DE2246404B2 - Raster-Elektronenmikroskop - Google Patents
Raster-ElektronenmikroskopInfo
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Description
3 4
/- = Abstand zwischen der Hauptebene der Kathodenstrahlröhre 14 klar dargestellt wird. Die
Linse 6 und einer Blende 17. durch welche Brennweite der Kondensorlinse 6 ist so eingestellt,
das Beobachtungsfeld begrenzt wird. daß das ausgewählte Gebiet des Bildes des Elek-
/ = Brennweite der Linse 6 tronenmikroskops innerhalb des Blendenschattens im
'S = Abstand zwischen der Probe und der Haupt- 5 Bren"Punkt **&■ *? diesei" Ausführungsbeispiel ist
ebene der Lin^e 6 die Abtastbreite Dd des Elektronenstrahls auf der
Oberfläche der Probe durch den Durchmesser der
Die Blende 17 dient zur Begrenzung der Elek- Blende 17 bestimmt und durch den Ablenkstrom der
tronenstrahlbreite. Unter diesen Bedingungen ergibt Abtastspulen 19 .r und 19y nicht beschränkt. Die
sich die folgende Beziehung: i° Gleichung (1) ist gleichfalls erfüllt. Um ein Beugungs-
e bild beobachten zu können, das dem erhaltenen aus-
Dd = Do (2) gewählten Bereich des Bildes des Abtast-Elektronen-
£ mikroskops entspricht, ist die Brennweite der zweiten
wobei Kondensorlinse 5 gemäß F i g. 4 geändert. Unter den
Dd = Breite des Elektronenstrahls, der die Probe- l5 Bedingungen nach F i g. 4 ist die Stromstärke des den
oberfläche bestrahlt Spulen 19 .r und 19 y zugeführten Ablenkstromes 0
JDo = Durchmesser der Blende 17. und die Biennwevte der Kondensorlmse 5 derart vergrößert,
daß die Bildebene '.0 der Kondensorlinse 5
Bei Erfüllung dieser Beziehung wird die Probe mit mit der Objektebene der Lii.-^e 6 übereinstimmt. Das
einem Strahl ausgezeichnet parallellaufender Elektro- 2° heißt, daß die Bildebene 20 von der Hauptebene der
nen bestrahlt, der auf einem Fluoreszenzschirm 18 Linse 6 etwa um den Betrag /0 entfernt ist. Eine prä-
oder einer Fotoplatte ein Beugungsbild erzeugt. zise Einstellung der Brennweite wird erzielt, wenn
Die vorgenannte Anordnung ergibt jedoch keine d^s Beugungsbild auf dem Schirm 18 bis zum Erhalt
unmittelbare Beziehung zwischen dem begrenzten seiner größten Schärfe überwacht wird. Während
Bereich des Beugungsmusters und dem Bild des Ab- as dieser Einstellung wird die Brennweite der Linse 6
tast-Elektronenmikroskops. Insbesondere besteht hier- auf dem gleichen Wert gehalten.
bei keine unmittelbare Beziehung zwischen der Ab- F i g. 5 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel, bei tastbreite Di des Elektronenstrahles und der Breite dem durch Benutzung des durch die Probe hindurch- Dd des Elektronenstrahles, der auf die Oberfläch·», der tretenden Elektronenstrahls das Bild des Raster-Probe auftrifft. Der Mikroskopierende ist daher ge- 30 Elektronenmikroskops auf dem Schirm der Kathodenzwungen, mittels der Beziehung (2) Dd zu berechnen strahlröhre 14 dargestellt wird. Hierbei wird auf die und unter Zuhilfenahme dieses Wertes die ausge- Kondensorlinse 4 verzichtet und der mit 21 bezeichwählte Beobachtungsfläche (M · Dd)- im Zentrum des nete Detektor samt Blende 22 unterhalb der Probe Bildes des Elektronenmikroskops abzuschätzen. angeordnet.
bei keine unmittelbare Beziehung zwischen der Ab- F i g. 5 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel, bei tastbreite Di des Elektronenstrahles und der Breite dem durch Benutzung des durch die Probe hindurch- Dd des Elektronenstrahles, der auf die Oberfläch·», der tretenden Elektronenstrahls das Bild des Raster-Probe auftrifft. Der Mikroskopierende ist daher ge- 30 Elektronenmikroskops auf dem Schirm der Kathodenzwungen, mittels der Beziehung (2) Dd zu berechnen strahlröhre 14 dargestellt wird. Hierbei wird auf die und unter Zuhilfenahme dieses Wertes die ausge- Kondensorlinse 4 verzichtet und der mit 21 bezeichwählte Beobachtungsfläche (M · Dd)- im Zentrum des nete Detektor samt Blende 22 unterhalb der Probe Bildes des Elektronenmikroskops abzuschätzen. angeordnet.
Es wird hierbei die Annahme zugrunde gelegt, daß 35 Beim Ausführungsbeispiel nach F i g. 6 wird das
das Beobachtungsfeld mit dem Bestrahlungsfeld des Beugungsbild mittels Ablenkspulen 23.x und 23 y,
Beugungsmusters übereinstimmt. Diese Annahme dem Detektor 21 und der Blende 22 auf dem Schirm
trifft jedoch nicht immer zu. Hinzu kommt, daß bei der Kathodenstrahlröhre 14 dargestellt. In diesem
Verschiebung der Blende 17 um einen Betrag Λ ge- Fall sind die zwischen der Probe und dem Detektor
gen die optische Achse des Elektronenmikroskops 4° 21 angeordneten Ablenkspulen 23 χ und 23 y über
das Beobachtungsfeld um den Betrag ^- verschoben ^nen υ™<*3ΐ1εΓ 24 t mit n eine™ Rastersignal des
6 6L Generators 16 gespeist. Die Ablentcspulen fuhren
wird, was der Mikroskopierende nicht wahrnimmt. folglich das gesamte Beugungsbild durch die Blende
Beim Raster-Elektronenmikroskop nach F i g. 3 22, das auf dem Schirm der Kathodenstrahlröhre 14
und 4 sind über der Blende 17 Ablenkspulen 19 χ 45 dargestellt wird. Bei Umschaltung des Umschalters
und 19y angeordnet. Diese Spulen sind zusätzlich zu 24 kann das Bild des Raster-Elektronenmikroskops
den Spulen 11* und lly vorgesehen, welch letzte durch Einstellung der Brennweite der Linse. 5 auf
wie ür> Falle des bekannten Raster-Elektronenmikro- dem Bildschirm dargestellt werden,
skcps zwischen den Linsen 5 und 6 angeordnet sind. Beim AusfüLrungsbeispiel nach F i g. 7 werden
Die Fig. 3 zeigt den Elektronenstrahlweg, der er- 50 zum Erhalt des Beugungsbildes die Rasterspulen 19a'
forderlich ist, um ein ausgewähltes Gebiet des Bildes und 19 y verwendet. Hierbei wird ein Rastersignal
des Elektronenmikroskops zu beobachten. Die Ab- des Generators 16 auf die Abtastspulen 19* und 19 y
tastspulen 19* und 19y tasten den Elektronenstrahl gegeben, um die Neigung und den Azimutwinkel
über der Blende 17 ab, auf die der Elektronenstrahl des Elektronenstrahls zu ändern. Es wird das gleiche
durch die Kondensorlinse 5 fokussiert ist. Die Brenn- 55 Beugungst Hd, das beim Ausführungsbeispiel nach
weite der Kondensorlinse5 wird derart gesteuert, daß F i g. 6 erhalten wird, auf dem Schirm der Kathoden-
das Schattenbild der Blende 17 auf dem Schirm der strahlröhre 14 dargestellt.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (5)
1. ein Kondensorlinsensystem mit mindestens zwei
1. Raster-Elektronenmikroskop mit Einrich- Linsen,
tungen zur Darstellung eines Beugungsbildes einer 5 2 dne Blende) die zw]schea zwei dieser Linsen
Probe und des korrespondierenden Rasterbildes, angeordnet ist und einen Bereich des Beugunes-
gekennzeichnet durch folgende Einnch- bildes auswählt,
tungsmerkmale: 3 eme Raster-Ablenkeinrichtung, die — betrachtet
1. ein Kondensorlinsensystem mit mindestens ^ jn Elektronenstrahlrichtung — vor der Blende
zwei Linsen (4, 5, 6), angeordnet ist,
2. einer Blende (17), die zwischen zwei dieser 4. eine Einrichtung zur Darstellung des Beugungs-Linsen
angeordnet ist und ein Gebiet des bildes,
Beugungsbildes auswählt, 5. eine Einrichtung zur Darstellung des Raster-
3. Raster-Ablenkspulen (19 x, 19 y) die — be- ,5 bildes.
trachtet in Elektronenstrahlrichtung — vor Die Erfindung wird nachstehend an Hand der
der Blende angeordnet sind, Zeichnung näher erläutert, wobei gleiche Teile mit
4. eine Zurichtung zur Darstellung des Beu- gleichen Bezugszeichen beziffert sind. Darin zeigen
gungsbildes, F i g. 1 und 2 das bekannte Raster-Elektronen-
gungsbildes, F i g. 1 und 2 das bekannte Raster-Elektronen-
5. eine Einrichtung zur Darstellung des Raster- 3° mikroskop in schematischer Darstellung,
bildes. F i g. 3 und 4 ein Ausführungsbeispiel des nach
der Erfindung ausgebildeten Raster-Elektronenmikro-
2. Raster-Elektronenmikroskop nach An- skops in schematischer Darstellung,
spruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Ein- Fig. 5 bis 7 drei weitere Ausführungsbeispiele des
richtung zur Darstellung des Beugungsbildcs 25 nach der Erfindung ausgebildeten Raster-Elektroneneinen
Fluoreszenzschirm aufweist, der — be- mikroskops in schematischer Darstellung,
trachtet in Elektronenstrahlrichtung — unterhalb In Fig. 1 ist ein bekanntes Raster-Elektronen-
trachtet in Elektronenstrahlrichtung — unterhalb In Fig. 1 ist ein bekanntes Raster-Elektronen-
der Probe (J 0Ϊ angeordnet ist. mikroskop dargestellt, das zur Beobachtung eines
3. Raster-Elektronenmikroskop nach An- Bildes des Raster-Elektronenmikroskops und eines
spruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Ein- 30 Beugungsbildes geeignet ist und ein Kondensorlinsenrichtung
zur Darstellung des Beugungsbildes eine system aufweist. Hierbei erzeugt eine Elektronen-Fotoplatte
aufweist. kanone 1 einen Elektronenstrahl 2, der durch eine
4. Raster-Elektronenmikroskop nach An- Anode 3 beschleunigt wird. Der Elektronenstrahl 2
spruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Ein- wird durch ein Kondensorlinsensystem mit Linsen 4,
richtung zur Darstellung des Beugungsbildes einen 35 5 und 6 konzentriert. Mit 7, 8 und 9 sind jeweils die
Detektor und eine Ablenkeinrichtung, die zwi- den einzelnen Linsen zugeordneten Blenden bezeichschen
der Probe und dem Detektor angeordnet net. Zur Beobachtung eines Bildes des Raster-Elekist,
aufweist. tronenmikroskops wird der konzentrierte Elektronen-
5. Raster-Elektronenmikroskop nach An- strahl auf die Oberfläche einer Probe 10 fokussiert
spruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Ein- 40 und durch Raster-Ablenkspulen Hx und Hy über
richtung zur Darstellung des Beugungsbildes eine die Probenfläche geführt. Die auftreffenden Elektro-Raster-Ablenkeinrichtung
und einen Detektor, der nen erzeugen Sekundär-Elektronen. Von der Proben-—
betrachtet in Elektronenstrahlrichtung — nach oberfläche werden auch Primärelektronen zurückder
Probe angeordnet ist, aufweist. gestreut. Diese Elektronen werden durch einen Detek-
45 tor 12 erfaßt. Das Detektorsignal wird durch einen Verstärker 13 verstärkt und anschließend zur Hellig-
keitsmodulation einer Kathodenstrahlröhre 14 auf das
Steuergitter dieser Röhre gegeben. Mit ISx und 15 ν
sind Ablenkspulen der Kathodenstrahlröhre bezeich-
50 net, die durch einen Signalgenerator 16 mit einerr
Die Erfindung betrifft ein Raster-Elektronenmikro- Rastersignal gespeist werden. Dieses Rastersignal isi
skop mit Einrichtungen zur Darstellung eines Beu- synchron mit dem auf die Raster-Ablenkspulen 11 >
gungsbildes einer Probe und des korrespondierenden und Hy gegebenen Signal, weshalb ein Rasterbilc
Rasterbildes. der Probe 10 auf dem Schirm der Kathodenstrahl-
Bei der Untersuchung einer Kristallprobe durch 55 röhre 14 dargestellt wird. In diesem Fall ist die Bildein
Elektronenmikroskop ist es sehr wichtig, daß der vergrößerung M durch das Verhältnis der Abtast
ausgewählte Bereich eines Beugungsbildes, der einem breite Dc der Kathodenstrahlröhre 14 zur Abtast
ausgewählten Bereich des Bildes des Elektronen- breite Ds des Strahles der abtastenden Elektronei
mikroskops entspricht, analysiert werden kann. Mit bestimmt.
den derzeit erhältlichen Abtast-Elektronenmikrosko- 60 Zur Schaffung eines Beugungsbildes muß eini
pen ist es jedoch äußerst schwierig, einen hohen Grad Blende 17 eingebracht und die Brennweite der zwei
der Genauigkeit der vorerwähnten Übereinstimmung ten Kondensorlinse S und der letzten Kondensor
zu erzielen. linse 6 durch Regelung der Linsenströme gemäß fol
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zu- gender Beziehung geändert werden:
gründe, ein Abtast-Elektronenmikroskop zu schaffen, 65 111
gründe, ein Abtast-Elektronenmikroskop zu schaffen, 65 111
das diesen Nachteil nicht aufweist. _L + _ = — (1)
Zur Lösung dieser Aufgabe sieht die Erfindung ein L S /0
Raster-Elektronenmikroskop der eingangs bezeich- wobei
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP46073581A JPS5126227B2 (de) | 1971-09-21 | 1971-09-21 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2246404A1 DE2246404A1 (de) | 1973-04-05 |
DE2246404B2 true DE2246404B2 (de) | 1973-11-22 |
DE2246404C3 DE2246404C3 (de) | 1979-08-30 |
Family
ID=13522395
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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DE (1) | DE2246404C3 (de) |
FR (1) | FR2153346B1 (de) |
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---|---|---|---|---|
US3872305A (en) * | 1972-12-06 | 1975-03-18 | Jeol Ltd | Convertible scanning electron microscope |
JPS5243058B2 (de) * | 1974-04-22 | 1977-10-28 | ||
NL7416395A (nl) * | 1974-12-17 | 1976-06-21 | Philips Nv | Elektronenmikroskoop. |
DE2542356C2 (de) * | 1975-09-19 | 1977-10-20 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur Fokussierung der Objektivlinse eines Korpuskular-Durchstrahlungs-Rastermikroskops und Einrichtung zur selbsttätigen Durchführung des Verfahrens, sowie Anwendung |
NL175245C (nl) * | 1977-05-26 | 1984-10-01 | Philips Nv | Elektronenmicroscoop met hulplens en elektromagnetische lens hiervoor. |
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EP0049872B1 (de) * | 1980-10-15 | 1985-09-25 | Kabushiki Kaisha Toshiba | System zur Bestrahlung mit Elektronen |
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JPS63298949A (ja) * | 1987-05-28 | 1988-12-06 | Jeol Ltd | 広狭領域が同時観察可能な分析電子顕微鏡 |
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JPH0233843A (ja) * | 1988-07-25 | 1990-02-05 | Hitachi Ltd | 走査電子顕微鏡 |
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JPH06215714A (ja) * | 1992-06-05 | 1994-08-05 | Hitachi Ltd | 電界放出型透過電子顕微鏡 |
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-
1972
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- 1972-09-15 US US00289425A patent/US3795809A/en not_active Expired - Lifetime
- 1972-09-18 GB GB4320072A patent/GB1411793A/en not_active Expired
- 1972-09-20 FR FR7233337A patent/FR2153346B1/fr not_active Expired
- 1972-09-21 DE DE2246404A patent/DE2246404C3/de not_active Expired
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GB1411793A (en) | 1975-10-29 |
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8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |