DE1909433B2 - Verfahren zur Herstellung einer·*1™*11 optischen Glasfaser hoher Uchtdurchlässigkeit, bestehend im wesentlichen aus SUizidioxid und Titanoxid - Google Patents

Verfahren zur Herstellung einer·*1™*11 optischen Glasfaser hoher Uchtdurchlässigkeit, bestehend im wesentlichen aus SUizidioxid und Titanoxid

Info

Publication number
DE1909433B2
DE1909433B2 DE1909433A DE1909433A DE1909433B2 DE 1909433 B2 DE1909433 B2 DE 1909433B2 DE 1909433 A DE1909433 A DE 1909433A DE 1909433 A DE1909433 A DE 1909433A DE 1909433 B2 DE1909433 B2 DE 1909433B2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
glass fiber
glass
titanium oxide
fiber
optical glass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE1909433A
Other languages
English (en)
Other versions
DE1909433A1 (de
Inventor
Roy Victor Corning N.Y. Harrington (V.St.A.)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Corning Glass Works
Original Assignee
Corning Glass Works
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Corning Glass Works filed Critical Corning Glass Works
Publication of DE1909433A1 publication Critical patent/DE1909433A1/de
Publication of DE1909433B2 publication Critical patent/DE1909433B2/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/10—Non-chemical treatment
    • C03B37/14—Re-forming fibres or filaments, i.e. changing their shape
    • C03B37/15—Re-forming fibres or filaments, i.e. changing their shape with heat application, e.g. for making optical fibres
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C13/00—Fibre or filament compositions
    • C03C13/04—Fibre optics, e.g. core and clad fibre compositions
    • C03C13/045—Silica-containing oxide glass compositions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
    • C03C25/002—Thermal treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C25/00—Surface treatment of fibres or filaments made from glass, minerals or slags
    • C03C25/10—Coating
    • C03C25/104—Coating to obtain optical fibres
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2201/00—Glass compositions
    • C03C2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03C2201/30—Doped silica-based glasses containing metals
    • C03C2201/40—Doped silica-based glasses containing metals containing transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn
    • C03C2201/42—Doped silica-based glasses containing metals containing transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn containing titanium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2203/00—Production processes
    • C03C2203/50—After-treatment
    • C03C2203/52—Heat-treatment

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer hochreinen optischem Glasfaser hoher Lichtdurchlässigkeit, bestehend im wesentlichen aus Siliziumdioxid und Titanoxid.
Optische Glasfaser-Geräte sind bereits bekannt Das auf diesem Gebiet grundlegende Patent ist die US-Patentschrift Nr. 28 25 260, in der das Überziehen eines Kernwerkstoffs mit einem anderen Material, das einen anderen Brechungsindex aufweist, beschrieben wird. Glas wurde bereits sowohl als Kernwerkstoff als auch als Überzugsmaterial verwendet Es war jedoch bei den optischen Glasfaser-Geräten schwierig, eine gute Lichtdurchlässigkeit durch längere Glasst: ecken zu erhalten.
Die geringe Lichtdurchlässigkeit wurde mit Verunreinigungen in den Gläsern in Verbindung gebracht. Für die Herstellung von Glaskernen optischer Glasfaser-Geräte wurden deshalb Gläser hoher Reinheit verwendet.
Gläser hoher Reinheit werden am besten durch Verfahren hergestellt, die den im US-Patent Nr. 23 26 059 beschriebenen Verfahren ähneln. Dieses Patent beschreibt ein Verfahren zur Herstellung eines Oxids durch Flammenpyrolyse und anschließende Formung des Oxids in eine Glaskugel auf einer Oberfläche. Die Glaskugel wird dann zu einem Stab geformt, der den Kern des optischen Glasfaser-Geräts bildet. Der Glaskern wird dann mit einem Glastubus überzogen. Diese Stab-Tubus-Kombination wird dann zu einer Glasfaser ausgezogen. Anschließend wird die Faser auf ihre endgültige Form weitergezogen. Die so erhaltenen Glasfaser-Geräte weisen eine ausgesprochen niedere Lichtdurchlässigkeit auf.
Wie z.B. aus Hollemann-Wiberg »Lehrbuch der anorganischen Chemie« 1954, Seiten 513 und 514 zu entnehmen ist, ist es bereits seit langem bekannt, daß für die schädliche Verfärbung von Gläsern +3-wertige Titanionen verantwortlich sind. So ist z. B. T12O3 stark gefärbt (amethystfarben), während T1O2 bei Zimmertemperatur farblos ist. Diese Erkenntnis haben sich Glasfachleute seit langem nutzbar gemacht, denn aus S C h in i d i - V O s S »Die Rohstoffe zur Giäseizeugung«, Z Auflage. Leipzig 1958, Seiten 239 und 240 ist zu entnehmen, daß man farblose Titangläser nur dann herstellen kann, wenn jede Reduktion streng vermieden wird.
Aufgabe der Erfindung ist es, die Lichtdurchlässigkeit optischer Glasfasern aus hochreinem, titanoxidhaltigem Glas zu verbessern.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein Verfahren gelöst das dadurch gekennzeichnet ist daß
ίο zunächst die Glasfaser gezogen wird, wobei wenigstens ein Teil der Titanionen zum +3-wertigen Zustand reduziert wird und daß dann die Glasfaser bei 600" C bis 10000C in einer oxidierenden Atmosphäre so lange einer Wärmebehandlung unterworfen wird, bis die Titanionen vom +3-wertigen zum +4-wertigen Zustand oxidiert worden sind.
Im Gegensatz zum Stand der Technik, nach welchem jedwede Reduktion streng zu vermeiden ist läßt man erfindungsgemäß ohne weiteres zu, daß wenigstens ein Teil der Titanionen zum +3-wertigen Zustand reduziert wird. Erst anschließend wird die Oxidation vom +3-wertigen zum +4-wertigen Zustand durchgeführt. Überraschenderweise kann mit dem erfindungsgemäßen Verfahren eine Erhöhung der Lichtdurchlässigkeit um einen Faktor bis zu 20 000 erreicht werden.
Bei der vorzugsweisen Ausführungsart des erfindungsgemäßen Verfahrens wird eine titanoxidhaltige Siliziumdioxid-Glasfaser hoher Reinheit als Glaskern verwendet Dieses Glas wird gemäß der US-Patentschrift Nr. 23 26 059 durch Pyrolyse von Siliziumtetrachlorid- und Titantetrachlorid-Dämpfen und Kondensieren des auf diese Weise erhaltenen Siliziumdioxids und Titanoxids in Form einer Kugel geformt Anschließend wird ein Glasstab geeigneter Größe aus der Kugel geformt Dann wird aus geschmolzenem Siliziumdioxid ein Tubus geformt, der über den Stab geschoben wird; das so erhaltene Glasteil wird dann zu einer Faser ausgezogen. Der Siliziumdioxid-Überzug wird auf Grund seiner Reinheit und seines Brechungsindexes, der kleiner ist als der des Kernstücks, verwendet.
Die erhaltene Faser wird bei hohen Temperaturen
weitergezogen, bis sie eine geeignete Größe erreicht hat. Das Weiterziehen bei hohen Temperaturen
verursacht eine Reduktion des Glases. Überdies wird das Glas mittels eines besonderen Prozesses einer reduzierenden Atmosphäre ausgesetzt, die das Glas weiter reduziert. Nach dem Weiterziehen wird festgestellt daß die Faser eine sehr geringe Lichtdurchlässigkeit aufweist
so Das erfindungsgemäße Verfahren führt zu einem starken Ansteigen der Lichtdurchlässigkeit der Faser. Der Absorptionskoeffizient, der ein Maß für die Fähigkeit des Materials, Strahlung durchzulassen, darstellt und von der Länge der Faser unabhängig ist, wurde beträchtlich erniedrigt.
Es kann angenommen werden, daß eine derartige Wärmebehandlung die Lichtdurchlässigkeit jedes reduzierten titanoxidhaltigen Glases verbessert. Es sind jedoch derzeit nur Gläser verwendbar, die einen Gehalt von 0 bis 15 Gew.% Titanoxid aufweisen. Die maximale Behandlungstemperatur hängt von der Temperatur ab, bei der sich die Faser deformiert, während die niedrigste Behandlungstemperatur von der Temperatur abhängt, bei der eine erkennbare Änderung der Lichtdurchlässigkeit stattfindet. Die Wärmebehandlungsdauer hängt von der Behandlungstemperatur ab: Bei niederen Behandlungstemperaturen ist eine lange Behandlungszeit, bei
Bchandlungstcmpcraturcn eine kürzere Behänd
lungszeit notwendig. Obwohl nur reine Sauerstoffatmosphären verwendet wurden, kann angenommen werden, daß auch weniger stark oxidierende Atmosphären verwendet werden können. Bei Verwendung von weniger stark oxidierenden Atmosphären ist jedoch eine längere Behandlungsdauer und/oder eine höhere Behandlungstemperatur notwendig, um die Lichtdurchlässigkeit wesentlich zu verbessern.
Im folgenden wird das erfindungsgemäße Verfahren an Hand zweier Ausführungsbeispiele näher erläutert
Beispiel 1
Es wurde eine optische Glasfaser mit einem Durchmesser von 0,0112 cm hergestellt, wobei der Durchmesser des Kernstückes etwa 0,0110 cm und die Dicke des Oberzugs etwa 0,00127 cm betrug. Der Überzug bestand aus reinem, geschmolzenem (fused) Siliziumdioxid-Glas, während der Glaskern aus 93,1% Siliziumdioxid und 6,9% Titanoxid — in Gewichtsprozenten auf Oxidbasis — zusammengesetzt war. Diese Faser wurde bei 1900° C weitergezogen, bis geeignete Abmessungen erreicht waren. Die weitergezogene Faser wies eine sehr geringe Lichtdurchlässigkeit auf; der Absorptionskoeffizient betrug etwa 0,025 cm-'. Die Faser wurde dann in reiner Sauerstoffatmosphäre 16 Stunden bei 800° C einer Wärmebehandlung unterworfen. Nach der Wärmebehandlung wurde eine wesentlich bessere Lichtdurchlässigkeit gefunden: der Absorptionskoeffizient betrug etwa 0,008 cm-'. Diese Verkleinerung des Absorptionskoeffizienten entsprach annähernd einer Verbesserung um den Faktor 3. Eine Verbesserung des Absorptionskoeffizienten etwa um den Faktor 3 entspricht einer Erhöhung der Lichtdurchlässigkeit etwa um den Faktor 20, bezogen auf eine 1 cm lange Faser.
Beispiel 2
Es wurde eine optische Glasfaser mit einem Durchmesser von 0,0058 cm hergestellt, wobei der Durchmesser des Kernstücks etwa 0,0010 cm und die Dicke des Oberzugs etwa 0,0279 cm betrug. Überzug und Glaskern hatten dieselbe Zusammensetzung wie in Beispiel !. Nach dem Weiterziehen der Faser bei 1900° C war die Lichtdurchlässigkeit gering; der Absorptionskoeffizient betrug etwa 0,087 cm-'. Die Faser wurde dann in reiner Sauerstoffatmosphäre 14 Stunden bei 600° C einer Wärmebehandlung unterzogen. Durch diese Wärmebehandlung wurde die Lichtdurchlässigkeit wesentlich verbessert; der Absorptionskoeffizient betrug etwa 0,0087 cm-1. Diese Verkleinerung des Absorptionskoeffizienten entsprach annähernd einer Verbesserung um den Faktor 10. Eine Verbesserung des Absorptionskoeffizienten etwa um den Faktor 10 entspricht einer Erhöhung der Lichtdurchlässigkeit etwa um den Faktor 20 000, bezogen auf eine 1 cm lange Faser.

Claims (3)

Patentansprüche:
1. Verfahren zur Herstellung einer hochreinen optischen Glasfaser hoher Lichtdurchlässigkeit, bestehend im wesentlichen aus Siliziumdioxid und Titanoxid, dadurch gekennzeichnet, daß zunächst die Glasfaser gezogen wird, wobei wenigstens ein Teil der Titanionen zum +3-wertigen Zustand reduziert wird und daß dann die Glasfaser bei 6000C bis 1000°C in einer oxidierenden Atmosphäre so lange einer Wärmebehandlung unterworfen wird, bis die Titanionen vom +3-wertigen zum +'4-wertigen Zustand oxidiert worden sind.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es mit einer optischen Glasfaser durchgeführt wird, die im wesentlichen aus bis zu 15Gew.% Titanoxid und wenigstens 85Gew.% Siliziumdioxid besteht
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die optische Glasfaser 10 bis 20 Stunden bei 6000C bis 800° C der Wärmebehandlung unterworfen wird.
DE1909433A 1968-02-26 1969-02-25 Verfahren zur Herstellung einer·*1™*11 optischen Glasfaser hoher Uchtdurchlässigkeit, bestehend im wesentlichen aus SUizidioxid und Titanoxid Withdrawn DE1909433B2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US70793868A 1968-02-26 1968-02-26

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE1909433A1 DE1909433A1 (de) 1969-09-18
DE1909433B2 true DE1909433B2 (de) 1979-02-01

Family

ID=24843754

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE1967211A Expired DE1967211C2 (de) 1968-02-26 1969-02-25 Optische Glasfaser
DE1909433A Withdrawn DE1909433B2 (de) 1968-02-26 1969-02-25 Verfahren zur Herstellung einer·*1™*11 optischen Glasfaser hoher Uchtdurchlässigkeit, bestehend im wesentlichen aus SUizidioxid und Titanoxid

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE1967211A Expired DE1967211C2 (de) 1968-02-26 1969-02-25 Optische Glasfaser

Country Status (4)

Country Link
DE (2) DE1967211C2 (de)
FR (1) FR2002589A1 (de)
GB (1) GB1213603A (de)
NL (1) NL6902919A (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004015766A1 (de) * 2004-03-23 2005-10-13 Schott Ag SiO2-TiO2-Glas mit erhöhter Strahlungsbeständigkeit

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2002589A1 (de) * 1968-02-26 1969-10-31 Corning Glass Works
US3711262A (en) * 1970-05-11 1973-01-16 Corning Glass Works Method of producing optical waveguide fibers
GB1391177A (en) * 1971-08-09 1975-04-16 Thermal Syndicate Ltd Vitreous siliceous material
GB1427327A (en) * 1972-06-08 1976-03-10 Standard Telephones Cables Ltd Glass optical fibres
US3884550A (en) * 1973-01-04 1975-05-20 Corning Glass Works Germania containing optical waveguide
DE2927109A1 (de) * 1979-07-05 1981-01-08 Johannes Loersch Diarahmen
FR2476058A1 (fr) 1980-02-15 1981-08-21 Quartz Silice Sa Semi-produit pour la production de fibres optiques, procede de preparation du semi-produit et fibres optiques obtenues a partir du semi-produit
US5755850A (en) * 1992-09-24 1998-05-26 Iowa State University Research Foundation Method of making a surgical laser fiber from a monolithic silica titania glass rod
DE69916879T2 (de) * 1998-07-15 2005-04-21 Kitagawa Ind Co Ltd Faseroptische Vorrichtung, und Herstellungsverfahren dafür
JP4492123B2 (ja) * 2004-01-05 2010-06-30 旭硝子株式会社 シリカガラス
JP2009274947A (ja) 2008-04-16 2009-11-26 Asahi Glass Co Ltd ＴｉＯ２を含有するＥＵＶリソグラフィ光学部材用シリカガラス

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2326059A (en) 1939-04-22 1943-08-03 Corning Glass Works Glass having an expansion lower than that of silica
FR1287540A (fr) 1961-02-02 1962-03-16 Saint Gobain Perfectionnement à la fabrication de verre de silice ou de verres siliciques
DE1909433U (de) 1964-11-26 1965-02-04 Hamaphot K G Hanke & Thomas Diaraehmchen.
US3227032A (en) 1961-03-30 1966-01-04 American Optical Corp Energy conducting fibers formed of sapphire cladded with quartz
US3320114A (en) 1963-07-31 1967-05-16 Litton Prec Products Inc Method for lowering index of refraction of glass surfaces
DE2122895A1 (de) 1970-05-11 1971-11-25 Corning Glass Works Verfahren zur Herstellung optischer Fasern
DE2122896B2 (de) 1970-05-11 1977-03-17 Corning Glass Works, Corning, N.Y. (V.StA.) Optischer wellenleiter in form einer glasfaser

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2002589A1 (de) * 1968-02-26 1969-10-31 Corning Glass Works

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2326059A (en) 1939-04-22 1943-08-03 Corning Glass Works Glass having an expansion lower than that of silica
FR1287540A (fr) 1961-02-02 1962-03-16 Saint Gobain Perfectionnement à la fabrication de verre de silice ou de verres siliciques
US3227032A (en) 1961-03-30 1966-01-04 American Optical Corp Energy conducting fibers formed of sapphire cladded with quartz
US3320114A (en) 1963-07-31 1967-05-16 Litton Prec Products Inc Method for lowering index of refraction of glass surfaces
DE1909433U (de) 1964-11-26 1965-02-04 Hamaphot K G Hanke & Thomas Diaraehmchen.
DE2122895A1 (de) 1970-05-11 1971-11-25 Corning Glass Works Verfahren zur Herstellung optischer Fasern
DE2122896B2 (de) 1970-05-11 1977-03-17 Corning Glass Works, Corning, N.Y. (V.StA.) Optischer wellenleiter in form einer glasfaser

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Proc. IEE, Bd. 113, Nr. 7 (1966), Inorganic Glass-Forming Systems (1967), S. 199-201

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004015766A1 (de) * 2004-03-23 2005-10-13 Schott Ag SiO2-TiO2-Glas mit erhöhter Strahlungsbeständigkeit
DE102004015766B4 (de) * 2004-03-23 2016-05-12 Asahi Glass Co., Ltd. Verwendung eines SiO2-TiO2-Glases als strahlungsresistentes Substrat

Also Published As

Publication number Publication date
DE1909433A1 (de) 1969-09-18
FR2002589A1 (de) 1969-10-31
DE1967211C2 (de) 1984-10-11
NL6902919A (de) 1969-08-28
GB1213603A (en) 1970-11-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2940451C2 (de)
DE691356C (de) Verfahren zur Herstellung von optischen Glaesern hoher Brechungszahlen und niedrigerStreuung
DE2905875C2 (de) Optisches Glas im System P↓2↓O↓5↓-Nb↓2↓O↓5↓
DE1421845C3 (de) Verfestigter Glasgegenstand mit einer das Glasinnere umgebenden Oberflächen-Druckspannungsschicht und Verfahren zu seiner Herstellung
DE69502007T2 (de) Polarisierendes Glas und Verfahren zu dessen Herstellung
DE2719250C3 (de) Optisches Glas mit einem Brechungsindex von 1^7 bis 1,98 und einer Abbe-Zahl von 18 bis 46
DE2536456B1 (de) Halbzeug fuer die herstellung von lichtleitfasern, verfahren zur herstellung des halbzeugs und aus dem halbzeug hergestellte lichtleitfasern
DE1421844A1 (de) Verfahren zur thermochemischen Behandlung von Glas
DE2546162B1 (de) Lichtleitfaser mit Brechungsindexgradient zur Nachrichtenuebertragung
DE1225349B (de) Glaszusammensetzungen fuer in Akrylharze als Verstaerkung einzubettende Glasfasern
DE2524335C2 (de)
DE3103771C2 (de) Infrarotstrahlendurchlässige Glasfasern und Verfahren zu deren Herstellung
DE1909433B2 (de) Verfahren zur Herstellung einer·*1™*11 optischen Glasfaser hoher Uchtdurchlässigkeit, bestehend im wesentlichen aus SUizidioxid und Titanoxid
DE1621002B2 (de) Infrarotdurchlaessiges germanium und selen sowie antimon oder tellur enthaltendes glas und seine verwendung in einem infrarotdetektor
DE2351354B2 (de) Verfahren zur herstellung einer optischen faser aus quarzglas
DE112021003468T5 (de) Umweltfreundliches Glasmaterial
DE102009047511A1 (de) Hochbrechendes und hochtransparentes optisches Glas
DE2804467B2 (de) Optische Faser mit einer zwischen Kern und Mantel angeordneten, durch chemische Dampfreaktion hergestellten Zwischenschicht, die im wesentlichen den gleichen Brechungsindex hat wie der Mantel, sowie Verfahren zur Herstellung einer derartigen Faser
DE2746418C3 (de)
EP0104617A2 (de) Verfahren zur Herstellung einer Vorform zum Ziehen von Glasfaser-Lichtwellenleitern
DE2122896B2 (de) Optischer wellenleiter in form einer glasfaser
DE69900295T2 (de) Verfahren zum Herstellen einer optischen Faser
DE2939339C2 (de)
DE1596864B1 (de) Fluoridfreies optisches flintglas mit relativ niedrigen brechwerten und relativ hoher dispersion und verfahren zu seiner herstellung
DE3204625A1 (de) Brillenglas mit erhoehtem brechungsindex

Legal Events

Date Code Title Description
OI Miscellaneous see part 1
OI Miscellaneous see part 1
AH Division in

Ref country code: DE

Ref document number: 1967211

Format of ref document f/p: P

8239 Disposal/non-payment of the annual fee