847821C2 (de) Substrat für eine gedruckte Schaltung mit einer Widerstandsbeschichtung und Verfahren zu dessen Herstellung
DE2304685C3 (de) Verfahren zur Herstellung mikroskopisch kleiner Metall- oder Metallegierungs-Strukturen
DE2600654B2 (de) Verfahren zur gleichzeitigen kathodischen abscheidung einer chromschicht und einer darueberliegenden schicht aus hydratisierten chromoxiden auf stahlblechen
DE3943356A1 (de) Verfahren zur bildung einer maske fuer roentgenlithographie
DE2028589C3 (de) Verfahren zur Aufbringung eines anisotropen magnetischen Hauptfilms auf ein dickes, grobkörniges, elektrisch leitfähiges Substrat
DE69105247T2 (de) Verfahren zur Herstellung von kornorientierten Elektrostahlblechen mit geringen Eisenverlusten.
DE2308627A1 (de) Semitransparente, aetzbare duenne schicht auf einem substrat
DE2326920C3 (it)
DE2264970A1 (de) Verfahren zum faerben eines substrats aus aluminium oder einer aluminiumlegierung
DE2123887C3 (it)
DE2261123A1 (de) Maske fuer photolithographische verfahren
DE2811888B2 (it)
DE1496823B1 (de) Verfahren zum galvanischen Abscheiden von korrosionsbestaendigen,dreischichtigen Nickel- oder Nickel-Kobalt-Legierungsueberzuegen auf Metallen
DE2261119A1 (de) Maske fuer photolithographische verfahren
DE2528666A1 (de) Verfahren zur herstellung einer maske fuer roentgenstrahl-lithographie
DE2808802C2 (de) Ladungsspeicherplatte für eine Bildaufnahmeröhre und Verfahrn zu ihrer Herstellung

Legal Events

Date Code Title Description
OHJ Non-payment of the annual fee