DE2140931B2 - Verfahren zum Einstellen des Wärmeausdehnungskoeffizienten eines TiO2 -SiO2 Glases auf Werte von negativ auf positiv - Google Patents
Verfahren zum Einstellen des Wärmeausdehnungskoeffizienten eines TiO2 -SiO2 Glases auf Werte von negativ auf positivInfo
- Publication number
- DE2140931B2 DE2140931B2 DE2140931A DE2140931A DE2140931B2 DE 2140931 B2 DE2140931 B2 DE 2140931B2 DE 2140931 A DE2140931 A DE 2140931A DE 2140931 A DE2140931 A DE 2140931A DE 2140931 B2 DE2140931 B2 DE 2140931B2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- glass
- coefficient
- thermal expansion
- positive
- negative
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 46
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 8
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 title description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 title 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 title 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 title 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 title 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 19
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 12
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 11
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 9
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- LCKIEQZJEYYRIY-UHFFFAOYSA-N Titanium ion Chemical compound [Ti+4] LCKIEQZJEYYRIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229910002056 binary alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229910004028 SiCU Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010165 TiCu Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical class Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/14—Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
- C03B19/1453—Thermal after-treatment of the shaped article, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B32/00—Thermal after-treatment of glass products not provided for in groups C03B19/00, C03B25/00 - C03B31/00 or C03B37/00, e.g. crystallisation, eliminating gas inclusions or other impurities; Hot-pressing vitrified, non-porous, shaped glass products
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/40—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn
- C03B2201/42—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn doped with titanium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft TiO2 und SiO2 enthaltende
Gläser mit einstellbarem, niedrigem Wärmeausdehnungskoeffizienten im Temperaturbereich von —200°
bis + 700° auf Werte von negativ auf positiv.
Es sind wärmeschockfeste Gläser mit einer linearen Wärmedehnung von etwa 5 χ 10-7/°C bei 25-300° bekannt,
die im wesentlichen aus Kieselsäure bestehen, wie Quarzglas oder geschmolzenes Kieselsäureglas. Für
Anwendungen in der optischen Nachrichtentechnik oder Linsengläser größter Präzision sind noch
niedrigere Koeffizienten bis annähernd Null erforderlich, die sich mit den Kieselsäurcgläsern aber nicht erreichen
lassen.
Zur Herstellung von Gläsern i.iit solch niedriger
Dehnung schlägt die US-PS 23 26 059 aus TiO2 und r,
SiO2 aufgebaute Gläser vor, erklärt aber, die Dehnung nehme bei einem 9% übersteigenden TiO2-Gehalt zu
und sei bereits bei 11 % viel zu hoch.
Die BE-PS 6 32 846 beschreibt Gläser niedriger Wärmedehnung, welche 60-94 Mol-% SiO2,
1,5-22 Mol-% TiO2 und wahlweise B2O3 und AI2Oi
enthalten. Diese Patentschrift enthält jedoch keine Lehre oder Anregung des Inhalts, daß im genereilen
binären System TiO2-SiO2 oder in dem von ihr
behandelten besonderen Zusammensetzungsbereich in ihrem Wärmeausdehnungskoeffizienten in einem von
negativ bis positiv reichenden Bereich eingestellt werden können, noch wie dies zu bewerkstelligen ist.
Seit kürzerem sind auch Glaskeramiken mit einer Wärmedehnung von annähernd Null bekannt- ίο
geworden, vgl. die US- PS 34 84 328.
Der niedrige Wärmedehnungskoeffizient dieser bekannten Stoffe besteht aber nur innerhalb eines
engen Temperaturbereichs, meist 0—100°, ändert sich außerhalb dieser Grenzen aber rasch. τ,
Da in vielen Fällen, z. B. für optische Präzisionsteile, höhere oder niedrigere Betriebstemperaturen in Frage
kommen, besteht ein Bedürfnis nach einem Glas niedriger Dehnung über einen größeren, insbesondere
0-500° umfassenden Temperaturbereich. Ein solches m> Glas hat die Erfindung zur Aufgabe.
