DE2263234B2 - Verfahren zur Herstelung von hochfesten und temperaturwechselbeständigen Glasgegenständen durch Oberflächenkristallisation unter Ausnutzung eines Ionenaustausches innerhalb des Glases - Google Patents
Verfahren zur Herstelung von hochfesten und temperaturwechselbeständigen Glasgegenständen durch Oberflächenkristallisation unter Ausnutzung eines Ionenaustausches innerhalb des GlasesInfo
- Publication number
- DE2263234B2 DE2263234B2 DE2263234A DE2263234A DE2263234B2 DE 2263234 B2 DE2263234 B2 DE 2263234B2 DE 2263234 A DE2263234 A DE 2263234A DE 2263234 A DE2263234 A DE 2263234A DE 2263234 B2 DE2263234 B2 DE 2263234B2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- weight
- percent
- glass
- sum
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0018—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents
- C03C10/0027—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents containing SiO2, Al2O3, Li2O as main constituents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
- C03C21/008—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in solid phase, e.g. using pastes, powders
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
ao besitzt.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Glasgegenstände
während der Oberflächenkristallisation zunächst einer Wärmebehandlung zwischen der Transforma-
»5 tionstemperatur und einer Temperatur 10O0C
oberhalb der Transformationstemperatur unterworfen werden, bis sich an ihrer Oberfläche eine
1 bis 10 μπι dicke, geschlossene kristalline Schicht
gebildet hat, bevor sie auf die eigentliche Kristalli-
sationstemperatur zur Ausbildung einer kristallinen Oberflächenschicht von über 30 μΐη erhitzt
werden.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß zur Wärmebehand-
lung die Glasgegenstände möglichst rasch von dei Transformationstemperatur auf die Kristallisationstemperatur,
bei der die Kristalle eine Wachstumsgeschwindigkeit von etwa 100 μηι/h besitzen,
erhitzt werden, und dort zur Ausbildung dei gewünschten kristallinen Oberflächenschicht belassen
werden.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß zur Oberflächenkristallisation
die Glasgegenstände durch einen senkrecht stehenden Gradientenofen gezogen werden,
dessen obere Temperatur im Bereich dei oberen Entglasungsgrenze des zu kristallisierenden
Glases liegt, wobei die Durchziehgeschwindigkeit so eingestellt wird, daß die gewünschte Dicke dei
kristallinen Oberflächenschicht entsteht.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Glasgegenstände
möglichst rasch auf die Kristallisationstemperatui erhitzt und dort zur Ausbildung der gewünschten
Dicke der kristallinen Oberflächenschicht getempert werden.
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines hochfesten und temperaturwechselbeständigeD
translucenten oder opaken Glasgegenstandes mil einer teilweise kristallinen Oberflächenschicht, die aus
/?-Spodumen und/oder h-Quarz-Mischkristall und einer Restgläsphase besteht und die sich in ihrer oxidischen
Zusammensetzung vom Grundglas durch
einen höheren Li„O-Gehalt und ent<:nre/-fc„„,i
geren Gehalt an" den anderen aS*X5
scheidet, wobei der Gtsant-MoCSh^
oxide aber im wesentlichen der deicht L η ^T
dungsgemäße Verfahren ist dadurch gekenScwT
daß an dem Glas eine Wämebehanri W ι? Ϊ
lierten Obtriatbtnb^^^^
während welcher ein Ionenaustausch
Glases zwischen Li-Ionen ^ St
und'oderK-Ionen an der zum
ten Seite der wachsenden KristaSomsteSer Die mechanische Festigkeit eines Glasköroers kann
ten Seite der wachsenden KristaSomsteSer Die mechanische Festigkeit eines Glasköroers kann
ζΐ^χ^^
Ein bekanntes Verfahren um dies besteht wh dem USA-Paten"" 779
ein Na2O oder K2O enthaltener
Lithium-Salzschmelzbad mit niedre™
eingetaucht wird UnJIeS AtaS
Alkaliionen des Glases S St
stattfindet, wobei die LitiSumSSttSSc?S
den Natrium- oder KdiunSSto dl Gto^dS
oder diffundieren. Der Glasgegenstand wird während des Ionenaustausches auf einer über delw
formationstemperatur liegenden Temneratu^ IJ»hZ~
Die ausgetauschte LithiummerL fs?SeSid!ίΐ t
äauivalegnt der durch dies'SntfNa^uT odt
iutsSSn^erä^^^
Abkühlen unter Druckspannung
Der Ionenaustausch kann nach dem USA Patent
2 779 136 und der deutschen Auslegeschrift: 14WImI
bewirken daß sich diemH^i f T 1
indasrStarinwande nden ί^Γη bli S
enthaltenden Silikatgläsern beim !S unter bestimmten BedfngungeS mit
zen und sehr kleine !-Spoduml ZS h
®*™. der dadurch zustande kommt, da
^ oberflächenkristaDisierte Glas neben dem Lithiun
%* ^vorzugt in die h-Quarz-Mischkristeilphase de
p^^nkristalle eingebaut wird, auch noch Na
" und/oder Kaliumionen enthält, die nicht in di
f·*«*.« werden können, die aber be
TemPeratur· bei der die Oberflächen
?» abläuft, rasch gegen Lithiumionen au
Glasinneren ausgetauscht werden können, dii
Jf"**8 »™ dem Glasinneren ausgetauscht werdei
' α lhrerseits wieder in die Kristallphase ein
1St
^*.* im α^ Äa
Lithium einerseits und Natrium und/oder Kaliurr andferseits läßt sich mit Hilfe einer Mikrosonde
%£Τ% ^ AbbUdUng "Jf dn Kaliun>Mikro sonde-Profil,
das an einem Querschnitt des oberflächenkristaUisierten
Glases 6 (Tabelle III) aufgenom- ™" wurde· Während der K"Gehalt ™ der kristallinen
f Schlcht.nahezu NuU ist' Wtadet sich vor der Kristall-
ηΓ T ^lf K-Konfntration' die ins Glas"
Wert des Ausgangsglases erreicht hat. Die überschüs-
^^I &" Kaliumionen im Glasinneren entspricht
^1εηαεη Me'^ a- Kaliumionen in der kristalli-
3°
« sich ähnlich dem Kalium,
DUr Vmeilt CS sich auf Grund seiner höheren Diffu-
?lonsgesch*™digkeit schneller auf das gesamte Glas-
l™0*1 Und K b'ldet Sich kdne erhöhte Natrium konzentration
an der Kristallfront aus.
· AhnHCh ** ^™™ kÖnnen aUCh die Erdalkali"
T" Srundsätzlich an d^ Ionenaustausch mit
****»?>: Ihre Diffusionsgeschwindigkeit
^8?01? gerinSer' so daß «e nur wenig
Bei einem wei
Verfah
kontrollierten Wä
SiCh S den
SiCh S den
h-Ouan-
^: A12C>3 = 1 das Molverhältnis (Li2O + MgO
knStalljner 45 Es w"^ nun weiterhin gefunden, daß bei Gläsern
isoiiio<Thfnis nLii+M^°+ζητο) zu
sowohl <1 als auch >1 ein interner Ionen-
1'*" den Li-Imln lm Glaiinneren und
den Na- und/oder K-Ionen an der wachsenden
Fs wnrrfe
die
α η u · α ι
a 1 Alurnmiumsilikat-
L W-2K3 u ^? enthal
F .Warmebehandlung zur 6
^ d
schen
schkhi
schkhi
eier äuYere-
S n
Wachstum der Oberflächen-Kristalle werden zunächst die unmittelbar an der Kristallfront befindlichen
Li-l0nen in den h-Q«arz-Mischkristall eingebaut.
DarÜber hinaus können aber auch die Li-Ionen ™
größeren Entfernungen durch Diffusion an die KiistaU-
front gelanSen' wenn zum ^adungsausgleich andere
positive Ionen an deren Plätze wandern. Für diesen Ionenausta^ch innerhalb des Glases sind am besten
die leicht beweglichen Alkaliionen Na+ und K+ ^ gommen ist. 65 geeignet. Zweiwertige Ionen, wie z. B. Ca»* oder Ba^
.Z t usa"»«ensetzung in können auf Grund ihrer geringen Diff usionsgeschwi^
^^^ sfk:iwenig zu diesem interaen i
Oberflächen-
wie z. B. einem
5 J 6
Das ebenfalls im Glas vorhandene ZnO und MgO festmaterialien der Wanne und die Verbilligung dei
kann nur zum Teil, nämlich in die nach dem internen Gemengekosten.
Ionenaustausch verbliebenen Kristallgitterplätze, ein- Die Gläser, die nach dem beschriebenen Verfahren
gebaut werden. Das Zink und Magnesium, das nicht an der Oberfläche kristallisieren und dadurch eine
in die h-Quarz-Mischkristalle eingebaut wird, befindet 5 Druckspannung in der Oberflächenschicht aufbauen,
sich zum größten Teil in der Restglasphase zwischen besitzen die in Tabelle I aufgeführte Zusammensetzung
den Kristallen und zu einem geringen Teil im Glas- (in Gewichtsprozent):
inneren unmittelbar vor der Kristallfront. Tabelle I
Das beanspruchte Verfahren weist gegenüber den
bisher bekannten Verfahren bedeutende Vorteile auf. io SiO2 52 bis 70%
bisher bekannten Verfahren bedeutende Vorteile auf. io SiO2 52 bis 70%
Gegenüber den Verfahren entsprechend dem USA.- Al2O3 10 bis 25 %
Patent 2 779 136, bei denen eine Lithiumanreicherung B2O3 O bis 8 %
in der Oberflächenschicht durch Behandlung des P2O5 O bis 10 %
Glasgegenstandes in einem Lithium-Salzschmelzbad Li2O 1 bis 4 %
oberhalb der Transformationstemperatur erfolgt, kann 15 . Na2O 0 bis 8 %
auf die Verwendung der gefährlichen und schwer zu K2O O bis 10 %
handhabenden Salzschmelzbäder als Voraussetzung MgO ,. O bis 5 %
für das Entstehen einer kristallinen Oberflächenschicht ZnO O bis 7 %
verzichtet werden. CaO O bis 10%
Der Vorteil gegenüber anderen Verfahren entspre- ao BaO O bis 12 %
chend der deutschen Auslegeschrift 1239 817, bei TiO2 O bis 1,2%
denen nur eine Wärmebehandlung zur Oberflächen- ZrO2 O bis 2,5 %
kristallisation durchgeführt wird, liegt darin, daß . Τ.Λ1.,Λ
gleichzeitig mit der Oberflächenkristallisation ein .Das Gewichtsverhaltms Li2O/Al2O3 soll
<0,3
interner Ionenaustausch stattfindet. Durch diesen 25 sem\
internen Ionenaustausch nach dem erfindungsgemäßen .°_ie Summe von TiO2+ ZrO2 soll 2,5 Ge-Verfahren
ist es möglich, einen Teil des Li2O-Gehaltes Wichtsprozent nicht überschreiten
im Grundglas durch Na2O und/oder K2O zu ersetzen, P* Summe ™Ν·}Ρ + K2O soll >1 Geohne daß die Kristallwachstumsgeschwindigkeit im Wichtsprozent und < 10 Gewichtsprozent sein,
unteren Kristallisationsbereich (7g bis Tg + 2000C) 30 Als Lautermittel können 0,5 bis 1 Gewichtswesentlich beeinträchtigt, der Kristallphasengehalt in Pr°f ?l As*°* zugeben werden,
der kristallinen Oberflächenschicht vermindert oder Weitere vertragliche Komponenten, darunter
im Grundglas durch Na2O und/oder K2O zu ersetzen, P* Summe ™Ν·}Ρ + K2O soll >1 Geohne daß die Kristallwachstumsgeschwindigkeit im Wichtsprozent und < 10 Gewichtsprozent sein,
unteren Kristallisationsbereich (7g bis Tg + 2000C) 30 Als Lautermittel können 0,5 bis 1 Gewichtswesentlich beeinträchtigt, der Kristallphasengehalt in Pr°f ?l As*°* zugeben werden,
der kristallinen Oberflächenschicht vermindert oder Weitere vertragliche Komponenten, darunter
die Menge an Li2O in der Kristallphase herabgesetzt ^adl- ° ΰ· *'%« r ?ϊ°3>
Nl°' C?°'
wjrd ro Cr2O3, können bis zu 10 Gewichtsprozent enthal-
Eine hohe Kristallwachstumsgeschwindigkeit im 35 sem'
unteren Kristallisationsbereich wird benötigt, um bei Beispiele für Gläser, die durch Oberflächenkristalli-
möglichst niedrigen Temperaturen eine ausreichend sation nach dem beanspruchten Verfahren des internen
dicke Kristallschicht zu erzeugen und somit eine Ionenaustausches eine höhere mechanische Festigkeit
Deformation während der Kristallisation zu vermeiden. aufweisen, sind in der Tabelle II a und II b aufgeführt.
Der Kristallphasengehalt und besonders die Menge 4» Aus den Gewichtsprozenten der verschiedenen Oxide
an Li2O in der Kristallphase bestimmen weitgehend werden die entsprechenden Rohstoffgemische berech-
den Wärmeausdehnungskoeffizienten der kristallinen net.
Oberflächenschicht. Eine Erhöhung des Li2O-Gehaltes Alle erfindungsgemäßen Gläser lassen sich unter
in der Kristallphase bedingt eine Erniedrigung des 1600 bis 162O0C in sehr guter Qualität erschmelzen.
Wärmeausdehnungskoeffizienten. 45 Zur weiteren Erläuterung der Erfindung sind in der
Während in der kristallinen Oberflächenschicht Tabelle IHa und III b einige charakteristische Eigenaus
den obengenannten Gründen ein möglichst hoher schäften aufgeführt.
Li2O-Gehalt angestrebt wird, sollte das Grundglas Der lineare Wärmeausdehnungskoeffizient α wird
der oberflächenkristallisierbaren Gläser aus den fol- vom Grundglas für den Temperaturbereich von 20 bis
genden Gründen einen möglichst niedrigen Li2O- 50 300° C bestimmt. Die erzeugte Druckspannung in der
Gehalt aufweisen. kri.-tallinen Oberflächenschicht ist um so größer, je
Die oberflächenkristallisierbaren Gläser mit hohem größer die Differenz der Wärmeausdehnungskoeffi-
LigO-Gehalt entglasen beim Übergang aus der zienten zwischen der kristallinen Oberflächenschicht
Schmelze in den glasigen Zustand spontan bereits bei und dem Grundglas ist. Besonders bei dünnen, 1 bis
so niedrigen Viskositäten, daß eine Reihe von Ferti- 55 3 mm dicken Glasproben darf diese «-Wert-Differenz
gungsverfahren zur Herstellung von Glasgegenständen, jedoch nicht zu groß werden, da sonst die Glasproben
wie z. B. automatisches Pressen, Blasen, Ziehen, nur auf Grund der hohen Zugspannung im Glasinneren
schwer oder überhaupt nicht durchgeführt werden von innen her zerspringen,
können. Der Verarbeittmgspunkt VA ist die Temperatur in
Durch den molekularen Ersatz eines Teiles des 60 Grad Celsius, bei der das Glas eine Viskosität 17 von
Li2O-Gehaltes im Grundglas durch Na2O und/oder 10* Poise besitzt. Der F>Punkt gibt einen guten
K8O wird die Verarbeitbarkeit der oberflächen- Hinweis auf die Temperatur, bei der das Glas verkristallisierbaren
Gläser erheblich verbessert, da gleich- arbeitet werden kann, da für die meisten Fertigungszeitig
die Viskositätskurve zu etwas höheren Tempera- verfahren eine Glasviskosität von IO8 bis 10s Poise
iaren and die obere Entglasungsgrenze zu erheblich 65 benötigt wird. Der Kjj-Punkt soll bei möglichst
niedrigeren Temperature» verschoben werden. niedrigen Temperaturen liegen and 13000C nicht
Weitere Vorteile eines geringeren Li2O-Gehaltes überschreiten, da die Gläser sonst nor noch schwer
sind der wesentlich geringere Angriff auf die Feuer- zu verarbeiten sind.
Ein ausgezeichnetes Hilfsmittel für die Untersuchung von Entglasungsvorgängen stellt die Differential-Thermo-Anaiyse
(DTA) dar. Mit ihrer Hilfe kann die Temperaturlage von endotherm und exotherm ablaufenden Reaktionen sehr exakt bestimmt werden.
Im vorliegenden Fall tritt bei der Oberflächenkristallisation ein exothermer und bei der Wiederauflösung
der Kristalle, der oberen Entglasungsgrenze (OEG), ein endothermer Peak auf.
Die Temperaturlage des exothermen Peaks ist bei den oberflächenkristallisierenden Gläsern nicht nur
von der Aufheizgeschwindigkeit, sondern auch von der Korngröße der untersuchten Probe abhängig, da
die pro Zeiteinheit gebildete Kristallmenge auch eine Funktion der Oberfläche Ist. Bei Gläsern gleicher
Aktivierungsenergie des Kristallwachstums und unter konstanten Versuchsbedingungen (Aufheizgeschwindigkeit:
37min; Korngröße: 40 bis 60μηι) treten die
DTA-Peaks immer bei der gleichen Kristallwachstumsgeschwindigkeit (etwa 100 μπι/h) auf. Bei den in der
Tabelle III angegebenen DTA-Peak-Temperaturen bildet sich daher bei einer einstündigen Wärmebehandlung
eine etwa 100 μΐη dicke kristalline Oberflächenschicht
aus.
Um die Deformation von Glaskörpern bei der Oberflächenkristallisation gering zu halten, soll die
Temperaturdifferenz (DTA — Tg) zwischen der Lage des DTA-Peaks und dem Transformationspunkt
möglichst klein sein.
Die obere Entglasungsgrenze (OEG) stellt die obere Grenztemperatur dar, bei der sich die ersten Kristalle
an der Oberfläche bilden können, wenn die aus der Schmelze gefertigten Glaskörper abkühlen. Umgekehrt
lösen sich bei einem Aufheizprozeß die bei tieferen Temperaturen gebildeten Kristalle bei der
OEG wieder auf, wie der endotherme Peak bei der Differential-Thermo-Analyse zeigt.
Wie bereits erwähnt, ist die Entglasungsfestigkeit der Schmelze ein wichtiger Faktor für die Verarbeitbarkeit
durch Hand oder Automaten. Die Entglasungsfestigkeit wird im wesentlichen bestimmt durch die Temperaturdifferenz
zwischen dem Verarbeitungspunkt Va und der oberen Entglasungsgrenze (OEG). Die Temperaturdifferenz
(VA — OEG) sollte möglichst groß,
auf keinen Fall aber negativ sein, da sonst eine Verarbeitung stark erschwert bis unmöglich wird.
Zur Festigkeitsmessung werden Rundscheiben von 45 mm 0 und 1,5 mm Dicke hergestellt, und durch
Wärmebehandlung nach den beanspruchten Verfahren wird eine etwa 100 μπι dicke kristalline Oberfläche
erzeugt. Diese oberflächenkristallisierten Rundscheiben werden mit einem Schmirgel (Korn 180) unter einem
Druck von 1 kg 10 Minuten lang abgerieben. Dadurch werden gleichmäßige Oberflächenfehlstellen erzeugt.
Zur Bestimmung der Biegezugfestigkeit werden die abgeriebenen Rundscheiben auf einen Ring von
40 mm 0 gelegt und in der Mitte belastet. Die Last wird langsam mit 2 kg/min erhöht, bis die Scheibe
zerspringt.
Der Li2O-Gehalt der Gläser sollte nicht unter
1 Gewichtsprozent hegen, da sonst die DTA-Temperatur
und die Temperaturdifferenz DTA—Tg sehr
stark ansteigen und hierdurch während der Wärmebehandlung zur Oberflächenkristallisation eine große
Deformation des Glaskörpers auftritt. Darüber hinaus schrumpfen diese Gläser bei der Oberflächenkristallisation
oder der anschließenden Kühlung sehr stark partiell und besitzen hierdurch eine wellige Oberfläche.
Bei einem Li2O-Gehalt unter 1 Gewichtsprozent win
auch der Kristallphasengehalt in der kristallinen Ober flächenschicht und die Menge von Li2O in der Kristall
phase zu gering, um für eine hohe Druckspannung eine ausreichende Erniedrigung der Wärmeausdehnuni
der Oberflächenschicht gegenüber dem Grundglas zi erzielen.
Ein Li2O-Gehalt von über 4 Gewichtsprozent in
Grundglas sollte schon aus preislichen Gründen ver·
ίο mieden werden. Die Lithium-Alumo-Silikat-Gläsei
beginnen bei um so niedrigeren Viskositäten zu entglasen, je höher der LigO-Gehalt wird. Bei Li2O-Gehalten
über 4 Gewichtsprozent steigen die Temperaturen der oberen Entglasungsgrenze über die F^-Temperatur,
wodurch eine automatische Blas- und Preßfertigung sehr erschwert oder unmöglich wird. Auf Grund dei
großen Beweglichkeit greift das Li2O die Wannen sehr stark an. Auch aus diesem Grunde sollte der
Li2O-Gehalt 4 Gewichtsprozent nicht überschreiten.
so Der Gehalt an Al2O3 sollte nicht unter 10 Gewichtsprozent
absinken, da sonst, ähnlich wie beim Li2O, die Menge an Kristallphase in der kristallinen Oberflächenschicht
zu gering wird, um eine ausreichende Erniedrigung des Wärmeausdehnungskoeffizienten der
kristallinen Oberflächenschicht zu bewirken.
Mit steigendem Al2O3-Gehalt erhöht sich die OEG-Temperatur
schneller als die K^-Temperatur. Hierdurch wird die Temperaturdifferenz (Va — OEG)
kleiner, um bei einem Al2O3-Gehalt von
>25 Gewichtsprozent sogar negativ zu werden, was eine Verarbeitung des Glases sehr erschwert oder gar
unmöglich macht.
Ein positiver Einfluß von B2O3 auf das Kristallwachstum
konnte nicht festgestellt werden. Der B2O3-Gehalt sollte 8 Gewichtsprozent nicht überschreiten,
da sonst das Kristallwachstum zu stark behindert und dadurch die mechanische Festigkeit
der oberflächenkristallisierenden Gläser herabgesetzt wird.
Der Na2O- und/oder K2O-Gehalt sollte nicht unter
1 Gewichtsprozent liegen, da durch die Erhöhung des Na2O- und K2O-Gehaltes sowohl das Entglasungsverhalten
(VA — OEG) durch die starke Erniedrigung
der OEG verbessert als auch die Kristallwachstumsgeschwindigkeit im unteren Temperaturbereich, der
7<.ristallphasengehalt in der kristallinen Oberflächenschicht
und die Menge von Li2O in der Kristallphase durch den internen Ionenaustausch mit dem Li2O aus
dem Glasinneren erhöht wird.
Der Gehalt an Na2O bzw. K2O sollte nicht über
8 bzw. 10 Gewichtsprozent und die Summe von Na2O -+■ K2O nicht über 10 Gewichtsprozent liegen, da
sonst auf Grund der zu großen Wärmeausdehnungsdifferenz zwischen der kristallinen Oberflächenschicht
und dem Kernglas im Glasinneren so hohe Zugspannungen auftreten, die zu einem Rückgang der mechanischen
Festigkeit oder sogar zu einem spontanen Zerfall der Glasproben führen.
Das ZnO und MgO können an Stelle von Li2O in
Das ZnO und MgO können an Stelle von Li2O in
das h-Quarz-Mischkristallgjtter eingebaut werden,
wodurch sich sowohl die Kristallwachstumsgeschwindigkeit als auch die Differenz der Wärmeausdehnungskoeffizienten
zwischen der kristallinen Oberflächenschicht und dem Grundglas verringern.
«5 Ein Einfluß von im Glas vorhandenem TiO8 and
ZrO2 auf die Keimbildung an der Oberfläche oder auf
die Kristallisationsgeschwindigkeit konnte nicht festgestellt werden. Der Gehalt an Tin. er.iit<» 1 r
9 1 ίο
wichtsprozent und an ZrO2 2,5 Gewichtsprozent und ren Temperaturen eine Vortemperung durchgeführt
die Summe beider sollte 2,5 Gewichtsprozent nicht werden muß.
überschreiten, da beide als Keimbildner wirken können Der P2O5-Gehalt sollte 10 Gewichtsprozent nicht
und somit die Gefahr einer Volumenkristallisation überschreiten, da sonst die mechanische Festigkeit
oder die Ausbildung einzelner Kristalle im Glas- 5 der oberflächenkristallisierten Gläser stark abnimmt,
inneren besteht. Die einzelnen Kristalle im Glas- Andererseits gibt P8O6 die Möglichkeit, opake Grundinneren bauen auf Grund ihrer unterschiedlichen Aus- glaser herzustellen.
dehnung ein Spannungsfeld um sich auf, das sich der Die Gläser des in der Tabelle 1 aufgeführten
Zugspannung, die durch die OF-Kristallisation ent- Zusammensetzungsbereiches können im Grundglas
steht, im Glasinneren überlagert und zur Zerstörung io sowohl klar durchsichtig als auch weiß-opak sein,
vom Glasinneren her führen kann. Die Trübung im Grundglas der Erfindung wird Zur Modifizierung der Eigenschaften können dem durch eine Calcium- und/oder Barium-Phosphat-Grundglas auch weitere Metalloxide, wie z. B. CaO Trübung hervorgerufen.
vom Glasinneren her führen kann. Die Trübung im Grundglas der Erfindung wird Zur Modifizierung der Eigenschaften können dem durch eine Calcium- und/oder Barium-Phosphat-Grundglas auch weitere Metalloxide, wie z. B. CaO Trübung hervorgerufen.
und BaO, zugegeben werden. Da diese Oxide weder Klare, durchsichtige Grundgläser, entsprechend
in den h-Quarz-Mischkristall eingebaut werden kön- 15 dem Zusammensetzungsbereich der Tabelle I und den
nen noch auf Grund ihrer hohen Ladung eine ausrei- Forderungen: Gewichtsverhältnis Li2O/Al2O3
< 0,3; chend große Diffusionsgeschwindigkeit besitzen, um TiO2 + ZrO2
< 2,5 Gewichtsprozent und Summe in das Glasinnere zu wandern, werden sie in der Na2O + K2O
> 1 Gewichtsprozent und <10 Gekristallinen Oberflächenschicht zwischen die Kristalle wichtsprozent, die nach dem beanspruchten Verfahren
abgelagert. ao des internen Ionenaustausches eine kristalline Ober-Der
CaO-Gehalt sollte 10 Gewichtsprozent nicht fläche bilden, müssen entweder einen P2OB-Gehalt
überschreiten, da durch das CaO zwar die Va-, nicht von <2 Gewichtsprozent oder einen CaO-Gehalt von
aber die OEG-Temperatur erniedrigt wird, wodurch <1 Gewichtsprozent und einen BaO-Gehalt von
sich das Entglasungsverhalten (Va- OEG) ver- <5 Gewichtsprozent oder einen Al2O3-Gehalt von
schlechter^ Da das BaO auf Grund seiner geringen as
>20 Gewichtsprozent besitzen.
Diffusionsgeschwindigkeit das Kristallwachstum be- Beispiele für klar durchsichtige Gläser und deren hindert, sollen 12 Gewichtsprozent nicht überschritten charakteristische Eigenschaften, die durch Oberwerden, flächenkristallisation nach dem beanspruchten Ver-Bei den meisten bisher bekannten Verfahren zur fahren des internen Ionenaustausches eine höhere Oberflächenkristallisation beginnt das Kristallwachs- 30 mechanische Festigkeit aufweisen, enthalten die Tabeltum an der Glasoberfläche, und die Kristalle wachsen len Ha und IHa.
Diffusionsgeschwindigkeit das Kristallwachstum be- Beispiele für klar durchsichtige Gläser und deren hindert, sollen 12 Gewichtsprozent nicht überschritten charakteristische Eigenschaften, die durch Oberwerden, flächenkristallisation nach dem beanspruchten Ver-Bei den meisten bisher bekannten Verfahren zur fahren des internen Ionenaustausches eine höhere Oberflächenkristallisation beginnt das Kristallwachs- 30 mechanische Festigkeit aufweisen, enthalten die Tabeltum an der Glasoberfläche, und die Kristalle wachsen len Ha und IHa.
von der Oberfläche senkrecht nach innen in Form Die klar durchsichtigen Grundgläser erscheinen
von langen, parallelen, vorn zugespitzten Nadeln. Aus nach der Oberflächenkristallisation, je nach Dicke der
der geschlossenen Kristallfront ragen die einzelnen kristallinen Schicht, mehr oder weniger translucent.
Kristallspitzen in das Glasinnere hinein, um sie herum 35 Für viele Produkte ist dieses translucente Aussehen
bauen sich hohe Spitzenwerte der Zugspannung auf, der oberflächenkristallisierten Gläser unerwünscht. Es
die zum Glasinneren hin rasch auf einen konstanten werden vielmehr stärker getrübte, weiß-opake Gläser
Wert abfallen. Diese hohen Zugspannungen an den benötigt.
Kristallspitzen können zu Rissen und damit zum Es ist bekannt, daß ein stärkeres opakes Aussehen
Abspringen der kristallinen Schichten führen. Bei den 40 durch die Erhöhung der kristallinen Schichtdicke
bisher üblichen Verfahren verringert man das unter erreicht werden kann. Dieses Verfahren hat jedoch
hoher Zugspannung stehende Volumen, indem man den Nachteil, daß bei dünnen Glasproben die Zugmöglichst viele Kristalle wachsen läßt. Dabei wächst spannung im Glasinneren rasch zunimmt und die
zwar die Zahl der kritischen Punkte an, gleichzeitig Druckspannung in der kristallinen Oberflächenschicht
nimmt jedoch in der Umgebung die Spannung auf 45 abnimmt.
wesentlich kürzere Distanz unkritische Werte an, so Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform können
daß der erste Effekt überkompensiert wird. Hierdurch auch calcium- und/oder barium-phosphat-getrübte
verringert sich die Wahrscheinlichkeit für Rißbildung Lithium-Aluminosilikat-Grundgläser nach dem bean-
im gleichen Maße. spruchten Verfahren eines internen Ionenaustausches
Die hohe Anzahl dünner Kristalle wurde erzielt, 50 kristalline Oberflächenschichten bilden und dadurch
indem das Glas zur Keimbildung an der Oberfläche eine Druckspannung in der Oberflächenschicht auf-
möglichst lange bei tiefen Temperaturen gehalten oder bauen. Die Tabelle IV gibt den Zusammensetzungs-
Keimbildner auf die Oberfläche aufgebracht bereich solcher weiß-opaken Gläser wieder,
wurde.
wurde.
Ein besserer Weg zur Verringerung der hohen Zug- 55 Tabelle IV
spannung führt über die Vermeidung der ungünstigen , .
Geometrie. Es wurde nun gefunden, daß bei Anwesen- (Gewichtsprozent)
heit von P2O6 in Gläsern des oben beanspruchten SiO2 52 bis 70%
Zusammensetzungsbereiches zumindest stark abge- Al2O3 IObis 20%
rundete Kristallspitzen, meistens sogar vollkommen 60 B2O3 O bis 8%
glatte Kristallfronten, entstehen, die frei von zusatz- P8O6 2 bis 10%
liehen Spannungsspitzen sind. Li2O 1 bis 4%
Diese Entdeckung bedeutet einen erheblichen tech- Na2O .................. Obis 8%
nischen Fortschritt, da es hierdurch möglich wird, die K2O O bis 10%
Gläser zur Oberflächenkristallisation rasch auf Tem- 65 MgO ] [ [ * * * * ]" . ] * * ] * 0 bis 5%
peraturen hoher Kristallwachstumsgeschwindigkeit zu ZnO *'' [' * ], \ [ [ [ ]" ] 0 bis 3%
bringen, ohne daß vorher zur Keimbildung ein Keim- CaO O bis 10%
bildner auf die Oberfläche aufgebracht oder bei tiefe- BaO Obis 12%
11 12
TiO2 0 bis 1,2 % sende kristalline Oberflächenschicht der Deformation
ZrO2 O bis 2,5 % entgegengewirkt und bei dicken Glasgegenständen das
r>„„ fm,:„u*«,,^uxn~;e τ; rwδι η cr>ii ^-r\i Glasinnere zunächst noch eine ausreichend hohe
se_Das Gewichtsverhaltnis L.2O/A12O3 soll
<0,3 Viskosjtät aufwdst Dje Gefahr>
daß ^^ nur
Die Summe von TiO2 + ZrO2 soll 2,5 Ge- 5 *,elativ wenige stark ausgeprägte Kristalle entstehen,
Wichtsprozent nicht überschreiten. die.um >hreK„stallsp.tzen Zonen hoher Zugspannung
Der Gehalt an Na2O + K2O soll
>1 Gewichts- aufweisen besteht nicht, wenn die erfindungsgemaßen
Prozent und <10 Gewichtsprozent sein. Glaser meI?r als 1 Gewichtsprozent P2O5 enthalten.
Die Summe~von CaO + BaO soll >2 Gewichts- . Eine,. wfen! Wärmebehandlung zur Oberflachen-
Drozent sein ~~ 10 kristallisation besteht dann, daß zur Beschleunigung
Die Summe von MgO + ZnO soll <5 Ge- der. Oberflächenkristallisation und Vermeidung einer
Wichtsprozent sein. ~ Deformation die Glasgegenstande, z. B. Glasplatten,
Als Läutermittel können 0,5 bis 1 Gewichts- durch eine" senkrecht stehenden Gradientenofen
Prozent As2O3 zugegeben werden. f 20^f1 werden dessen obere Temperatur im Bereich
15 der oberen Entglasungsgrenze des zu kristallisierenden
Beispiele für weiß-opake Gläser, die durch Ober- Glases liegt. Die Durchziehgeschwindigkeit kann bei
flächenkristallisation nach dem beanspruchten Ver- diesem Verfahren so eingestellt werden, daß die
fahren eine erhöhte mechanische Festigkeit aufweisen, gewünschte Dicke der kristallinen Oberflächenschicht
und deren charakteristische Eigenschaften enthalten erhalten wird.
die Tabelle II b und IHb. 20 Bei Glasgegenständen, die sehr stark zur Deforma-Neben
den Trübungsmitteln P2O5, CaO und BaO tion neigen, ist es vorteilhaft, diese mit einer Beize zu
wirken sich auch der Al2O3- und Alkaligehalt auf die versehen, welche Substanzen enthält, die die Keim-Trübung
aus. Um eine ausreichende Trübung zu bildung begünstigen und/oder die Kristallwachstumserhalten,
muß der P2O5-Gehalt
>2 Gewichtsprozent geschwindigkeit erhöhen.
und der CaO-Gehalt >1 Gewichtsprozent oder der 25 Hierzu werden die Glasgegenstände durch Tauchen
BaO-Gehalt >5 Gewichtsprozent sein. oder Spritzen mit einer Substanz, die z. B. Titandioxid,
Der Gehalt an Al2O3 kann um so höher sein, je Lithiumsulfat oder Lithium-Aluminat enthält, umge-
mehr Trübungsmittel (Calcium- und/oder Barium- ben, die zwischen 100 und 1500C angetrocknet wird,
phosphat) und Na2O und/oder K2O das Grundglas Die mit der Beize bedeckten Glasgegenstände werden
enthält. Oberhalb 20 Gewichtsprozent Al2O3 wird 30 dann auf eine Vorkristallisationstemperatur erhitzt,
keine ausreichende Trübung mehr erhalten. Obwohl bei der das Glas eine Viskosität von ungefähr
das Na2O und/oder K2O allein keine Phosphattrübung 5 · 10" Poise besitzt, und dort so lange (etwa 1 h)
hervorrufen, verstärken sie im Zusammenhang mit getempert, bis sich an der Oberfläche eine wenige
dem CaO und/oder BaO die Trübung erheblich. So μΐη dicke, geschlossene kristalline Oberflächenschicht
lassen sich bei Anwesenheit von Na2O und/oder K2O 35 ausgebildet hat.
noch Trübungen oberhalb 12 Gewichtsprozent Al2O3 Ein Lithiumaustausch in der Oberflächenschicht
erzielen. findet bei den hier beanspruchten Zusammensetzungs-
Im Gegensatz zu den klären Grundgläsern darf bei bereichen nur so lange statt, bis sich eine geschlossene
den calcium- und/oder bariumphosphat-getrübten kristalline Oberflächenschicht ausgebildet hat. Danach
Grundgläsern der ZnO-Gehalt 3 Gewichtsprozent 40 ist die Anwesenheit der Beize für das Weiterwachsen
nicht überschreiten, da sich sonst bei der Wärme- der Kristalle ohne Bedeutung.
behandlung zur Oberflächenkristallisation wie bei Nach der Vorkristallisation können die Glasgegen-
einem zu hohen TiO2- und/oder ZrO2-Gehalt im Glas- stände entweder abgekühlt, die Beize durch Waschen
inneren einzelne Kristalle ausbilden, was, wie bereits entfernt und die Glasgegenstände auf die Kristalhsa-
beschrieben, zu einer Zerstörung vom Glasinneren 45 tionstemperatur erhitzt werden, oder sie können direkt
herführen kann. Bei Anwesenheit von über 1 Gewichts- mit der Beize auf die Kristallisationstemperatur ge-
prozent MgO soll der ZnO-Gehalt sogar 2 Gewichts- bracht werden. Bei der Kristallisationstemperatur
prozent nicht überschreiten. besitzen die Kristalle eine Wachstumsgeschwindigkeit
Auch in den opaken Gläsern bewirkt das P2O5 die von etwa 100 μΐη/h. Die Aufheizgeschwindigkeit zwi-
Bildung stark abgerundeter Kristallspitzen bzw. glatter 50 sehen der VorkristaUisations- und Kristallwachstums-
Kristallfronten. temperatur ist hierbei nicht mehr ausschlaggebend.
Zur Ausbildung der kristallinen Oberflächenschicht Zur Verdeutlichung des beanspruchten Verfahrens
gemäß dem beanspruchten Verfahren wird der Glas- sollen folgende Durchführungsbeispiele dienen:
gegenstand auf eine Temperatur erhitzt, bei der die . .
Kristalle eine Wachstumsgeschwindigkeit von 100 μπι/1ι 55 υ e ι s ρ ι e ι ι
besitzen. Da im allgemeinen eine 100 μηι dicke Aus dem Glas 11 der Tabelle Ha werden Rundkristalline Schicht ausreicht um einem Abrieb, wie scheiben von 45 mm 0 und 1,5 mm Dicke hergestellt, er im normalen Gebrauch vorkommt, zu widerstehen, Die Rundscheiben werden 1 h bei 6500C getempert, wird der Glasgegenstand etwa 1 h bei dieser Tempera- anschließend mit 2°C/min auf 78O0C erhitzt und dort tür getempert Diese Kristallisationstemperatur, bei 60 noch einmal 1 h getempert. Bei dieser Wärmebehandder die Kristalle eine Wachstumsgeschwindigkeit von lung bildet sich eine 100 μπι dicke kristalline Ober-100 μηι besitzen, liegt bei den Gläsern des beanspruch- flächenschicht Die Festigkeit der Rundscheiben beten Zusammensetzungsbereiches 100 bis 3000C ober- trägt 4500kp/cm2 (nach Abrieb). Das Aussehen dei halb der !Tg-Temperatur. Rundscheiben ist translucent
Zur Verringerung der Deformation werden die 65 . .
Glasgegenstände möglichst rasch durch Umsetzen B e 1 s ρ 1 e 1 II
oder schnelles Aufheizen von der !^-Temperatur auf Aus dem Glas 8 wird eine beidseitig geschliffene die Kristallisationstemperatur erhitzt, da die wach- und polierte Platte von 2 X 50 X 100 mm hergestellt
gegenstand auf eine Temperatur erhitzt, bei der die . .
Kristalle eine Wachstumsgeschwindigkeit von 100 μπι/1ι 55 υ e ι s ρ ι e ι ι
besitzen. Da im allgemeinen eine 100 μηι dicke Aus dem Glas 11 der Tabelle Ha werden Rundkristalline Schicht ausreicht um einem Abrieb, wie scheiben von 45 mm 0 und 1,5 mm Dicke hergestellt, er im normalen Gebrauch vorkommt, zu widerstehen, Die Rundscheiben werden 1 h bei 6500C getempert, wird der Glasgegenstand etwa 1 h bei dieser Tempera- anschließend mit 2°C/min auf 78O0C erhitzt und dort tür getempert Diese Kristallisationstemperatur, bei 60 noch einmal 1 h getempert. Bei dieser Wärmebehandder die Kristalle eine Wachstumsgeschwindigkeit von lung bildet sich eine 100 μπι dicke kristalline Ober-100 μηι besitzen, liegt bei den Gläsern des beanspruch- flächenschicht Die Festigkeit der Rundscheiben beten Zusammensetzungsbereiches 100 bis 3000C ober- trägt 4500kp/cm2 (nach Abrieb). Das Aussehen dei halb der !Tg-Temperatur. Rundscheiben ist translucent
Zur Verringerung der Deformation werden die 65 . .
Glasgegenstände möglichst rasch durch Umsetzen B e 1 s ρ 1 e 1 II
oder schnelles Aufheizen von der !^-Temperatur auf Aus dem Glas 8 wird eine beidseitig geschliffene die Kristallisationstemperatur erhitzt, da die wach- und polierte Platte von 2 X 50 X 100 mm hergestellt
Zur Bildung einer kristallinen Oberflächenschicht wird die Platte durch einen 120 cm langen, senkrecht stehenden
Gradientenofen mit einer konstanten Geschwindigkeit von 10 cm/min durchgezogen. Der
Gradientenofen besitzt eine Anfangstemperatur von 2000C und eine Endtemperatur von 9200C. Die
Abkühlung erfolgt in einem Kühlofen. Die gesamte Oberflächenkristallisation ist bereits nach 12 min
beendet. Die Dicke der kristallinen Oberflächenschicht beträgt 100 μΐη. Mit dem optischen Mikroskop können
keine ins Glasinnere ragende Kristallspitzen gefunden werden. Die Kristallfront zeigt einen glatten Verlauf.
Aus dem Glas 17 wird ein 1-1-Krug geblasen und
zur Vermeidung einer Deformation mit einer Lithium-Aluminatpaste behandelt. Zum Trocknen der Beize
wird der Krug 30 min auf 100° C gehalten. Zur Oberflächenkristallisation
wird er zunächst 1 Stunde bei 6100C wärmebehandelt, dann auf 7200C mit 2°C/min
erhitzt und bei 72O0C nochmals 1 Stunde wärme-
o behandelt. Nach der Wärmebehandlung wird der Krug
mit 3°C/min abgekühlt und von der Lithium-AIuminatpaste gereinigt. Der Krug besitzt ein glänzendes,
weißes, opakes Aussehen.
Tabelle Ha (Gewichtsprozent)
Glas
8
10
13
14
54,50
22,00
1,10
7,40
2,00
1,00
22,00
1,10
7,40
2,00
1,00
4,50
3,00
4,50
3,00
4,50
68,50
16,30
16,30
64,00 15,00
2,00
4,10
4,10
0,90
6,10
0,50
1,60
6,10
0,50
1,60
62,00 25,00
2,00 3,00 4,00
1,00 2,00 5,00 4,00
3,20 2,00
1,00 6,00 0,80
62,00
20,00
5,00
3,50 2,00
1,00 5,00 1,00 0,50
63,30 ,21,70
2,90
3,10 0,90 6,10 0,50 1,50
63,60 21,90 60,70
20,90
20,90
3,30 4,10
1,00 2,10 2,10 2,10 4,50
3,10
3,90
3,10
3,90
0,90
2,00
2,00
2,00
2,00
2,00
2,00
60,10
20,70
20,70
4,50
3,10
3,90
3,10
3,90
0,90
4,90
1,90
1,90
62,00
21,50
21,50
1,50
4,00
4,00
1,00
6,00
4,00
6,00
4,00
65,80
18,00
18,00
4,00
2,00
2,00
1,00
6,00
0,50
1,50
0,60
0,60
6,00
0,50
1,50
0,60
0,60
60,00 20,60
60,00 20,00
3,10 7,70
0,80 5,80 0,50 1,50
3,50
10,00 0,50 4,00 2,00
60,00 20,00
0,50 3,00
8,00
2,00 2,00 2,00
2,50
60,00 20,00
Tabelle Hb (Gewichtsprozent)
16
18
19
20 Glas
21 I 22
21 I 22
23
25
26
SiO2 .
Al2O3
B2O3 .
PA .
Li2O .
Na2O
K2O .
MgO .
ZnO .
CaO .
BaO ,
ZrO2
Al2O3
B2O3 .
PA .
Li2O .
Na2O
K2O .
MgO .
ZnO .
CaO .
BaO ,
ZrO2
65,20
10,00
10,00
5,00
2,80
4,00
2,80
4,00
4,00
5,00
4,00
4,00
64,10
15,50
15,50
4,90
3,90
4,00
3,90
4,00
1,00
5,10
1,50
1,50
61,00 20,00
5,00 3,00 6,00
5,00
63,00 15,00 2,00 5,00 3,50 4,00
1,00 2,00 2,50 2,00
61,00 15,00 6,00 5,00 3,50 4,00
1,00
2,50 2,50 64,00
15,00
15,00
3,00
3,00
4,00
3,00
4,00
1,00
2,00
5,00
3,00
2,00
5,00
3,00
64,00
15,00
15,00
6,00
4,00
4,00
4,00
4,00
3,00
2,50
1,50
2,50
1,50
65,70
15,50
15,50
5,00
2,10
4,10
2,10
4,10
0,90
5,20
1,50
1,50
62,50
16,00
16,00
4,00
3,50
3,50
8,00
2,00
2,00
2,00
2,00
2,00
66,00 12,00
5,00 3,50 2,50
1,50 2,00 5,00 3,00
61,80 15,40
4,80 4,00 2,00
12,00
60,00 15,50
5,00 3,00 4,00
1,00 2,00 5,00 2,00 2,50
15
It)
Tabelle ma (Gewichtsprozent)
16
Eigenschaften | 1 | 2 | 3 | 4 | Glas 5 |
6 | 7 | 8 | 9 |
Linearer Wärmeausdehnungs koeffizient * ·107 (20—300°C)/°C |
46,7 636 |
47,5 628 |
52,8 550 |
45,0 671 |
48,6 581 |
45,0 655 |
58,4 612 |
58,8 611 |
62,8 648 |
Transformationspunkt Tg in 0C (τ?~1013·6Ρ) |
2,510 1213 |
2,494 1343 |
2,526 1180 |
2,507 1272 |
2,457 1199 |
2,502 1288 |
2,480 1269 |
2,467 1289 |
2,470 1220 |
Dichte (g/cms) | 577 | 715 | 630 | 601 | 618 | 633 | 657 | 678 | 572 |
Verarbeitungspunkt Va in 0C (v - 10* P) |
817 181 |
840 212 |
744 194 |
870 199 |
765 174 |
870 215 |
769 157 |
803 192 |
892 144 |
Länge des Glases (VA - Tg) ATm °C '.. |
1119 | 1140 | 1078 | 1267 | 1168 | 1250 | 1140 | 1170 | 1150 |
Lage des DTA-Peaks in c C Deformationsneigung (DTA — Tg) ATin 0C |
+94 3750 trans |
+203 4500 trans |
+102 5300 trans |
+5 2650 trans |
+31 3000 trans |
+38 5000 trans |
+129 6000 trans |
+119 6400 trans |
+70 6500 trans |
Obere Entglasungsgrenze (OEG) ; in 0C |
lucent | lucent | lucent | lucent | lucent | lucent | lucent | lucent | lucent |
Entglasungsverhalten ry. _ OEG) ΔTin 0C |
|||||||||
Bieeezuefestiekeit (kp/cm2) | |||||||||
Aussehen nach der Oberflächen kristallisation , |
|||||||||
Tabelle IHb
(Gewichtsprozent)
(Gewichtsprozent)
Eigenschaften
Linearer Wärmeausdehnungskoeffizient
« · 10' (20—300° C)/0 C
« · 10' (20—300° C)/0 C
Transformationspunkt Tg in ° C
(η ~ 101316P)
(η ~ 101316P)
Dichte (g/cm3)
Verarbeitungspunkt Va in 0C
(η - 10* P)
(η - 10* P)
Länge des Glases {VA — Tg)
ATm0C
Lage des DTA-Peaks in ° C
Deformationsneigung (DTA — Tg) ATia 0C
Obere Entglasungsgrenze (OEG)
in 0C
in 0C
Entglasungsverhalten
(Va -OEG) ATin 0C
(Va -OEG) ATin 0C
Biegezugfestigkeit (kp/cma)
Aussehen nach der Oberflächenkristallisation
10 | 11 | 12 | 13 | Glas 14 |
15 | 16 | 17 |
49,6 | 50,8 | 69,2 | 62,6 | 62,4 | 58,7 | 65,9 | 67,2 |
662 2,529 |
600 2,507 |
564 2,534 |
572 2,461 |
613 2,503 |
599 2,529 |
550 2,505 |
560 2,456 |
1266 | 1261 | 1202 | 1254 | 1296 | 1169 | 1161 | 1206 |
604 971 |
661 757 |
633 744 |
682 695 |
683 833 |
570 750 |
611 741 |
646 720 |
309 | 153 | 180 | 123 | 220 | 151 | 191 | 160 |
1120 | 1253 | 1030 | 1026 | 1153 | 1144 | 1059 | 1120 |
+146 4000 |
+ 8 4500 |
+172 3750 |
+228 6800 |
+146 4200 |
+25 3900 |
+102 1700 |
+74 4100 |
trans lucent |
trans lucent |
trans lucent |
trans lucent |
trans lucent |
trans lucent |
weiß opak |
weiß opak |
weiß opak
17
Tabelle Hie (Gewichtsprozent)
l\
18
Eigenschaften
Linearer Wärmeausdehnungskoeffizient
λ-1O7 (20—3000C)/0 C
λ-1O7 (20—3000C)/0 C
Transfonnationspunkt Tg in 0C
(η ~ 10"·« P)
(η ~ 10"·« P)
Dichte (g/cm8)
Verarbeitungspunkt Va in 0C
07 = 10*Ρ)
07 = 10*Ρ)
Länge des Glases {VA — Tg)
ΔΤιη°Ο
Lage des DTA-Peaks in 0C
Deformationsneigung (DTA — Tg) ATin°C
Obere Entglasungsgrenze (OEG)
in°C
in°C
Entglasungsverhalten
(P^-OEG) Λ Γ in 0C
Biegezugfestigkeit (kp/cm2)
Aussehen nach der Oberflächenkristallisation
19 | j 20 | 21 | 22 | Glas 23 |
24 | 25 | 26 |
63,3 | 63,3 | 63,4 | 62,0 | 58,7 | 65,3 | 60,2 | 61,4 |
567 2,422 |
548 2,402 |
548 2,504 |
568 2,460 |
664 2,427 |
621 2,438 |
574 2,483 |
608 2,554 |
1203 | 1168 | 1189 | 1224 | 1316 | 1281 | 1238 | 1233 |
636 717 |
620 787 |
641 760 |
656 759 |
652 997 |
660 900 |
664 732 |
625 892 |
150 | 239 | 212 | 191 | 333 | 279 | 158 | 284 |
1111 | 1051 | 1094 | 1173 | 1060 | 1134 | 1154 | 1133 |
+92 4050 |
+117 1800 |
+95 4800 |
+51 1600 |
+256 2450 |
+147 3000 |
+84 3000 |
+100 2800 |
weiß opak |
weiß opak |
weiß opak |
weiß opak |
weiß opak |
weiß opak |
weiß opak |
weiß opak |
weiß opak
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (9)
1. Verfahren zur Herstellung eines hochfesten und temperaturwechselbeständigen, translucenten
oder opakten Glasgegenstandes mit einer teilweise kristallinen Oberflächenschicht, die aus /3-Spodumen
und/oder Hoch-Quarz-Miscbkristall und einer
Restglasphase besteht, dadurch gekennzeichnet, daß an einem Glas, welches Li2O,
Na2O und/oder KSO, Al2O3 und SiO2 enthält und
bei dem das Gewichtsprozent-Verhältnis LiO2/ Al2O3
< 3 und die Summe Na2O + K2O
> 1 Gewichtsprozent und <10 Gewichtsprozent ist, eine
Wärmebehandlung zur kontrollierten Oberflächenkristallisation unter gleichzeitigem Ablauf eines
Ionenaustausches zwischen Lithium-Ionen im Glasinneren und Natrium- und/oder Kalium-Ionen an
der Kristallfront innerhalb des Glases ohne Einwirkung einer äußeren Ionenquelle durchgeführt
wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein Grundglas verwendet wird, das
im wesentlichen aus folgenden Oxiden (in Gewichtsprozent) besteht:
SiO2 52 bis 70%
Al2O3 10 bis 25%
B2O3 O bis 8%
P2O6 O bis 10%
Li2O Ibis 4%
Na2O O bis 8%
K2O O bis 10%
MgO O bis 5%
ZnO O bis 7%
CaO O bis 10%
BaO O bis 12%
TiO2 O bis 1,2%
ZrO2 O bis 2,5%
wobei das Gewichts-Verhältnis LiO2/Al2O3
< 0,3, die Summe Na2O + K2O
> 1 Gewichtsprozent und <10 Gewichtsprozent und die Summe TiO2
+ ZrO2 < 2,5 Gewichtsprozent ist.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß von einem klar durchsichtigen
Grundglas ausgegangen wird, das im wesentlichen aus den Oxiden (in Gewichtsprozent) nach Anspruch
2 besteht, wobei das Gewichts-Verhältnis Li2O/AlijO3
< 0,3, die Summe Na2O + K2O
> 1 Gewichtsprozent und <10 Gewichtsprozent, die Summe TiO2 + ZrO2
< 2,5 Gewichtsprozent und entweder P2O6
< 2 Gewichtsprozent oder CaO < 1 Gewichtsprozent und BaO <
5 Gewichtsprozent oder Al2O3 >
20 Gewichtsprozent ist.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß ein Glas mit mindestens
1 Gewichtsprozent P2O5 verwendet wird.
5. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß von einem opaken Grundglas
ausgegangen wird, das folgende Oxide (in Gewichtsprozent) enthält:
Al2O3 10 bis 20%
B2O3 O bis 8%
P2O6 2 bis 10%
ZnO O bis 3%
wobei die Summe CaO + BaO > 2 Gewichtsprozent und die Summe MgO -f- ZnO
< 5 Gewichtsprozent ist.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5. dadurch gekennzeichnet, daß der Glasgegenstanc
während der Oberflächenkristallisation in an siel bekannter Weise mit einer Beize versehen wird
welche Substanzen enthält, die die Keimbilduni begünstigen und/oder die Kristallisationsgeschwindigkeit
erhöhen.
ίο 7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet,
daß eine Beize verwendet wird, die Titandioxid, Lithiumsulfat und/oder Lithiumaluminal
enthält.
8. Verfahren nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß als Beize eine lithiumhaltigc
Substanz in Form einer Paste aufgebracht wird.
9. Verfahren nach Anspruch 6 oder 8, dadurch gekennzeichnet, daß eine Lithiumverbindung verwendet
wird, die einen hohen Schmelzpunkt
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2263234A DE2263234C3 (de) | 1972-12-23 | 1972-12-23 | Verfahren zur Herstellung von hochfesten und temperaturwechselbeständigen Glasgegenständen durch Oberflächenkristallisation unter Ausnutzung eines lonenaustausches innerhalb des Glases |
IT70551/73A IT999882B (it) | 1972-12-23 | 1973-12-04 | Procedimento per la fabbricazione di oggetti di vetro translucidi od opachi ad alta resistenza meccanica e stabili ai cambiamenti di tempera tura mediante cristallizzazione superficiale |
GB5764273A GB1439250A (en) | 1972-12-23 | 1973-12-12 | Glass |
FR7345436A FR2211412B1 (de) | 1972-12-23 | 1973-12-19 | |
US427137A US3907577A (en) | 1972-12-23 | 1973-12-21 | Making surface crystallized glass bodies and resulting product |
BE6044402A BE809071A (fr) | 1972-12-23 | 1973-12-21 | Procede de fabrication d'objets en verre a haute resistance et stables aux variations de temperature par cristallisation superficielle |
JP744362A JPS545405B2 (de) | 1972-12-23 | 1973-12-22 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2263234A DE2263234C3 (de) | 1972-12-23 | 1972-12-23 | Verfahren zur Herstellung von hochfesten und temperaturwechselbeständigen Glasgegenständen durch Oberflächenkristallisation unter Ausnutzung eines lonenaustausches innerhalb des Glases |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2263234A1 DE2263234A1 (de) | 1974-08-01 |
DE2263234B2 true DE2263234B2 (de) | 1974-11-07 |
DE2263234C3 DE2263234C3 (de) | 1975-07-10 |
Family
ID=5865345
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2263234A Expired DE2263234C3 (de) | 1972-12-23 | 1972-12-23 | Verfahren zur Herstellung von hochfesten und temperaturwechselbeständigen Glasgegenständen durch Oberflächenkristallisation unter Ausnutzung eines lonenaustausches innerhalb des Glases |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3907577A (de) |
JP (1) | JPS545405B2 (de) |
BE (1) | BE809071A (de) |
DE (1) | DE2263234C3 (de) |
FR (1) | FR2211412B1 (de) |
GB (1) | GB1439250A (de) |
IT (1) | IT999882B (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0205262A1 (de) * | 1985-06-10 | 1986-12-17 | Corning Glass Works | Gehärtete Glasartikel und Verfahren zur Herstellung |
Families Citing this family (63)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4172921A (en) * | 1974-05-17 | 1979-10-30 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen. | Fireproof glass |
US4042403A (en) * | 1975-05-19 | 1977-08-16 | Corning Glass Works | Thermally stable glass-ceramic articles |
US4053679A (en) * | 1975-08-15 | 1977-10-11 | Ppg Industries, Inc. | Chemically strengthened opal glass |
US4055703A (en) * | 1975-08-15 | 1977-10-25 | Ppg Industries, Inc. | Ion exchange strengthened glass containing P2 O5 |
US4042362A (en) * | 1976-05-18 | 1977-08-16 | Corning Glass Works | Production of glass-ceramic articles |
US4192665A (en) * | 1977-09-07 | 1980-03-11 | Corning Glass Works | Rapidly crystallized beta-spodumene glass-ceramic materials |
US4301324A (en) * | 1978-02-06 | 1981-11-17 | International Business Machines Corporation | Glass-ceramic structures and sintered multilayer substrates thereof with circuit patterns of gold, silver or copper |
US4315991A (en) * | 1980-12-19 | 1982-02-16 | Corning Glass Works | Very low expansion sealing frits |
JPS57205453A (en) * | 1981-06-12 | 1982-12-16 | Fuji Seito Kk | Production of powdered colorant containing water- insoluble coloring matter such as paprika coloring matter or chlorophyll |
US4391914A (en) * | 1982-06-14 | 1983-07-05 | Corning Glass Works | Strengthened glass-ceramic article and method |
US4461839A (en) * | 1982-12-20 | 1984-07-24 | Corning Glass Works | Colored transparent, translucent and opaque glass-ceramics |
US4515897A (en) * | 1983-01-28 | 1985-05-07 | Schott Glaswerke | Crystallizing glass solders and stripping films with such glass solder imprinted thereon |
US4530166A (en) * | 1984-02-27 | 1985-07-23 | Owens-Corning Fiberglas Corporation | Preheating particulate material |
GB2159514B (en) * | 1984-05-23 | 1987-12-02 | Zeiss Stiftung | Glass ceramic with specific thermal expansion behaviour |
JPS61101434A (ja) * | 1984-10-23 | 1986-05-20 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 透明結晶化ガラス |
DE3840071A1 (de) * | 1988-11-28 | 1990-05-31 | Schott Glaswerke | Verfahren zum ionenaustausch an glas oder glaskeramik |
JP2905529B2 (ja) * | 1990-01-05 | 1999-06-14 | 日本電気硝子株式会社 | ディオプサイド系天然大理石様結晶化ガラスの製造方法 |
US5084328A (en) * | 1990-12-24 | 1992-01-28 | Corning Incorporated | Strong, surface crystallized glass articles |
JPH0737335B2 (ja) * | 1991-09-10 | 1995-04-26 | 日本電気硝子株式会社 | 結晶化ガラス及びその製造方法 |
US5256600A (en) * | 1992-07-24 | 1993-10-26 | Corning Incorporated | Glass-ceramics and color methods |
JP2882995B2 (ja) * | 1994-03-15 | 1999-04-19 | 株式会社オハラ | 結晶化ガラス、磁気ディスク用結晶化ガラス基板及び結晶化ガラスの製造方法 |
DE4423793C1 (de) * | 1994-07-01 | 1996-02-22 | Ivoclar Ag | Leucithaltige Phosphosilikat-Glaskeramik, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
DE4428839C2 (de) * | 1994-08-01 | 1997-01-23 | Ivoclar Ag | Alkali-Zink-Silicat-Glaskeramiken und -Gläser und Verfahren zur Herstellung der Glaskeramiken |
US5653791A (en) * | 1996-03-12 | 1997-08-05 | Jeneric/Pentron, Incorporated | Two-phase dental forcelain composition |
US20100035215A1 (en) * | 1996-03-12 | 2010-02-11 | Pentron Ceramics, Inc. | Machinable Porcelain Compositions and Mill Blanks Thereof |
JP4086210B2 (ja) * | 1998-04-17 | 2008-05-14 | Hoya株式会社 | 情報記録媒体用基板 |
US6802894B2 (en) | 1998-12-11 | 2004-10-12 | Jeneric/Pentron Incorporated | Lithium disilicate glass-ceramics |
US6517623B1 (en) | 1998-12-11 | 2003-02-11 | Jeneric/Pentron, Inc. | Lithium disilicate glass ceramics |
EP1149058B1 (de) | 1998-12-11 | 2015-02-18 | Ivoclar Vivadent AG | Verfahren zur herstellung von pressbaren lithiumdisilikatglaskeramiken |
DE10333399B3 (de) * | 2003-07-16 | 2005-04-07 | Schott Ag | Verwendung eines Glases für optische Transmissionskomponenten großer Dicke |
US7727917B2 (en) * | 2003-10-24 | 2010-06-01 | Schott Ag | Lithia-alumina-silica containing glass compositions and glasses suitable for chemical tempering and articles made using the chemically tempered glass |
JP4467597B2 (ja) * | 2007-04-06 | 2010-05-26 | 株式会社オハラ | 無機組成物物品 |
JP2009073726A (ja) * | 2007-08-28 | 2009-04-09 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 天然大理石様結晶化ガラス、天然大理石様結晶化ガラス物品及びその製造方法 |
EP2364957A1 (de) * | 2010-02-26 | 2011-09-14 | Corning Incorporated | Vitrocéramiques ayant des propriétés de diffusion en masse et leurs procédés de fabrication |
US20120196109A1 (en) * | 2010-08-31 | 2012-08-02 | Sasha Marjanovic | Surface nucleated glass ceramics for tv cover glass |
US9346703B2 (en) | 2010-11-30 | 2016-05-24 | Corning Incorporated | Ion exchangable glass with deep compressive layer and high damage threshold |
US8883663B2 (en) * | 2010-11-30 | 2014-11-11 | Corning Incorporated | Fusion formed and ion exchanged glass-ceramics |
US8889575B2 (en) * | 2011-05-31 | 2014-11-18 | Corning Incorporated | Ion exchangeable alkali aluminosilicate glass articles |
US9359251B2 (en) | 2012-02-29 | 2016-06-07 | Corning Incorporated | Ion exchanged glasses via non-error function compressive stress profiles |
CN111763009A (zh) * | 2012-10-04 | 2020-10-13 | 康宁股份有限公司 | 具有玻璃层和玻璃陶瓷层的制品以及该制品的制造方法 |
CN110698059B (zh) | 2012-10-04 | 2022-07-29 | 康宁股份有限公司 | 由光敏玻璃制成的压缩应力化层合玻璃制品及制备所述制品的方法 |
US11079309B2 (en) | 2013-07-26 | 2021-08-03 | Corning Incorporated | Strengthened glass articles having improved survivability |
US10202300B2 (en) | 2013-08-23 | 2019-02-12 | Corning Incorporated | Strengthened glass articles, edge-strengthened laminated glass articles, and methods for making the same |
US10118858B2 (en) | 2014-02-24 | 2018-11-06 | Corning Incorporated | Strengthened glass with deep depth of compression |
TWI705889B (zh) | 2014-06-19 | 2020-10-01 | 美商康寧公司 | 無易碎應力分布曲線的玻璃 |
US9751798B2 (en) | 2014-06-30 | 2017-09-05 | Corning Incorporated | White, opaque,β-spodumene glass-ceramic articles with inherent damage resistance and methods for making the same |
US9546106B2 (en) * | 2014-06-30 | 2017-01-17 | Corning Incorporated | White, opaque, βspodumene glass-ceramic articles with tunable color and methods for making the same |
CN112250301A (zh) | 2014-10-08 | 2021-01-22 | 康宁股份有限公司 | 包含金属氧化物浓度梯度的玻璃和玻璃陶瓷 |
US10150698B2 (en) | 2014-10-31 | 2018-12-11 | Corning Incorporated | Strengthened glass with ultra deep depth of compression |
EP4011843A3 (de) | 2014-11-04 | 2022-06-29 | Corning Incorporated | Tiefe unzerbrechliche belastungsprofile und verfahren zur herstellung |
US10579106B2 (en) | 2015-07-21 | 2020-03-03 | Corning Incorporated | Glass articles exhibiting improved fracture performance |
US11613103B2 (en) | 2015-07-21 | 2023-03-28 | Corning Incorporated | Glass articles exhibiting improved fracture performance |
EP3386930B1 (de) | 2015-12-11 | 2021-06-16 | Corning Incorporated | Fusionsformbare glasbasierte artikel mit einem metalloxidkonzentrationsgradienten |
CN111423110A (zh) | 2016-04-08 | 2020-07-17 | 康宁股份有限公司 | 包含金属氧化物浓度梯度的玻璃基制品 |
KR20200091500A (ko) | 2016-04-08 | 2020-07-30 | 코닝 인코포레이티드 | 두 영역을 포함하는 응력 프로파일을 포함하는 유리-계 물품, 및 제조 방법 |
CN108698909B (zh) | 2016-05-27 | 2022-07-12 | 康宁股份有限公司 | 耐破裂和耐划痕玻璃制品 |
KR102657561B1 (ko) | 2018-09-03 | 2024-04-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유리 기판 및 유리 기판의 제조 방법 |
KR20210101269A (ko) | 2018-12-12 | 2021-08-18 | 코닝 인코포레이티드 | 이온-교환 가능한 리튬-함유 알루미노실리케이트 유리 |
TW202031613A (zh) * | 2019-02-07 | 2020-09-01 | 日商Agc股份有限公司 | 無鹼玻璃 |
CN110002760B (zh) * | 2019-04-30 | 2021-09-24 | 重庆鑫景特种玻璃有限公司 | 一种含有微纳米晶体的玻璃陶瓷及其制备方法 |
CN112939472B (zh) * | 2019-12-11 | 2022-04-26 | 四川旭虹光电科技有限公司 | 微晶玻璃及其制备方法和应用 |
CN113683309B (zh) * | 2021-08-25 | 2022-09-23 | 清远南玻节能新材料有限公司 | 微晶玻璃及其制备方法与应用 |
CN117700111A (zh) * | 2022-09-14 | 2024-03-15 | 清远南玻节能新材料有限公司 | 强化玻璃、微晶玻璃及其制备方法与应用 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL6410825A (de) * | 1963-11-21 | 1965-05-24 | ||
US3428513A (en) * | 1964-04-24 | 1969-02-18 | Owens Illinois Inc | Strengthened crystalline article and method of making the same |
US3490984A (en) * | 1965-12-30 | 1970-01-20 | Owens Illinois Inc | Art of producing high-strength surface-crystallized,glass bodies |
US3498775A (en) * | 1966-06-17 | 1970-03-03 | Owens Illinois Inc | Method for producing a glass-ceramic article |
US3791809A (en) * | 1973-01-12 | 1974-02-12 | Owens Illinois Inc | Method of strengthening glass articles using powdered salts for ion exchange |
-
1972
- 1972-12-23 DE DE2263234A patent/DE2263234C3/de not_active Expired
-
1973
- 1973-12-04 IT IT70551/73A patent/IT999882B/it active
- 1973-12-12 GB GB5764273A patent/GB1439250A/en not_active Expired
- 1973-12-19 FR FR7345436A patent/FR2211412B1/fr not_active Expired
- 1973-12-21 US US427137A patent/US3907577A/en not_active Expired - Lifetime
- 1973-12-21 BE BE6044402A patent/BE809071A/xx unknown
- 1973-12-22 JP JP744362A patent/JPS545405B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0205262A1 (de) * | 1985-06-10 | 1986-12-17 | Corning Glass Works | Gehärtete Glasartikel und Verfahren zur Herstellung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2211412A1 (de) | 1974-07-19 |
JPS4999521A (de) | 1974-09-20 |
DE2263234A1 (de) | 1974-08-01 |
BE809071A (fr) | 1974-04-16 |
GB1439250A (en) | 1976-06-16 |
US3907577A (en) | 1975-09-23 |
JPS545405B2 (de) | 1979-03-16 |
FR2211412B1 (de) | 1978-02-10 |
IT999882B (it) | 1976-03-10 |
DE2263234C3 (de) | 1975-07-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2263234C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von hochfesten und temperaturwechselbeständigen Glasgegenständen durch Oberflächenkristallisation unter Ausnutzung eines lonenaustausches innerhalb des Glases | |
DE1421845C3 (de) | Verfestigter Glasgegenstand mit einer das Glasinnere umgebenden Oberflächen-Druckspannungsschicht und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE2034393C3 (de) | Anwendung des Verfahrens zur Erhöhung der mechanischen Festigkeit eines Glases durch Austausch von Natriumionen gegen Kaliumionen auf ein Glas, das verkürzte Austauschzeiten ermöglicht | |
DE2337702C3 (de) | Flachglas des Systems SiO2 -Na2 0-CaO-MgO-Al2 O3 -Fe2 O] -SO3 -(K2 O) mit verbesserten Eigenschaften zur thermischen und chemischen Härtung, sowie Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE1016908B (de) | Verfahren zum Herstellen von Glasgegenstaenden hoher mechanischer Festigkeit und danach hergestellte Glasgegenstaende | |
DE1496636A1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines oberflaechenkristallisierbaren Grundglases | |
DE2008724C3 (de) | Glas des Systems SiO2 - Al2 O3 - CaO - B2 O3 -Alkalioxid - F2, Verfahren zur Herstellung eines spontan trübbaren Opalglases mit einer unmischbaren trübenden Phase und dessen Verwendung | |
DE2428678C2 (de) | Glaskeramische Gegenstände großer Festigkeit und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE60001606T2 (de) | Kristallisiertes Li2O-Al2O3-SiO2 Glas und die dafür benötigten kristallisierbaren Gläser | |
DE1421842A1 (de) | Verfahren zur Verbesserung der physikalischen und chemischen Eigenschaften von Glas | |
DE1596947B2 (de) | Verfahren zur herstellung eines gegenstandes aus alkalihaltigem glas mit durch alkalimetallionenaustausch bewirkter erhoehter mechanischer festigkeit | |
DE1239817B (de) | Verfahren zur Herstellung eines Glaskoerpers, der in seinen Oberflaechenschichten neben der Glasphase noch eine Kristallphase aufweist | |
DE2236088A1 (de) | Glaskeramik und verfahren zu deren herstellung | |
DE1284065B (de) | Verfahren zur Herstellung verstaerkter glaskeramischer Gegenstaende | |
DE1596755A1 (de) | Glas-Kristall-Mischkoerper und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE1902319A1 (de) | Glaskeramische Artikel | |
DE2422567A1 (de) | Opake glaskeramik | |
DE1910155C3 (de) | Verfahren zur Herstellung eines verstärkten, vollkristallisierten Glasgegenstandes mit Druckspannungen in der Oberfläche und Zugspannungen im Inneren sowie nach dem Verfahren hergestellter Glasgegenstand | |
DE2422568A1 (de) | Opake glaskeramik | |
DE1496074C (de) | Durchsichtiger Glasgegenstand mit einer teilweise kristallinen, eine mechanische Festigkeit von wenigstens 2800 kg/cm hoch 2 aufweisenden Oberflächenschicht und Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE1803540A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von transparenten Glaskeramiken mit niedrigen thermischen Laengsdehnungskoeffizienten und hohen mechanischen Festigkeiten | |
AT258501B (de) | Verfahren zur Verbesserung der Oberflächenfestigkeit eines Glasgegenstandes | |
AT202724B (de) | Verfahren zur Herstellung von Glasgegenständen mit hoher mechanischer Festigkeit | |
DE2211317A1 (de) | Mindestens teilweise kristalliner Glaskeramikgegenstand und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE2034381A1 (de) | Verfahren zur Verfestigung eines Glasartikels |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: SCHOTT GLASWERKE, 6500 MAINZ, DE |
|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |