DE2237273A1 - Fluessigkristall-anzeigevorrichtung - Google Patents
Fluessigkristall-anzeigevorrichtungInfo
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Description
TEXAS INSTRUMMTS INCORPORATED
13500 North Central Expressway
Dallas, Texas, V.St.A.
13500 North Central Expressway
Dallas, Texas, V.St.A.
Flussigkrista!!-Anzeigevorrichtung
Die Erfindung bezieht.sich auf eine Anzeigevorrichtung
und insbesondere auf eine Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung, bei der wenigstens eine der Elektroden in einem Halbleitersubstrat
gebildet ist.
Grundsätzlich sind Fiüssigkristallverbindungen Materialien,
die reversible optische Eigenschaften aufweisen, wenn sie
einem elektrischen Feld ausgesetzt werden. Normalerweise sind die Verbindungen lichtdurchlässig, doch streuen sie
einfallendes Licht in Anwesenheit eines elektrischen Feldes. Diese reversible Änderung der optischen Eigenschaften
wird allgemein als eine Wirkung der Ausrichtung der Moleküle angesehen, und sie ist als "dynamische
Streuung11 bezeich.net worden. Dieser Aus druck wird später
dazu verwendet, die Erscheinung der Änderung der Lichtdurchlässigkeit
einer Flüasigkri3tallverbindung in Anwesenheit
eines angelegten elektrischen Feldes allgemein zu bezeichnen. Diese Eigenschaft ist in der Literatur
ausführlich erörtert worden; zur Vereinfachung dieser Beschreibung wird hier nicht näher auf 3ie eingegangen.
.3.09807/0902
Weiterhin aind Beiapiele von Flüssigkristallverbindungen
bekannt, die entweder auf Gleichspannungserregungen oder auf Wechaelspannungaerregungen ansprechen.
Die Anzeigevorrichtung wird hier mit optischen Begriffen beschrieben, doch kann sie in jedem Abschnitt des elektromagnetischen
Strahlungspektrums verwendet werden, bei
dem die Durchlässigkeit oder die optischen Eigenschaften
einer Flüssigkristallverbindung unter dem Einfluß eines elektrischen Feldes reversibel verändert werden.
Es ist bekannt, daß Flüssigkristall-Anzeigevorrichtungen
in wenigstens zwei Grundbetriebsarten arbeiten, nämlich
in» Reflexions betrieb und im Durchlaßbetrieb. Die erfindungsgemäßen
Anzeigevorrichtungen sind für beide Betriebsarten geeignet. Eine Flüssigkriatal!-Anzeigevorrichtung für den
Reflexionabetrieb besteht aus einer durchlässigen Elektrode,
die im Abstand von einer reflektierenden Elektrode angeordnet
ist, wobei der Abstand zwischen den zwei Elektroden mit einer Flüaaigkristallverbindung ausgefüllt ist. Wenn
an die zwei Elektroden eine elektrische Vorspannung angelegt wird, wird die Plüssigkriatallverbindung einem
elektrischen Feld ausgesetzt,das die Veränderung ihrer
optischen Eigenschaften bewirkt. Dadurch wird der Kontrast
in der Betrachtungsebene, die von der reflektierenden Elektrode gebildet wird, in Bereichen verändert, die
an die Abschnitte der Flüssigkriatal!verbindung angrenzen,
die dem elektrischen Feld ausgesetzt sind. Wenn wenigstens eine der Elektroden so geformt wird, daß sie mit dem Muster
oder einem Teil des Musters, das angezeigt werden soll, übereinstimmt, kann daa gewünschte Anzeigemunter gebildet
werden.
Eine Flüsaigkristall-Vorrichtung für den Durchlaßbotrieb
b'enteht aus zwei durchlässigen'Elektroden und einer
3 Π 9 8 ü 7 / ü 9 0 1
dazwischen angebrachten Flüssigkristallverbindung* Hinter
der Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung wird eine Lichtquelle
angebracht, und ausgewählte Bereiche der Verbindungen werden dem Einfluß eines elektrischen leides durch Anlegen
einer elektrischen Potentialdifferenz zwischen den Elektroden
ausgesetzt. Das elektrische Feld bewirkt, daß die Flüssigkristallverbindung Licht streut. Wenn wenigstens eine der
Elektroden so geformt wird, daß sie die Form eines Musters
oder eines Teils des Musters, das angezeigt werden soll, annimmt, kann das gewünschte Muster gebildet werden.
Hier sei bemerkt, daß Halbleitersubstrate wie Silizium in vielen Abschnitten des elektromagnetischen Strahlungsapektrurns,in
dem die Durchlässigkeit der Flüssigkristallverbindung
reversibel geändert werden kann, im wesentlichen strahlungsdurchlässig sind. Dies gilt beispielsweise für
Infrarotstrahlung. Auch kann ein Siliziurasubstrat so weit
verdünnt werden, daß es im wesentlichen lichtdurchlässig ist. Es kann erwünscht sein, ein Substrat auf einem durchlässigen
Körper, beispielsweise aus Glas, anzubringen«
Da das anzuzeigende Muster gemäß der obigen Beschreibung von der Form einer Elektrode bestimmt wird, kann eine
ilüasigkristall-Anzeigevorrichtung auf den gewünschten
Anwendungsfall zugeschnitten werden. Typische Anzeigevorrichtungen enthalten bekannte,aus sieben Segmenten
zusammengesetzte Anzeigen zur Darstellung der Zahlen zwischen O und 1; typische Anzeigevorrichtungen enthalten
nber auch Punktanzeigen, bei denen das anzuzeigende Muster
von einer Reihe von auswählbar angeordneten Punkten gebildet wird. Die punktartige Anzeige kann dadurch hergestellt
werden, daß sowohl die Vorderelektroden als auch die Rückelektroden der Flüaaigkristall-Anzeigevorrichtung mit
dicht im Abstand voneinander liegenden, elektrisch isolierten Leitern versehen werden, wobei die Vorder- und Rückelektroden
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eo ausgerichtet werden, daß ihre jeweiligen Leiter rechtwinklig zueinander verlaufen. Der Punkt wird
durch Anlegen einer Spannung des halben Werts , der zur Verursachung der Lichtstreuung durch die Flüssigkristal
!verbindung erforderlich ist, an jede der
Elektroden erzeugt. Der Punkt entsteht in dem Bereich, in dem sich zwei Elektroden überkreuzen.
Eine der sowohl bei Durchlaß-als auch Reflexionsbetriebsanzeigevorrichtungen
auftretenden Hauptschwierigkeiten bezieht sich auf die Dicke der Flüssigkristal 1-Ver bindung quer zur Anzeigevorrichtung.
Dabei ist wichtig, daß die Dicke quer zur Anzeigevorrichtung gleichmässig ist, damit die gewünschten optischen
Eigenschaften erzielt werden. Bei erforderlichen Dicken in
der Größenordnung von 6 um (0,25 mils ) ist es äußerst schwierig, eine Fiüssigkristall-Anzeigevorrichtung mit
der gewünschten Gleichmäßigkeit herzustellen. In der Anwendung von richtungsabhängigen Ätzverfahren ist es
jedoch möglich, eine Vertiefung für die Flüssigkristal1-verbindungen
herzustellen, deren Tiefe äußerst gleichmäßig ist.
In einer Ausführungsform der Erfindung wird eine Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung
geschaffen, in der die Flüssigkristal Iverbi ndung in einer kleinen Vertiefung angebracht.
ist, die in einem Halbleitersubstrat durch richtungsabhängiges Ätzen erzeugt worden ist. Im Boden der Vertiefung
ist eine Grippe von Elektroden für die Anzeige gebildet. Die Elektroden können beispielsweise durch Eindiffundieren
von Störstoffen in das Substrat oder durch ionenimplantation erzeugt werden. Das Halbleitermaterial ist stark reflektierend,
und in manchen Fällen ist es allein für dio Verwendung in
Heflexionobetriebsanwendungsfallen ausreichend. In manchen
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Fällen kann es jedoch er wünscht sein, über den Elektroden
einen Überzug aus stark reflektierenden] Metall anzubringen,
damit die optischen Eigenschaften der Anzeigevorrichtung
verbessert werden. Über/der Vertiefung wird eine zweite, im wesentlichen durchlässige Elektrode angebracht und
am Substrat befestigt. Die Vertiefung wird dann mit der
Flüssigkristallverbindung gefüllt, so daß sie beide Elektroden berührt. Richtungsabhängige Ätzverfahren
sind in der Halbleitertechnik bekannt. Ein Verfahren ist beispielsweise in den Proceedings of the IEEE,
Band 57, Nr. 9, September 1969 in dem Aufsatz von Bean
und anderen mit dem Titel " Der Einfluß der Kristallorientierung auf die Siliziumhalbleiterbearbeitung"
und in den darin genannten literaturhinweisen beschrieben.
Vorzugsweise wird die Vertiefung entweder in die (.110)- oder (lOO)-Fläche eines Siliziumsubstrats geätzt.
Die die Elektroden bildenden Leiter, die in der Vertiefung
angebracht sind, können durch Verbindungslaschen miteinander
verbunden werden, damit eine Anordnung zum Anlegen einerVorspannung an die Schaltung geschaffen wird. Die Verbindungen
können beispielsweise aus diffundierten Leitern oder aus Metalleitern bestehen, und sie können unter
Anwendung von herkömmlichen Metallisierungsverfahren hergestellt werden, wie sie in der Technik der integrierten
Schaltungen üblich sind,, Die. Leiter können von der
Flüssigkristallverbindung dadurch isoliert werden,daß
auf der Leiter ober fläche eine dünne Isolierschicht gebildet wird oder daß im Fall von diffundierten Leitern
die Leiter 30 gebildet werden, daß sie sich nicht zur
Oberfläche des Substrats erstrecken»
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In einer zweiten Ausführungsform der Erfindung wird eine
FlUssigkristall-Anzeigevorrichtung geschaffen, die eine Treiberschaltung als integralen bestandteil dea Halblei
tersubatra ta enthält. Die Treiberschaltung kann in der Subatratflache, in der die Anzeigeelektroden gebildet
sind,hergestellt sein, oder sie kann auf der entgegengesetzten
Seite, also der Rückseite des Substrats, angebracht werden. In jedem Fall kann die Treibergrundschaltung
unter Anwendung der herkömmlichen Technologie integrierter Schaltungen hergestellt werden; sie kann
entweder unter Anwendung der üblichen Metallisierung oder mit diffundierten Leiterbahnen mit den Anzeigeelektroden
verbunden werden. Die Treiberschaltung kann auch jeweils eine mit jedem der Anzeigeelemente in Serie geschaltete
Diode enthalten, wodurch die Anzeigevorrichtung im sogenannten Abtaät be trieb adressiert werden kann.
Es werden auch Verfahren beschrieben, mit denen die Anzeigeelektroden in der Vertiefung und die Verbindungsbahnen in dieser Vertiefung so gebildet werden können, daß
die Verbindungsbahnen durch eine Halbleiterschicht gegen
die Flü3sigkri3tallverbindung abgeschirmt sind. Ein Verfahren
zur Herstellung der Verbindungen mit den Anzeigeelektroden durch Ätzen von Vertiefungen in die Rückseite
einer Scheibe aus Halbleitermaterial zum Freilegen der Anzeigeelektroden wird ebenfalls beschrieben. Die freiliegenden
Elektroden können mit der Treiberschaltung oder mit Anschlußklemmen unter Anwendung üblicher
Metallisierungs- oder Diffusionaleiter verbunden
werden.
Mit Hilfe der Erfindung werden viele mit Fiüssigkrintall-Anzeigevorrichtungen
verbundene Probleme in vorteilhafter
Weise gelöst. Ein Vorteil benteht darin, daß eino Anordnung
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geschaffen wird,"bei der der Elektrodenabstand der Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung
sehr klein gemacht und sehr genau gesteuert werden kann. Diese genaue Steuerung wird
dadurch erreicht, daß mit Hilfe des rieht ungsabhängigen.
Ätzens eine Vertiefung in dem Substrat gebildet wird, wobei die Tiefe der Vertiefung den Elektrodenabstand bestimmt.
Die Tiefe der Vertiefung kann sehr genau überwacht werden, und als Ergebnis können die Eigenschaften der Anzeigevorrichtung
genauer gesteuert werden. Die als integraler Bestandteil enthaltenen Treiberschaltungen verringern die
Zahl der zur Verbindung der Anzeigevorrichtung mit anderen Systemen notwendigen Verbindungsleitungen. Dadurch wird die
Zuverlässigkeit verbessert und außerdem wird die Anzeigevorrichtung
in Fallen anwendbar, in denen sie vorher wegen
der erforderlichen großen Anzahl von Leitungen nicht verwendet
werden konnte.
Mit Hilfe der Erfindung 30II eine Flüssigkristall-Vorrichtuhg
geschaffen werden, die Elektroden enthält, deren Abstand sehr klein und sehr genau ist. Gemäß einer Weiterbildung
der Erfindung wird eine der Elektroden einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung
in einem Halbleitersubstrat gebildet. In einer anderen Ausgestaltung der Erfindung wird eine
Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung geschaffen, die Treiberschaltungen
und Anzeigeelektrden als integralen Bestandteil auf dem gleichen Substrat enthält.
30 9807 /(JU 02
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung
dargestellt. Darin zeigen:
Fig.1 eine Draufsicht auf ein Halbleitersubstrat, in dem mehrere Anzeigeelektroden gebildet sind,
Fig.2 einen Schnitt durch das Substrat von Fig.1 längs
der Linie 2-2 ,
Fig.3 eine perspektivische Ansicht eines Abstandshalters
für eine Flüssigkristal!-Anzeigevorrichtung,
Fig.4 eine perspektivische Ansicht einer lichtdurchlässigen
Elektrode für die Verwendung in einer Flüsaigkristall-A
η ze i ge vo r r i ch t u ng,
Fig.5 eine perspektivische Ansicht einer Flüssigk<ristall-Anzeigevorrichtung,
in der die in den Figuren 1 bis 4 dargestellten Einzelteile verwendet sind,
Fig.6 eine Draufsicht auf ein Substrat, das Elektroden
für eine Flüssigkrietall-Anzeigevorrichtung und Treiberschaltungen in einem geraeinsamen Substrat
enthält,
Fig.6a einen Schnitt durch das Substrat von Fig.6 längs
der Linie A-A,
Fig.7 eine Draufsicht auf ein Substrat , das Elektroden
und Anschlußklemmen für eine Flüssigkristall-Anzeigevorriohtung
enthält,
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Fig.8 einen Schnitt durch das Substrat von Fig.7 längs
der linie 8a-8a,
Fig.9 einen Schnitt durch das Substrat von Fig.7, wobei
aufeinanderfolgende Verfahre nssehritte dargestellt
sind,
Fig.10 einen Schnitt, in dem eine Ausdiffusion zur Freilegung der Anzeigeelektroden und der Anschluß klemmen
dargestellt ist,
Fig.11 einen Schnitt, in dem dargestellt ist, wie an das
Substrat von Fig,8 eine dünne Epitaxialschicht angefügt
wird und wie diese Epitaxialschicht durch abhängiges Ätzen in Bereichen verdünnt wird, die
über den Elektroden und den Anschlußklemmen liegen,
Fig.12 einen Schnitt durch die Anordnung von Figo11 nach
der Ausdiffusion zum Freilegen der Anzeigeelektroden und der Anschlußklemmen,
Fig.13 einen Schnitt zur Darstellung der Verbindungen einer
typischen Elektrode mit einem Transistor, der einen Teil der Treiberschaltung bildet ,* durch verdeckte
D if f us i ons s ch ic hte η,
Fig. 14 einen Teilschnitt durch ein Substrat, das eine "Anzeigeelektrode
enthält, wobei dargestellt ist, wie die Elektrode mit einem einen Teil der Treiberschaltung
bildenden typischen Transistor durch Freilegen des RUckabschnitts der Elektrode durch ein richtungsabh
fing ige s Ätzen verbunden werden kann,
3 O 9 8 ü 7 / O 9 O 2
Fig.15 eine Draufsicht auf ein Substrat mit zwei darin
gebildeten diffundierten Leiterbahnen,
Fig.16 einen Schnitt durch das Substrat von Fig.15 längs
der Linie B-B , das eine zusätzlicheEpitaxialschicht aufweist,
Fig.17 eine Darstellung eines Substrats, das für die
Verwendung bei Flüssigkristall-Anzeigevorrichtungen vom Punkttyp geeignet ist und für jedes Anzeigeelement,
eine mit diesem in Serie geschaltete Diode enthält,
Fig.18 eine schematische Darstellung der Anordnung zur
Bildung einer Flüssigkriatall-Punktanzeigevorrichtung
durch Verwendung einer X-Y -Adressierung,
Fig.19 eine schematische Darstellung der Ersatzschaltung
jedes Elements einer Flü33igkristal1-Punktanzeigevorrichtung, bei der jedes Element eine zu ihm in
Serie liegende Diode enthält,
Fig.20 ein zweites Substrat, das für eine Punkt anzeigevorrichtung
verwendbar ist und für jedes Anzeigeelement eine mit diesem in Serie geschaltete Diode
enthält,
Fig.21 eine nach der Erfindung aufgebaute Prüfanzeigevorrichtung
und
Fig.22 ein Schaltbild einer Treiberschaltung, die zusammen
mit der Erfindung verwendet werden kann.
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/*·■■■
AA
Fig.1 zeigt eine Draufsicht auf ein Substrat 10, das für die Verwendung in einer Ausführungsforra einer hier
zu beschm.benden Anzeigevorrichtung geeignet ist. Das
Substrat 10 enthält mehrere Elektroden 12, die in einem solchen Muster angeordnet sind, daß sie eine aus Segmenten
bestehende Anzeigevorrichtung bilden, die die Zahlen 0 bis 9 anzeigen kann. Die Elektroden 12 sind über Leiter
mit Anschlußlaschen 14 verbunden, die vorzugsweise an
der Umfangskante des Substrats angeordnet sind.
Das Substrat 10 von Fig.1 ist in Fig.2 im Schnitt dargestellt.. Die Elektroden 12 können im Substrat
durch Diffundieren geeigneter Störstoffe in die Oberfläche des Substrats 10 zur Bildung niederohmiger Zonen
hergestellt werden. Die Leiter 16, die die Elektroden mit den Anschlußlaschen 14 verbinden, können auf die
gleiche Weise hergestellt werden. Vorrichtungen und Verfahren zur Durchführung der Diffusion sind in der
Halbleitertechnik bekannt, so daß sie hier nicht näher erörtert werden brauchen.
Fig.3 zeigt einen Abstandshalter 13, der zur Bildung
einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung zusammen mit dem Substrat 10 verwendbar ist. Der Abstandshalter 18
besitzt eine Mittelöffnung, so daß alle Elektroden 12
frei bleiben, wenn er auf der Oberfläche des Substrats angebracht ist. V/ie später noch erläutert wird, umschließt
der Abstandshalter 18 eine F\üssigkristallverbinäung. Der
Abstandshalter 18 kann beispielsweise aus einer isolierenden Schicht aus Glas, Kunststoff, Teflon usw. bestehen, und
er kann typischerweise eine Dicke in der Größenordnung von 6 um bis 125 Mm (0,25 bis 5 mils) aufweisen.
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r 12-
2737273
Fig.4 zeigt eine lichtdurchlässige Elektrode 20, die zusammen
mit den im Substrat von Fig.1 gebildeten Elektroden und mit den in Fig. 3 dargestellten Abstandshaltern verwendet
werden kann. Die Elektrode 20 besteht aua zwei Schichten, von denen beide relativ lichtdurchässig
sein müssen. Wenigstens eine der beiden Eiektrodenschichten muß auch elektrisch leitend sein. Im dargestellten
Ausführungsbeispie 1 ist die untere Schicht 22
elektrisch leitend , während die obere Schicht 24 aus Glas oder aus einem anderen lichtdurchlässigen und
elektrisch nicht leitendem Material bestehen kann. Lichtdurchlässige und elektrisch leitende Materialien,
die für die Schicht 22 geeignet sind, sind in der Technik
bekannt; beispielsweise kann die Schicht 22 aus Indiumoxid oder Zinnoxid bestehen.
In Fig.5 iot eine Ausführungsform der hier beschriebenen
Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung dargestellt, in der das Substrat 10 von Fig.1, der Abstandshalter 18 von Fig.
und die Elektrode 20 von Fig.4 verwendet werden. D ie Anzeigevorrichtung
wird durch Befestigen des Abstandshalters 18 auf der Oberfläche des Substrats 10 so zusamraen»·
gefügt, daß alle Elektroden 12 der Anzeigevorrichtung durch die Mittelöffnungen im Abstandshalter 18 freiliegen.
Anschließend wird die Elektrode 20 derart auf dem Abstandshalter befestigt, daß die leitende Tchicht 22
dem Abstandshalter 18 benachbart ist. Die Öffnung im Abstandshalter 18 wird dann mit der l·1 lüssigkristallverbindung
gefüllt, so daß die Verbindung elektrisch mit den Elektroden 12 und 22 in Verbindung atehi. Nun können
zwischen ausgewählten Anschlußlaschen 14 (und zugehörigen
Elektroden 12) und der Kickt rode ?.'?.. elektrische Signale
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angelegt werden, so daß ausgewählte Bereiche der Flüssigkristal !verbindung einem elektrischen Feld ausgesetzt
werden können, damit die Erzeugung einer "dynamischen
Streuung" und dadurch eine Anzeige bewirkt werden. Die Elektroden 12 können natürlich so geformt werden, daß sie
jedes Muster annehmen, das angezeigt werden soll, oder sie können als Segment eines solchen Musters geformt
sein.
Das Substrat 10 kann au3 Silizium oder aus einem anderen
Halbleitermaterial fciie Germanium hergestellt sein. In
einem solchen Fall können die Treiberschaltung und andere Kopplungsschaltungen in dem gleichen Plättchen hergestellt
werden, in dem die Anzeigeklemmen gebildet sind. Eine solche Anordnung ist in Fig. 6 dargestellt, wo in
einer Fläche eines Halbleitersubstrats 25 Elektroden 12 gebildet sind, die beispielsweise zur Anzeige einer
zweistelligen Zahl ausreichend sind. Die Treiberschaltung 26 ist ein Teil des Substrats 25. Das Substrat 25
und die darauf angebrachten Elemente können zur Bildung einer Anzeigevorrichtung verwendet werden, die derin Fig.5
dargestellten Anzeigevorrichtung gleicht.
In Fig.6a ist ein Schnitt durch das Substrat 25 längs
der Linie A-A dargestellt. Dieser Schnitt zeigt ein Beispiel einer Verbindung zwischen einer Elektrode 12a
mit dem Kollektor 28 eines in dem gleichen Substrat gebildeten typischen Transistors. Der Fachmann erkennt,
daß zur Lieferung der Vorspannung für die Anzeigelektrode ein Transistor verwendet werden kann. Beispielsweise
können die Schaltungselemente der Treiberschaltung,
boinpielnwei.se der oben erwähnte. Tranaistor, in einer
epita/ialen Schicht "27 gebildet werden, die über dem
Ί O Π R ί) 7 / O ίί Ü ?
Substrat 25 angebracht ist. Allgemein hat die .epitaxiale
Schicht einen zum Substrat entgegengesetzte η Leitungstyp ,
und sie kann typischerweise einen spezifischen Widerstand
in der Größenordnung von etwa 0,4 Ω cm haben. Die Elektrode
12a ist mit dem Kollektor 28 über eine dünne Metallschicht verbunden, die mit Hilfe einer Isolierschicht 32
aus beispielsweise Siliciumoxid von der Schicht 27
isoliert ist. Die seitliche Isolierung des Kollektors 28 vom restlichen Plättchen wird mit Hilfe von Isolationsringen
33 erzielt, die den gleichen Leitungstyp wie da3 Substrat haben. Der Transistor enthält eine Basiszone 34
und eine Emitterzone 36. Die Metallschicht 30, die die
Elektrode 12a mit dem Kollektor 28 des Transistors verbindet, kann unter Verwendung der bei integrierten
Schaltungen üblichen Metallisierungsverfahren hergestellt
werden. Diffusionsverfahren zur Herstellung der Isolationsringe 33 und der verschiedenen Zonen deeTransistors sowie
der Verbindungen sind in der Technik bekannt. In Fig.6a ist zwar nur ein Transistor dargestellt, doch können in
gleicher Weise andere Elemente einer integrierten Schaltung vie Transistoren, Dioden, und Kondensatoren hergestellt und
in die Treiberschaltung eingefügt werden. Eine geeignete Treiberschaltung ist in Fig.22 dargestellt.
Die Treiberschaltung 26 kann auch Feldeffektschaltungselemente
mit isolierter Gate-Elektrode (IGFET -Schaltungselemente)
und andere übliche Schaltungselemente enthalten, die außerhalb des Substrats 2C5 angebracht werden können.
D^e Verbindungen zu diesen externen Schal tu nt;se lementen
können über die An3chlußlaochen 38 hergestellt werden.
Zur Energiezufuhr zur Anzeigevorrichtung können (nicht
dargestellte) ebensolche Anschlußlnschen verwendet werden.
309807/0902
BAD ORIGINAL
Fig.7 zeigt eine andere Ausführungsforra einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung,
in der ein relativ hochohmiges Substrat 40 verwendet wird, wobei Leiter 42, die die Anzeige elektroden 44 mit Anschlußlaschen 46 verbinden,
durch eine Deckschicht; aus isolierendem Halbleitermaterial
geschützt sind. Das Substrat 40 kann beispielsweise aus p-leitendem Silizium bestehen, das
einen spezifischen Widerstand in der Größenordnung von 10 Ω cm oder größer aufweist. Ein Schnitt längs
der Linie 8a-8a durch das Substrat 40 ist in Fig.8 dargestellt. Die Elektroden 44, die Leiter 42 und
die Anschlußlaschen 46 können durch Eindiffundieren von Störstoffen in das Substrat 40 zur Bildung von
Zonen mit niedrigem spezifischem Widerstand hergestellt werden. Nach der Herstellung der diffundierten
Elektroden, Leiter und Anschlußlaschen wird auf der Oberfläche des Substrats 40 eine dünne epitaxiale
Schicht 48 abgeschieden. Diese Schicht kann beispielsweise mit einer Dicke in der Größenordnung von 8ωι
gebildet werden. Die epitaxiale Schicht 48 kann dann mittels eines richtungsabhängigen Ätzens in Bereichen,
die über ausgewählten Abschnitten mit niedrigem spezifischem Widerstand liegen, auf eine Dicke von beispielsweise etwa 2 um verdünnt werden. Fig.9 zeigt das Substrat
in diesem HPrstellungsstadium. Nachdem ausgewählte
Bereiche der epitaxialen Schicht dünner gemacht worden sind, wird das Substrat auf eine Temperatur in der Größenordnung
von 1200 0C für die Dauer einer Stunde oder mehr
erwärmt, wodurch die Störstoffe in den Zonen mit niedrigerem spezifischem V/ id erstand veranlaßt werden, durch die epitaxiale
Schicht auazudiffundieren. so daß sie in dem dünnen Bereich
309007/0902 ■ ie OBaiN«.
der epitaxialen Schicht freigelegt werden. Dies ist in P ig.10 dargestellt, wo zu erkennen ist, daß die Anschlußlaschen 46 und die Elektroden 44 durch die dünnen Bereiche
der epitaxialen Schicht 48 diffundieren und somit freigelegt werden, während die unter den dicken Bereichen der epitaxialen
Schicht liegenden Diffusionszonen weiterhin verdeckt bleiben.
He Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung wird dadurch vollendet, daß eine zweite Elektrode,die beispielsweise der in
Fig. 4 dargestellten Elektrode gleicht, derart angebfacht wird, daß die Umfangs kante dieser Elektrode auf der Oberfläche
50 des Substrats 40 liegt. Die mit Hilfe des richtungsabhängigenÄtzens im Substrat 40 gebildete
Vertiefung wird mit einer Flüssigkristallverbindung gefüllt, die sowohl die Elektroden 44 als auch die
auf dem Substrat befestigte lichtdurchlässige Elektrode berührt. Da die Tiefe der Vertiefung in der epitaxialen
Schicht mit dem richtungsabhängigen Ätzen auf sehr exakte und gleichmäßige Werte gesteuert werden kann,
kann eine Anzeigevorrichtung mit verbesserten optischen Eigenschaften hergestellt werden.
In Fig. 11 ist ein Schnitt durch ein weiteres Substrat 52 dargestellt, das zur Herstellung einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung
der hier beschriebenen Art verwendet werden kann. Das Substrat 52 gleicht dem Substrat 40
von Fig.10 mit der Ausnahme, daß die epitaxiale Schicht mit Hilfe eines richtungsabhängigen Ätzens nur in den
Bereichen dünner gemacht ist, in denen die Diffusionszonen 56 durch Ausdiffundieren freigelegt werden sollen.
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Der geätzte Bereich stimmt allgemein mit der Form der entsprechenden Elektrode überein.
Eine das Substrat von Fig.12 verwendende Anzeigevorrichtung
wird dadurch vervollständigt, daß eine lichtdurchlässige Elektrode, wie die in Fig.4 dargestellte
Elektrode, auf der Oberfläche des Substrats so angebracht wird, daß die leitende Schicht 22 die
Subs.tratoberfläche berührt. Die in der epitaxialen Schicht durch richtungsabhängiges Ätzen gebildeten
Vertiefungen werden dann mit einer Flüssigkristallverbindung gefüllt. Da diese Vertiefungen die Form
des Elektrodenmusters aufweisen, können mehr als eine Vertiefung vorhanden sein, die gefüllt werden müssen.
In allen Fällen berührt jedoch die Flüssigkristallverbindung wenigstens eine der Diffusionszonen 56
und die leitende Schicht 22 der lichtdurchlässigen
Elektrode.
Die in den Figuren 10 und 12 dargestellten Anordnungen können als integralen Bestandteil auch eine Treiberschaltung
enthalten, die der in Fig. 6 dargestellten Ausführung gleicht. Die Substratbereiche, die die Schaltungselemente
der Treiberschaltung bilden, können unter Anwendung der bei integrierten Schaltungen üblichen
Metallisierungsverfahren mit den Elektroden verbunden
werden oder sie können auch durch verdeckte -'-'iffusionsbahnen
unter epitaxialen Schichten auf dem Substrat angeschlossen werden. Die Treiberschaltung kann auch auf
der den Elektroden gegenüberliegenden Seite der Scheibe angebracht und über leitende Bereiche durch das Substrat
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hindurch mit den Elektroden verbunden werden. Ein Teil einer Scheibe mit einer Anzeigeelektrode, die mit einem
Tranaistor über eine niederohmige Schicht unterhalb einer isolierenden epitaxialen Schicht verbunden ist, ist in
Fig.13 im Schnitt dargestellt. Ein Teil eines Substrats
mit einer Anzeigeelektrode und einer Treiberschaltung, die auf der der Elektrode gegenüberliegenden Substratseite
angebracht und über eine durch die Scheibe führende niederohmige Verbindung an die Elektrode angeschlossen
ist, ist in Fig.14 im Schnitt dargestellt.
In Fig.13 zeigt ein Teilschnitt durch das Substrat 58
eine Anzeigeelektrode 60, die über einen verdeckten leiterbereich 64 mit dem Kollektor 62 eines Transistors
verbunden ist. Als Beispiel sei ein npn -Transistor beschrieben. Es könnte jedoch auch ein pnp-Transistor
gebildet werden. Der Transistor enthält auch eine Basiszone 66 und eine Emitterzone 68. Der leitende Bereich
ist mit einem Teil einer isolierenden epitaxialen Schicht bedeckt. Die Basiszone 66 und die Emitterzone 68 des
Transistors können mit anderen Schaltungselementen verbunden sein, die zur Bildung der vollständigen Treiberschaltung
in der epitaxialen Schicht 65 hergestellt sind. Zusätzliche Elektroden, die der dargestellten
Elektrode 60 gleichen können, können ebenfalls im Substrat 58 enthalten und in gleicher Weise mit den
in der epitaxialen Schicht 65 gebildeten Schaltungselementen zur Herstellung der vollständigen Anzeigevorrichtung
und der angeformten Treiberschaltung verbunden sein. Die epitaxiale Schicht 65 wird in Bereichen,
die über der Elektrode 60 liegen, durch richtungsabhängiges
Ätzen entfernt, damit eine Vertiefung entsteht, deren Tiefe sehr genau gesteuert werden kann. Die Anzeigevorrichtung wird
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dadurch vollendet, daß eine der in Pig.4 dargestellten
Elektrode gleichende lichtdurchlässige Elektrode derart
angebracht wird, daß die Außenkanten der Elektrode auf der epitaxialen Schicht 65 aufliegen und die Vertiefung
vollständig bedecken. Die Elektrode wird dann am Substrat
befestigt, und die Vertiefung wird mit einer Flüssigkristallverbindung
gefüllt, die die Anzeigeelektrode 60 und die leitende Schicht der lichtdurchlässigen Elektrode berührt.
Eine Ansteuerung der Treiberschaltung führt dazu, daß die zwischen den Elektroden befindliche Flüssigkristallverbindung
einem elektrischen Feld ausgesetzt wird, so daß sich die Lichtdurchlaßeigenschaften derVerbindung in den
vorgespannten Bereichen ändern, so daß dadurch das gewünschte Muster angezeigt wird, wie oben in Bezug auf
andere Ausführungsfprmen erörtert worden ist.
Eine Teilschnittansicht eines weiteren Substrats mit
einer als integraler Bsstandteil enthaltenen Treiberschaltung ist in Fig. 14 dargestellt. Ein Substrat 68
enthält eine Anzeigeelektrode 70, die innerhalb einer in einer Fläche des Substrats 68 gebildeten Vertiefung
angebracht ist, sowie einen Teil einer Treiberschaltung, die innerhalb einer epitaxialen Schicht 70 auf der
Rückfläche des Substrats gebildet ist. Es ist ein typischer Transistor mit einer Kollektor zone 72, einer
Basiszone 74 und einer Emitterzone 76 im Schnitt dargestellt, wobei die Kollektorzone 72 über eine dünne leitende
Schicht 78 mit der Anzeige elektrode 70 verbunden ist.
Der Transistor ist vom Rest des Plattchens durch isolierende
Diffusionsringe 79 getrennt. Die Basis- und Emitterzonen
der Transistoren können in gleicher Weise mit anderen
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Schaltungselementen verbunden sein, die zur Vervolleiäidigung
der Treiberschaltung in der epitaxialen Schicht gebildet sind. Eine Ilüssigkristail-Anzeigevorrichtung,
in der das Substrat 68 verwendet ist, wird dadurch vollendet, daß eine der Elektrode von Fig.4 gleichende lichtdurchlässige
Elektrode derart angebracht wird, daß die Elektrode die Vertiefung in der Oberfläche des Substrats
bedeckt. Durch eine Ansteuerung der Treiberschaltung wird dann die zwischen der lichtdurchlässigen Elektrode und der
Anzeigeelektrode 70 angebrachte Flüssigkristallverbindung einem elektrischen Feld ausgesetzt, das die Lichtdurchlaßeigenschaften
der Flüssigkristallverbindung selektiv ändert und dadurch das Muster erzeugt, das angezeigt
werden soll.
Fig.15 zeigt ein weiteres Halbleitersubstrat, in dem
zwei leitende Bereiche 80 durch Eindiffundieren von Störstoffen in das Substrat 78 hergestellt worden sind.
Fig.16 ist ein Schnitt längs der Linie B-B von Fig.15,
der eine auf dem Substrat gebildete, die leitenden Bereiche 80 bedeckende epitaxiale Schicht 82 zeigt.
Bei Flüssigkristall-Anzeigevorrichtungen, die zur
Erzeugung einer punktartigen Anzeige, bei der das anzuzeigende Zeichen von einer Reihe von an der Umfangslinie
des gewünschten Musters entsprechenden Stellung angebrachten Punkten gebildet wird, eine Matrixadressierung
angewendet wird, ist es erwünscht, mit jedem der Anzeigeelemente eine Diode in Serie zu schalten, damit
die Matrix im sogenannten Abtastbetrieb adressiert werden kann. Die Ausführungcformen nach den Figuren 15 und 16
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eignen sich insbesondere für diese Art der Anzeigevorrichtung. In einer Fläche des Substrats wird eine
erste Gruppe von Elektroden in einer Reihe von relativ dünnen parallel angeordneten Leitern gebildet. Die
leitende Schicht (wie die leitende Schicht 22 von Fig.4) auf der lidatdurchlässigen Elektrode ist in gleicher Weise
in relativ schmale und parallele leitende Bahnen aufgeteilt, damit eine zweite Gruppe von Elektroden entsteht.
Die lichtdurchlässige Elektrode ist bezüglich des Substrats
so ausgerichtet, daß die zwei Muster von parallelen Leiterbahnen rechtwinklig zueinander verlaufen, wobei
die Schnittpunkte der entsprechenden Elektroden der zwei
Gruppen eine Matrix von Punkten bilden. Nun wird etwa eine Spannung mit der Hälfte des Werts, der zur Verursachung
der Änderung der Lichtdurchlaßeigenschaften der Flüssigkristallverbindung erforderlich ist, an
ausgewählte Elemente jeder der zwei Gruppen von rechtwinkligen Leiterbahnen angelegt. Die Kreuzungspunkte
jener Elemente, die erregt sind, bewirken eine Vorspannung der Flüssigkristallverbindung, die sich
dazwischen befindet, so daß eine dynamische Streuung und damit eine Anzeige eines Punkts herbeigeführt
wird. Dieses Verfahren ist in Fig.17 schematisch dargestellt, wo die Leiterbahnen, die mit dem Index "y"
bezeichnet sind, einem in Fig.15 dargestellten leitenden
Bereich 80 entsprechen, während die mit dem Index "x"
bezeichneten Leiterbahnen 84 die Gruppe der Leiterbahnen darstellen, die auf der lichtdurchlässigen
Elektrode gebildet sind. Adressierbare Anzeigepunkte,
die jeweils eine in Serie . geschaltete Elektrode enthalten, sind in Fig.18 dargestellt, wo die Leiterbahn
84 einem der Elemente der lichtdurchlässigen
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Elektrode entspricht, wobei eine Stirnan3icht des im Substrat gebildeten leitenden Bereichs bei 86 dargestellt
sind. Die einzelnen Anzeigepunkte sind mit 85 bezeichnet; die getüpfelt dargestellten Bereiche entsprechen dabei
einer Flüssigkristallverbindung. Mit jedem Anzeigepunkt ist eine Diode 88 in Serie geschaltet. Ein diese Seriendioden
enthaltendes Substrat ist in Fig.19 perspektivisch dargestellt. Die in Fig. 16 dargestellte Anordnung kann
als Ausgangs ma te rial verwendet werden; sie enthält einen
diffundierten leitenden Bereich 80, der über dem Substrat
78 liegt, sowie eine relativ hochohmige epitaxiale Schicht 82, die über dem Bereich 80 liegt. Beispielsweise
kann das Substrat aus η-leitenden Silizium bestehen, . während der Bereich 80 und die epitaxiale Schicht 82
p-leitend sind. Die Schicht 82 kann typischerweise mit einer Dicke in der Größenordnung von 5 wm
und mit einem spezifischen Widerstand von etwa 10Ocm
hergestellt sein. Eine beispielsweise aus Säiziumoxid bestehende dünne Isolationsschicht wird über der
epitaxialen Schicht 82 hergestellt. In der Siliziumoxidschicht werden dann Fenster erzeugt, und in
der epitaxialen Schicht 82 wird ein Diffusionsvorgang
in die leitenden Bereiche 80 ausgeführt, die einen entgegengesetzten Leitungstyp erzeugt. Dadurch, daß
die epitaxiale Schicht im wesentlichen isolierend gemacht wird, sind die Dioden 88 (Fig.18) durch den
hohen Widerstand der epitaxialen Schicht voneinander isoliert. Die zwischen den diffundierten Bereichen 86
und den leitenden Schichten 80 gebildeten Übergänge bilden eine Reihe von Dioden, von denen eine Klemme
mit einem typischen Leiter 80 verbunden ist. Die
St. . ■ ,ils :■·■■■
zweite Klemme dieser Dioden liegt an der Oberfläche
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des Substrats 78 frei. Eine lichtdurchlässige Elektrode,
die mit einer Gruppe von parallelen Leiterbahnen versehen ist, wird nun im wesentlichen parallel zur Oberfläche
des Substrats 78 derart angebracht, daß die Leiterbahnen rechtwinklig zu den Elektroden 80 verlaufen* Der Bereich
zwischen der lichtdurchlässigen Elektrode und dem Substrat 78 wird dann mit einer Flüssigkristallverbindung
gefüllt, die sowohl die freiliegenden Klemmen jeder der
Dioden, die von den diffundierten Bereichen 86 gebildet
werden, als auch die Leiterbahnen auf der lichtdurchlässigen Elektrode berührt. Durch selektives Erregen der leitenden
Bereiche 80 und der Leiterbahnen auf der lichtdurchlässigen Elektrode kann die Flüssigkristallverbindung im sogenannten
x-y-Abtastbetrieb adressiert werden, wobei mit jedem der
Anzeigepunkte eine isolierte und einzelne Diode in Serie
geschaltet ist (Fig. 18).
Die Oxidschicht 87 kann nach dem Diffusionsschritt
beibehalten werden, wobei die Fenster Taschen für die Flüssigkristallverbindung bilden. Die Oxidschicht 87
kann aber auch entfernt werden, und ein geeigneter Abstandshalter kann so angewendet werden, daß er
die Fljissigkristallverbindung über den entsprechenden
Anzeigepunkten und elektrisch mit den leitenden Bereichen 80 in Kontakt stehend enthält. In der epitaxialen
Schicht 82 kann auch durch richtungsabhängiges Atzen eine
Vertiefung hergestellt werden, damit der richtige Abstand zwischen den Elektroden erzeugt wird und die Flüssigkristallverbindung
eingefügt werden kann.
Ein Abschnitt einer zweiten Sub3tratanordnung, die in einer Tnüfujxgkrintall-Anzeigevörrichtung mit xy-ArlroK3Bierun^
verwendet werden kann und einzelne,
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mit den Punkt elemente η jeweils in Serie geschaltete
Dioden enthält, ist in Fig.20 dargestellt. Bei dieser Ausführungsform wird das Substrat 78 der Figuren 15 und
verwendet. Das Substrat 78, das leitende Bereiche 80 (nach F ig.15) enthält, die sich zu einer Oberfläche erstrecken,
ist mit einer dünnen isolierenden Schicht 81, beispielsweise
aus Siliziuraoxid bedeckt, in der Fenster 90 gebildet sind. Die Fenster . 90 werden dann durch epitaxiales Aufwachsen
*>n Silizium gefüllt, dessen Leitungstyp demleitungstyp
des die leitenden Bereiche 80 bildenden Siliziums entgegengesetzt ist. Die Übergänge zwischen diesen zwei Bereichen
bilden eine Diode, die mit jedem der adressierbaren Anzeigepunkte in Serie geschaltet ist. Die Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung
wird in der Weise fertiggestellt, wie sie im Zusammenhang mit Fig.19 beschrieben worden ist. Fig.21
zeigt eine Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung, die entsprechend der hier angegebenen Lehre hergestellt ist.
Als Ausgangs material wurde ein Substrat 90 aus p-leitendem
Silizium verwendet. Das Substrat 90 hatte einen spezifischen Widerstand in der Größenordnung von 20 bis
50 Ω cm. In die ( 100)-Fläche des Substrats wurde eine Vertiefung mit einer Tiefe von etwa 18 um unter Anwendung
eines richtungsabiiängigen Ätzens gebildet. Streifen 94
aus(n +)-leitendem Material wurden unter Anwendung üblicher Maskierungs- und Diffusionsverfahren in der
Vertiefung abgeschieden. Diese Streifen bildeten entsprechende auswählbare Elektroden der Anzeigevorrichtung,
über der Vertiefung wurde eine zweite, lichtdurchlässige
Elektrode 96 angebracht. Diese Elektrode bestand aus einer
Glasschicht, die auf einer Fläche mit einer leitenden Schicht aus Zinnoxid versehen war. Das Zinnoxid bildete
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eine zweite Elektrode der Anzeigevorrichtung. Die Vertiefung
wurde mit einer nematischen Flüssigkristallverbindung gefüllt, die 40$ 4'-Methoxybenzyliden-4-butylanilin
und 60$ 4f-ÄVthoxybenzyliden-4-butylanilin enthielt.
Die Mischung enthielt 1 bis 2$ die Leitfähigkeit beeinflussende Störstoffe, so daß sie auf Gleichspannungen
in der Größenordnung von 7 bis 20 Volt ansprach. Eine Gleichspannungsquelle V- mit einem Spannungs wert von
415-Volt war zwischen die Zinnoxdischicht der Elektrode
und dem Substrat 90 angeschlossen. Die Spannungs quelle V^
war so angeschlossen, daß die pn-Übergänge zwischen dem Substrat 90 und den (n+)-leitenden Streifen 94 in Sperrrichtung
vorgespannt wurden. Eine Gleichspannungsquelle V« mit einem Spannungswert von 22,5 Volt wurde zwischen die
Zinnoxidelektrode und entsprechenden Streifen der (n+)~
leitenden streifen angeschlossen. Nach dem Anschliessen
der Spannungsquelle Y^ streute die Plüasigkristal!verbindung
95 das licht in dem Bereich zwischen dem erregten Streifen 94 und der Zinnoxidelektrode.
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Claims (23)
1.\ Flüssigkr'istall-Anzeigeyorrichtung, gekennzeichnet durch
(a) ein hochohmigea Substrat mit einer darin angebrachten Vertiefung,
(b) ein Muster aus innerhalb der Vertiefung angebrachten elektrisch leitenden Elektroden,
(c) eine zweite , im wesentlichen lichtdurchlässige Elektrode, die die Vertiefung bedeckt,
(d) eine Licht in Abhängigkeit von einem elektrischen Feld streuende Flüssigkristallverbindung, die die Vertiefung
im wesentlichen ausfüllt und mit dem Muster aus elektrisch leitenden Elektroden und der zweiten lichtdurchlässigen
Elektrode elektrisch in Verbindung steht, und
(d) Einrichtungen zum selektiven Anlegen von Vorspannungen
zwischen der lichtdurchlässigen Elektrode und entsprechenden Elektroden des husters aus Elektroden zur Änderung der
Lichtdurchlässigkeit der dazwischen befindlichen Flüssigk ristallverbindung.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
das Substrat im wesentlichen lichtdurchlässig ist.
3. Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung, gekennzeichnet durch
(a) ein relativ hochohmiges Halbleitersubstrat mit einer
Vertiefung, die in einem ersten Bereich des Substrats angebracht ist,
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(b) ein in dem Substrat angebrachtes erstes Muster aus
elektrisch leitenden Zonen, von denen sich ausgewählte
Zonen zur Oberfläche des Substrats innerhalb des ersten Bereichs erstrecken,
(c) eine im wesentlichen lichtdurchlässige Elektrode,
die die Vertiefung bedeckt,
(d) eine Licht in Abhängigkeit von einem elektrischen
Feld streuende Flüssigkristal!verbindung, die die Vertiefung im wesentlichen ausfüllt, und ausgewählte
elektrisch leitende Zonen des Musters und die im wesentlichen lichtdurchlässige Elektrode elektrisch
berührt , . .
(e) eine Schaltungsanordnung zur Anlegung eines elektrisehe η Feldes an die Flüssigkristallverbindung,
wobei die Schaltungsanordnung in einem zweiten Bereich
des Substrats gebildet ist, und
(f) ein zweites Muster aus elektrisch leitenden Zonen
in dem Substrat, das das erste Muster aus elektrisch leitenden Zonen selektiv mit der Schaltungsanordnung
zur Bildung einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung verbindet.
4« Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß
ausgewählte Bereiche des Substrats und der zweiten Elektrode lichtdurchlässig sind.
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5. Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung, gekennzeichnet
durch
(a) ein erstes Substrat mit einer Vertiefung und einem darin angebrachten ersten Muster aus elektrisch
leitenden Zonen,
(b) ein zweites Substrat mit einem zweiten Muster aus elektrisch leitenden Zonen, wobei das erste und das
zweite Substrat derart miteinander verbunden sind, daß das zweite Substrat die Vertiefung bedeckt, so daß das
erste und das zweite Muster der elektrisch leitenden Zonen im wesentlichen parallel und im Abstand zueinander
verlaufen, und
(c) eine die Vertiefung füllende Flüssigkristallverbindung, die zur Bildung einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung
die ersten und zweiten Muster von elektrisch leitenden Zonen berührt.
6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das erste Substrat aus Silizium besteht.
7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Vertiefung in die (1OO)-Oberfläche des Siliziumsubstrats
geätzt ist.
8. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Vertiefung unter Anwendung eines richtungsabhängigen
Ätzens zur Erzielung einer sehr genauen Steuerung in das riliziumsubstrat geätzt ist.
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9. Vorrichtung nach Anspruch 8 , dadurch gekennzeichnet,
daß das Substrat aus (lOO)-orientiertem Silizium besteht.
10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat (110)-orientiertes Silizium ist.
11. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat (111)-orientiertes Silizium ist.
12. Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung, gekennzeichnet durch
. (a) ein Halbleitersubstrat mit einem Muster aus ersten Hektroden, die in einer Vertiefung in dem Substrat angebracht
sind ,
(b) eine im wesentlichen parallel im Abstand zur ersten
Elektrode angebrachte zweite Elektrode und
(c) eine zwischen der ersten und der zweiten Elektrode unter Berührung dieser Elektroden angebrachte FlüssigkriStallverbindung.
13. Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch-gekennzeichnet, daß
die ersten und zweiten Elektroden mittels einer dünnen
Isolationsschicht im Abstand voneinander gehalten sind,
in der wenigstens eine Öffnung angebracht ist, in der sich die Flüssigkristal!verbindung befindet.
14. Flüßsißkristall-Anzeigevorrichtung, gekennzeichnet durch
(a) ein Halbleitersubstrat mit einem Muster aus ersten
Elektroden, einer Anzeigetreiberschaltung und einem
tor aun niederohrnigen Bereichen, die das Muster der
3 0 9 8 0 7/0302
ersten Elektroden mit der Treiberschaltung verbinden ,
(b) eine zweite Elektrode, die im Abstand von dem ersten Muster aus Elektroden im wesentlichen parallel
dazu angeordnet ist, und
(c) eine zwischen den ersten und zweiten Elektroden angeordnete Flüssigkristallverbindung, die diese
Elektroden berührt.
15. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß die ersten und zweiten Elektroden mittels einer
dünnen Isolationsschicht im Abstand voneinander gehalten sind, in der wenigstens eine Öffnung angebracht ist, in
der sich die Flüssigkristallverbindung befindet.
16. Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung, gekennzeichnet durch
(a) ein Halbleitersubstrat, in dem ein Muster au3 ersten Elektroden angebracht ist,
(b) wenigstens eine zweite Elektrode, die im wesentlichen parallel zur ersten Elektrode und im Abstand davon angebracht
ist, und
(c) eine Flüssigkri3tall-Verbindung,die zwischen den
ersten und zweiten Elektroden denrt angebracht ist, daß ihre optischen Eigenschaften durch Anlegung eines
elektrischen Potentialunterschieds zwischen aungo wahltoη
diedern der Elektroden veränderlich oiml.
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17. Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung, gekennzeichnet durch
(a) ein Halbleitersubstrat mit erstenleitenden Bereichen, die in einer ersten Fläche des Substrats durch selektives
Dotieren gebildet sind, und mit zweiten leitenden Bereichen, die in einer zweiten Fläche des Substrats gebildet sind,
wobei die zweiten Bereiche sich durch das Substrat zur selektiven Berührung der ersten Bereiche erstrecken,
(b) eine lichtdurchlässige Elektrode, die im Abstand' von
der ersten Fläche des Substrats im wesentlichen parallel zu dieser Fläche angeordnet ist , und
(c) eine zwischen dem Substrat und der lichtdurchlässigen Elektrode angeordnete Flüssigkristallverbindung, die
mit dem Substrat \xqä der lichtdurchlässigen Elektrode
elektrisch in Kontakt steht.
18. Vorrichtung nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß
über den ersten leitenden Bereichen eine stark reflektierende
. Metallschicht angebracht ist.
19. Verfahren zur Herstellung von Elektroden' für eine
Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung in einem Halbleitersubstrat, dadurch gekennzeichnet, daß
(a) ausgewählte Storstoffe in erste ausgewählte Bereiche
auf einer Fläche des Substrats eindiffundiert werden, daß
(b) über den Diffusionszonen eine Schicht epitaktisch abgeschieden
wird, daß
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(c) ausgewählte Bereiche der epitaxialen Schicht durch
richtungsabhängiges Ätzen der epitaxialtn Schicht verdünnt werden und daß
(d) das Substrat derart erhitzt wird, daß die Störatoffe
zur Bildung von Elektroden ausdiffundieren, die sich zur freiliegenden Oberfläche der verdünnten Bereiche der
epitaxialen Schicht erstrecken.
20. Verfahren zur Herstellung von Elektroden für eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung,
dadurch gekennzeichnet, daß
(a) in einem Halbleitersubstrat durch richtungaabhängiges Ätzen des Substrats eine Vertiefung gebildet wird, daß
(b) in ausgewählte Bereiche der Vertiefung zur Bildung niederohraiger Zonen Störstellen eindiffundiert werden, daß
(c) auf der Oberfläche des Substrats eine epitaxlale Schicht gebJDLdet wird, daß
(d) durch richtungaabhängiges Ätzen ausgewählte Bereiche der epitaxialen Schicht zur Bildung dünner
Bereiche selektiv entfernt werden, wobei die dünnen Bereiche über Abschnitten der niederohmigen Zonen liegen,
und daß
(e) die Störstoffe durch Erwärmen des Substrats ausdiffundiert werden, damit niederohmige Zonen entstehen,
die in Bereichen freiliegen, in denen die epitaxiale Schicht durch Ätzen verdünnt worden ist.
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21. Verfahren zur Herstellung von Elektroden für eine Flüssigkristal!-Anzeigevorrichtung und niederohmigen
Verbindungsbahnen in einem Halbleitersubstrat, dadurch
gekennzeichnet, daß
(a) in eine erste Fläche des Substrats zur Bildung
von Anzeigeelektroden Störstoffe eindiffundiert werden,
daß
(b) ein ausgewählter' Abschnitt einer zweiten Fläche des ■ Substrats zur Freilegung von Abschnitten der Elektroden
richtungsabhängig geätzt wird und daß
(c) in ausgewählte Bereiche der zweiten Fläche des Substrats Störstoffe eindiffundiert werden, damit niedero
hm ige Verbindungsbahnen gebildet werden, die sich eu
der zweiten Fläche erstrecken und die Anzeigeelektroden berühren.
22. Flüssigkctristall-Anzeigevorrichtung, gekennzeichnet durch
(a) ein Halbleitersubstrat mit einem Muster aus ersten Elektroden,
(b) eine zweite Elektrode , die im wesentlichen parallel zur ersten Elektrode im Abstand davon angeordnet ist, und
(o) eine zwischen den ersten und zweiten Elektroden angebrachte Flüssigkristall verbindung , die. diese
Elektroden berührt·
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23. Flussigkristall-Anzeige vorrichtung, gekennzeichnet durch
■ ·
(a) ein Halbleiteraubatrat mit einem Muster aus ersten
Elektroden, einer Anzeigetreiberachaltung und einem
Muster aua niederohmigen Bereichen, die das Muster der
eraten Elektroden mit der Treiberachaltung verbinden,
(b) eine zweite Elektrode, die im Abstand von dem eraten Muster aua Elektroden im wesentlichen parallel
dazu angeordnet ist, und
(c) eine zwischen den eraten und zweiten Elektroden angeordnete FlUasigkristallverbindung, die diese
Elektroden berührt.
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