Die Erfindung löst diese Aufgabe durch ein Verfahren zum Einstellen des Wärmeausdehnungskoeffizienten
im Temperaturbereich von -200°C bis + 7000C bei einem Glas, das aus 12 bis 20 Gew.-% TiO2 »,-,
und dem Rest SiO2 besteht, auf Werte von negativ auf positiv, dadurch, daß das Glas einer Wärmebehandlung
im Temperaturbereich von 700°(.: bis unterhalb der
Erweichungstemperatur des Glases unterworfen wird.
Die Erfindung beruht auf der überraschenden Feststellung, daß Gläser des binären Systems TiO3-StO2,
bestehend aus 12-20% TiO3, Rest SiO3, überraschenderweise
durch Wärmebehandlung in ihrer charakteristischen Wärmedehnung beeinflußt werden können.
Im unbehandeiten Zustand ist der Dehnungskoeffizient stark negativ, im behandelten Zustand dagegen positiv.
Er kann im Bereich von -200° bis +700° durch vorzugsweise unter der Kühltemperatur liegende Wärmebehandlung
auf einen beliebigen mittleren Wert eingestellt werden, je nach Höhe und Dauer der Temperaturbehandlung.
Die Gläser können in der üblichen Weise durch Erschmelzen aus dem Ansatz bei etwa 1900 — 2000°
oder nach dem Niederschlagsverfahren aus der Dampfphase, insbesondere Flammhydrolyse nach der US-PS
23 26 059 oder auch durch Gelieren und Schmelzen bei ca. 1450° oder höher hergestellt werden. Da die Gläser
sehr feuerfest sind, bereitet die voilkoirirnene Erschmelzung
bis zur Durchsichtigkeit einige Schwierigkeiten. Besonders günstig ist daher eine Abwandlung
des Verfahrens nach der US-PS 23 26 059.
Eine entsprechende Mischung von SiCU- und TiCU-Dämpfen wird mit einem geeigneten Trägergas durch
einen Brenner geführt. Dabei werden die Chloride durch Flammhydrolyse zu den entsprechenden Oxiden
umgesetzt. Diese schmelzen und schlagen sich in glasiger Form auf einem Dorn oder Steckeisen zu
einem Kübel nieder, der dann rasch auf Zimmertemperatur gekühlt wird. Das behandelte Glas zeigt
einen stark negativen Wärmedehnungskoeffizient, der aber durch Behandlung im Bereich der Kühltemperatur
bzw. des oberen Spannungspunkts (Erhitzen auf etwa 960° und Abkühlen) stark positiv wird. So hat z. B. ein
Glas aus 85% SiO2 und 15% TiO2 einen Wärmeausdehnungskoeffizient
von — 5x 10"7/°Czwischen -200°
und +700° vor der Behandlung, nc;h der Behandlung durch Erhitzen auf 960° für 1 Std. und Abkühlen mit
einer Geschwindigkeit von 2 —3°/Std. einen solchen von + IO χ 10-7°C. Auf einen mittleren Dehnungswert
kann das Glas durch Erhitzen auf wenigstens etwa 700° aber unterhalb der Erweichungstemperatur eingestellt
werden. Im einzelnen hängt der Dchnungskoeffizient von der Behandlungstemperatur und -dauer ab und
nimmt mit höherer Temperatur und/oder längerer Behandlung zu. Oft genügen schon wenige Minuten,
jedoch ist die Verfahrenssteuerung bei solch kurzer Behandlung schwierig und Zeiten von mindestens I Std.
sind günstiger. Mehr als 20 Std. sind unpraktisch.
Als Deutungsversuch der Ursachen dieser überraschenden Wirkung kann an die Valenzkoordination
des Titanions in dem Glasgefüge gedacht werden. Die Korrdinationszahl entspricht der Zahl der TiO-Bindungen
pro Titanion. Es wird vermutet, daß Kieselsäuregläser mit bis zu 20% TiO2 nach dem Erschmelzen
zum durchsichtigen Glas und rascher Abkühlung auf Zimmertemperatur das Titanion in vierfacher Koordination
enthalten. Bei höherem TiO2-Gehalt entsteht
meist ein aus Glas und TiO2-Kristallen mit sechsfacher
Ti-Koordination bestehender opaker Stoff. Wahrscheinlich befindet sich das Titanion bei weniger
als 12% TiO2 nach rascher Abkühlung ebenfalls in vierfacher
Koordination, ist aber im Gegensatz zum Bereich von 12-20% relativ stabil, während es im erfindungsgemäßen
Bereich während der Wärmebehandlung in den sechsfachen Koordinationszustand übergeht.
Vermutlich beruht die Änderung des Dehnungs-
koeffizienten auf diesem Koordinations wechsel.
Der weiteren Erläuterung dienen die folgenden Beispiele.
Tabelle I | A | B | C | D |
86,8 13,2 |
85,0 15,0 |
83,7 16,3 |
80,6 19,4 |
|
SiO2 TiO1 |
||||
Eine dieser Zusammensetzungen entsprechende Mischung von Silizium- und Titanchloriden wurde jeweils
bereitet, mit Sauerstoff als Präger durchperlt und die Dampfmischung durch einen Hochtemperaturbrenner
geleitet, in dem durch Flammhydrolyse ein Glas mit der Oxidzusammensetzung der Tabelle entstand. Auf
einem rotierenden Stecheisen wurde ein 2,5 cm dicker Kübel mit i5cm Durchmesser aufgebaut, dieser abgetrennt
und gekühlt
Da trotz einiger Unterschiede je nach der Glaszusammensetzung, die erzielten Änderungen der Eigenschaften
grundsätzlich vergleichbar sind, genügt zur Erläuterung der Erfindung die Beschreibung der weiteren
Behandlung lediglich für das Beispiel B an Hand der Zeichnungen, die in graphischer Darstellung
erläutern:
die F i g. 1 die Dehnung als Funktion der Temperatur;
die F i g. 2 den Einfluß unterschiedlicher Behandlungsdauer bei verschiedenen Temperaturen;
die F i g. 3 im Vergleich das Glas gemäß Beispiel B und zwei bekannte Stoffe mit der Wärmedehnung
Null.
Die Kennlinien der F i g. 1 zeigen Dehnungsmeßwerte (Δ L/L in ppm bzw. in Millionteilen) im Temperaturbereich
von -200° bis +300° für die Glasproben B mit jeweils verschiedener Wärmebehandlung im
Bereich von 750-900°, sowie zum Vergleich für eine unbehandelte und eine behandelte Glasprobe. Behandelt
wurde das Glas durch Erhitzen auf 960°, Halten während 1 Std., Abkühlen mit 3°/Std. auf 700° und
Abkühlen auf Zimmertemperatur durch Stehenlassen. Die erste Zahl bezeichnet die Tsmperatur der
Wärmebehandlung und die zweite Zahl die Haltezeit.
Während der Dehnungskoeffizient des unbehandelten Glases zwischen -200° und +700° stark negativ
ist, wird durch Wärmeber.andlung der Kurventeil über
0° in positiver Richtung verschoben und wird im behandelter. Zustand stark positiv, während der
Kurventeil unter 0° zur Verschiebung in negativer Richtung eine intensivere Wärmebehandlung erfordert
und z. B. für 6 Std. auf 750° oder 850° erhitzte Proben keine merkliche Veränderung zeigen, während bei
gleicher Behandlung oberhalb von 0° der Koeffizient annähernd Null wurde. Die Wärmedehnung der
Kennlinie des unbehandelten Glases ist —5xlO-7/°C,
die des behandelten Glases +1Ox 10-7/°C. Durch geeignete
Wärmebehandlung läßt sich jeder beliebige mittlere Wert einstellen, wie aus den F i g. 1 und 2
ίο deutlich hervorgeht.
Die F i g. 2 zeigt die Dehnungskennlinien für drei verschiedene Behandlungsgruppen des gleichen Glases B.
Die erste Gruppe wurde auf 750"C erhitzt, und nach verschiedenen Zeiträumen von 1-20 Std. dem Ofen
is entnommen. Entsprechend wurde mit den übrigen beiden Gruppen vorgegangen, jedoch auf 850° bzw.
900° erhitzt und sodann die Dehnungskoeffizienten im Temperaturhereich von 25 — 300° gemessen und als
Funktion der Behandlungsdauer (V/ *agerechte) und -temperatur (Zahl neben der Kennlinie) <*uf der Senkrechten
abgetragen. Durch geeignete Wärmebehandlung läßt sich in den angegebenen Grenzen jeder beliebige
Dehnungskoeffizient erzielen, so z. B. der Koeffizient Null im Bereich von 25-300° durch Erhitzen
auf 850° während 3 Std. oder 900° während 1 Std.
Eine auf 900° während 1 Std. erhitzte Glasprobe B
wurde mit einem bekannten, 7,5% TiO2 und 92,5%
SiO2 enthaltenden Glas und einer Glaskeramik mit angeblicher Nulldehnung verglichen, und die Meßwerte
jn (Δ L/L in Millionteilen) des Temperaturbereichs
-200° bis +500° auf der Senkrechten als Funktion der Meßtemperatur entsprechend der Waagerechten der
Kennlinie der Fig.3 abgetragen. Die Kennlinie zeigt,
daß nur das erfindungsgemäße Glas einen Nullkoeffizienten im gesamten gemessenen Temperaturbereich
besitzt.
Zum Nachweis der Temperaturbeständigkeit wurde eine Probe des erfindungsgemäßen Glases mehrere
Tage lang auf 550° erhitzt. Dabei änderte sich der Dehr jngskoeffizient nicht wesentlich, das Glas ist also
sehr temperaturbeständig.
Gläser mit mehr als 17 Gew.-% T1O2 werden durch
Entstehung einer dispergierten Anatasi-Kristallphase leicht trübe. Da diese Kristallphase die Dehnung des
4Ί Glases erhöht, ergibt sich eine obere Grenze der
brauchbaren Gläser von etwa 20%, wobei nicht mehr als 17% bevorzugt werden. Gläser mit weniger als 17%
T1O2 haben einen leicht blau- bis hellbraunen Stich, der
durch die Wärmebehandlung, auch bei längerer Dauer
Ίο und Temperaturen nahe der Kühltemperatur bzw. dem
oberen Spannungspunkt nicht weiter beeinflußt wird. Die Durchsichtigkeit der Gläser bleibt aber erhalten.
Hierzu 3 Blatt Zeichnungen
Claims (2)
1. Verfahren zum Einstellen des Wärmeausdehnungskoeffizienten im Temperaturbereich von
-2000C bis +7000C bei einem Glas, das aus 12 bis
20Gew.-% TiO3 und dem Rest SiO3 besteht, auf
Werte von negativ auf positiv, dadurch
gekennzeichnet, daß das Glas einer Wärmebehandlung im Temperaturbereich von 7000C bis
unterhalb der Erweichungstemperatur des Glases unterworfen wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Wärmebehandlung 1 bis
20 Stunden lang durchgeführt wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US6509670A | 1970-08-19 | 1970-08-19 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2140931A1 DE2140931A1 (de) | 1972-02-24 |
DE2140931B2 true DE2140931B2 (de) | 1980-04-17 |
DE2140931C3 DE2140931C3 (de) | 1984-01-19 |
Family
ID=22060313
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2140931A Expired DE2140931C3 (de) | 1970-08-19 | 1971-08-16 | Verfahren zum Einstellen des Wärmeausdehnungskoeffizienten eines TiO↓2↓-SiO↓2↓Glases auf Werte von negativ auf positiv |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3690855A (de) |
DE (1) | DE2140931C3 (de) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4239521A (en) * | 1975-03-19 | 1980-12-16 | Corning Glass Works | Spontaneously-formed alpha-quartz glass-ceramics |
US4244723A (en) * | 1975-03-19 | 1981-01-13 | Corning Glass Works | Spontaneously-formed mullite glass-ceramics |
US4239520A (en) * | 1975-03-19 | 1980-12-16 | Corning Glass Works | Spontaneously formed machinable glass-ceramics |
US8021755B2 (en) * | 2009-08-28 | 2011-09-20 | Corning Incorporated | Low thermal expansion glass for EUVL applications |
US20110207593A1 (en) | 2010-02-25 | 2011-08-25 | Carlos Duran | Expansivity in Low Expansion Silica-Titania Glasses |
WO2011150047A1 (en) * | 2010-05-28 | 2011-12-01 | Corning Incorporated | Transparent laminates comprising intermediate or anomalous glass |
US20120026473A1 (en) | 2010-07-29 | 2012-02-02 | Michael Lucien Genier | Highly reflective, hardened silica titania article and method of making |
DE102011081043A1 (de) * | 2011-08-16 | 2013-02-21 | Robert Bosch Gmbh | Getriebe-Antriebseinrichtung |
DE102011085358B3 (de) | 2011-10-28 | 2012-07-12 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung für die EUV-Lithographie und Verfahren zum Konfigurieren einer solchen optischen Anordnung |
JP2017536323A (ja) | 2014-11-26 | 2017-12-07 | コーニング インコーポレイテッド | 低膨張率を有するドープされたシリカ−チタニアガラスおよびその製造方法 |
EP3274311B1 (de) | 2015-03-26 | 2020-06-17 | Corning Incorporated | Glasverbund zur verwendung in extrem ultravioletter lithographie |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL6608524A (de) * | 1965-06-21 | 1966-12-22 |
-
1970
- 1970-08-19 US US3690855D patent/US3690855A/en not_active Expired - Lifetime
-
1971
- 1971-08-16 DE DE2140931A patent/DE2140931C3/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2140931A1 (de) | 1972-02-24 |
US3690855A (en) | 1972-09-12 |
DE2140931C3 (de) | 1984-01-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE4013392C2 (de) | ||
DE3003016C2 (de) | ||
DE60008978T2 (de) | Kristallisiertes Li2O-Al2O3-SiO2 Glas und die dafür benötigten kristallisierbaren Gläser | |
DE10035801B4 (de) | Borosilicatglas hoher chemischer Beständigkeit und dessen Verwendungen | |
DE2404623C3 (de) | Entglasbares, in eine Glaskeramik umwandelbares Glas des Systems SiO2 -Al2 O3 - CaO - MgO - Na2 O und als Keimbildner TiO2, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung | |
DE2938421A1 (de) | Basaltkeramikfasern und verfahren zu ihrer herstellung | |
DE2621741A1 (de) | Glaeser fuer absorptionssteilkantenfilter | |
DE2263234A1 (de) | Verfahren zur herstellung von hochfesten und temperaturwechselbestaendigen glasgegenstaenden durch oberflaechenkristallisation | |
DE2140931B2 (de) | Verfahren zum Einstellen des Wärmeausdehnungskoeffizienten eines TiO2 -SiO2 Glases auf Werte von negativ auf positiv | |
DE1055193B (de) | Verfahren zum Erhoehen der Ritzhaerte und Festigkeit von Glasoberflaechen bzw. Glasgegenstaenden | |
DE1596812A1 (de) | Ballotinen und Kugeln aus entglastem Glas von hoher mechanischer Widerstandsfaehigkeit und ihr Herstellungsverfahren | |
DE3927174A1 (de) | Gefaerbte transparent-glaskeramik mit geringer ausdehnung und verfahren zu deren herstellung | |
DE2719250A1 (de) | Glasansatz fuer optisches glas | |
DE2134483B2 (de) | Verfahren zur thermischen Behandlung von durch Elektroschmelze erzeugten feuerfesten Materialien | |
EP1288171A2 (de) | Optische Farbgläser | |
DE1284065B (de) | Verfahren zur Herstellung verstaerkter glaskeramischer Gegenstaende | |
DE69729390T2 (de) | Breitband kontrast polarisierender glas | |
DE2746418C3 (de) | ||
DE4231794C2 (de) | Cadmiumfreie, farbige Anlaufgläser auf Basis eines Al¶2¶0¶3¶-Si0¶2¶-Grundglases | |
DE1909433B2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer·*1™*11 optischen Glasfaser hoher Uchtdurchlässigkeit, bestehend im wesentlichen aus SUizidioxid und Titanoxid | |
DE2705948A1 (de) | Verfahren zur herstellung von durchsichtigen, farblosen glaskeramiken und gegenstaende aus diesen glaskeramiken | |
DE1421923B2 (de) | ||
DE19918001A1 (de) | Hitzbeständiges, synthetisches Quarzglas und Herstellungsverfahren dafür | |
DE4301057C1 (de) | Cadmiumfreie, farbige Anlaufgläser auf Basis eines PbO-SiO¶2¶ -Grundglases und deren Verwendung | |
DE3803047A1 (de) | Flammspritzmaterial mit hohem siliziumdioxidgehalt |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OD | Request for examination | ||
8228 | New agent |
Free format text: HERZFELD, A., RECHTSANW., 6370 OBERURSEL |
|
8281 | Inventor (new situation) |
Free format text: SCHULTZ, PETER CHARLES, PAINTED POST, N.Y., US |
|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |