DE2140734A1

DE2140734A1 - Behchtungseinrichtung

Info

Publication number: DE2140734A1
Application number: DE19712140734
Authority: DE
Inventors: Shigeru Yokohama Kanagawa Suzuki (Japan) P
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1970-08-13
Filing date: 1971-08-13
Publication date: 1972-02-17
Also published as: DE2140734C3; JPS4923766B1; DE2140734B2; US3697166A

Description

DR. BERG DIPL.-ING. STAPF O 1 / Π 7 ^ A

PATENTANWÄLTE Z I HU /OH

S MÜNCHEN 8O, MAUERKIRCHERSTR. 45

. Dr. Barg Dipl.-Ing. Stopf, 8 München 80, MauerkircherstraBa 45 ·

Ihr Schreiben Unser Zeichan VIl/Kr 21 337 Datum I 3. Al^. 1971

Anwaltsakte ι 21 337

Kabushiki Kaisha Ricoh
Tokyo / Japan

Belichtungseinrichtung

Me Erfindung bezieht sich auf eine Belichtungseinrichtung für Kopiergeräte.

JUβ gibt verschiedene bekannte Arten von nach dem Schlitzsystem arbeitenden Belichtungsainrichtungen für Kopier-

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geräte, von denen einige praktische Anwendung finden. Bei einer dieser Belichtungseinrichtungen werden eine Vorlage und ein Belichtungsmaterial in vorbestimmter gegenseitiger Beziehung gegenüber einem stationären Belichtungsobjektiv bewegt. Bei einer anderen Belichtungseinrichtung bewegt sich ein ein Objektiv und einen Heflektor aufweisendes Belichtungssystem gegenüber einer stationär gehaltenen Vorlage und einem stationären Belichtungsmaterial. Bine weitere Einrichtung verwendet wenigstens zwei Reflektoren, welche zusammen mit dem Belichtungsmaterial bewegt sind, während die Vorlage und das Belichtungsobjektiv stationär gehalten sind. In noch einer anderen Einrichtung bewegen sich ein Belichtungsobjektiv und das Belichtungsmaterial gegenüber der stationär gehaltenen Vorlage.

Alle diese bekannten Belichtungseinrichtungen weisen Män- f gel und Nachteile auf, deren Beseitigung wünschenswert ist. Bei der ersten Belichtungseinrichtung, bei welcher das Belichtungsmaterial mit einem Abbild der Vorlage belichtet wird, während diese sich bewegt, besteht der Nachteil, daß aufgrund der Notwendigkeit, die bei der Belichtung des Belichtungsmaterials fortbewegte Vorlage in die Ausgangsstellung zurückzuführen, beträchtliche Zeitverluste eintreten. Diese Binrichtung- eignet sich auch nicht zum Kopieren von Vorlagen mit großen Abmessungen

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oder hohem Gewicht. Außerdem müssen dabei Einrichtungen zum Bewegen der Vorlage mit genau eingehaltener Geschwindigkeit vorhanden sein.

Die Belichtungseinrichtung der zweiten Art, bei welcher das dem Kopiergerät zugeführte Belichtungsmaterial in der Belichtungsstellung angehalten und die Belichtungseinrichtungen dann diesem gegenüber bewegt werden müssen, weist zahlreiche Nachteile auf. So eignet sie sich nicht für den Schnell-Kopierbetrieb, bei welchem kontinuierlich Kopien hergestellt werden, da ja das Belichtungsmaterial jeweils in der Belichtungsstellung angehalten werden muß. Die Steuerungseinrichtungen für den Transport des Belichtungsmaterials haben wegen der Notwendigkeit, das Belichtungsmaterial wechselnd zu transportieren und anzuhalten, einen komplizierten Aufbau. Eine Verwendung für den Schnell-Kopierbetrieb ist auch deshalb nicht möglich, weil die ein Objektiv und einen Reflektor, mithin eine große Masse aufweisenden Belichtungseinrichtungen zu bewegen sind. Außerdem müssen Abschirmeinrichtungen vorhanden sein, um den unerwünschten Zutritt von Licht zum Belichtungsmaterial zu unterbinden. Der Betrieb mit dieser Belichtungseinrichtung ist zeitraubend, da die Belichtungseinrichtung hin und her bewegt werden muß₀ Enthält die Belichtungseinrichtung außerdem Beleuchtungseinrichtungen zum Ausleuchten der Vorlage, so sind

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komplizierte Stromzufuhreinrichtung für die bewegte Beleuchtungseinrichtung erforderlich.

Die dritte Art der Belichtungseinrichtung, bei welcher das Beliehtungsmaterial und die Reflektoren gegenüber der stationären Vorlage bewegt werden, bietet den Vorteil, daß man damit kontinuierlich und mit großer Geschwindigkeit kopieren kann, da die Belichtung während der Bewegung des Belichtungsmaterials stattfindet. Da bei dieser Belichtungseinrichtung jedoch zwei Reflektoren mit unterschiedlichen, in vorbestimmtem gegenseitigem Verhältnis gesteuerten Geschwindigkeiten zu bewegen sind, müssen die Steuereinrichtungen für die Bewegung der Reflektoren mit äußerster Genauigkeit hergestellt sein und arbeiten, wodurch der Aufbau mehr kompliziert wird. Außerdem muß dabei ein der Vorlage zugeordneter Reflektor über die gesamte Länge der Vorlage bewegt werden, wofür im Kopiergerät ein beträchtlich großer Raum vorgesehen sein muß. Ein gewisser Zeitverlust entsteht hierbei dadurch, daß dieser Reflektor eine der Gesamtlänge der Vorlage entsprechende Hin- und Herbewegung ausführen muß.

Die Belichtungseinrichtung für Kopiergeräte gemäß der Erfindung geht aus von der herkömmlichen dritten Art der Belichtungseinrichtung. Die Belichtung findet unter Bewegung des Belichtungsmaterials und eines Reflektors

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gegenüber einer stationären Vorlage statt. Von der bekannten Einrichtung unterscheidet sich die Belichtungseinrichtung gemäß der Erfindung darin, daß nur ein aus zwei reflektierenden Flächen zusammengesetzter Reflektor nur über eine im wesentlichen der Hälfte der länge der Vorlage entsprechende Entfernung bewegt zu werden braucht, während bei der bekannten Einrichtung wenigstens zwei mit unterschiedlichen, gesteuerten Geschwindigkeiten bewegte Reflektoren Verwendung finden, von denen der eine über eine wenigstens der Länge der Vorlage entsprechende Strecke zu bewegen ist. Dementsprechend bewegt sich der Reflektor in der erfindungsgemäßen Belichtungseinrichtung nur mit der halben Geschwindigkeit des Belichtungsmaterials über eine kürzere Strecke hin und her. In dieser Weise vermeidet die Erfindung die Nachteile bekannter Vorrichtungen dieser Art unter Bewahrung von deren Vorteilen. - ->·-

Weitere Merkmale, Einzelheiten,und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der folgenden Beschreibung eines AusführungabeispielB anhand der Zeichnung. Darin zeigen:

Pig. 1 eine Schrägansicht eines vorteilhaften Ausführungsbeispiels der erfindungsgemäßen Einrichtung,

Figo 2 eine Draufsicht auf die Einrichtung nach Fig. 1,

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Pig_β 3 eine erläuternde Darstellung der Erfindung mit Blickrichtung vom Belichtungsol);jektiv her, mit dem auf den Reflektor projizierten Sehlitzausschnitt des Vorlagenbildes,

Fig. 4 eine schematisierte Teilansicht von Fig. 3 mit durch Striche angedeuteten Schlitz-Bildausschnitt,

Pig. 5 eine schematisierte Schrägansicht der relativen Stellung des Reflektors und einer diesem zugeordneten Beliehtungs-Schlitzanordnung,

Pig. 6 eine Schrägansicht des Reflektors zur Erläuterung der Wirkungsweise des in der erfindungsgemäßen Einrichtung verwendeten Reflektors,

Pig. 7a und 7b schematisierte Ansichten zur Darstellung der zur Verbesserung der Betriebseigenschaften der erfindungsgemäßen Einrichtung durch den Reflektor im Endbereich seiner Bewegungsführung ausgeführten Kippbewegung,

Fig. 8 eine Seitenansicht einer Ausführungeform der Kippbewegungseinrichtung des Reflektors und

Pig. 9 eine Draufsicht auf die Einrichtung nach Pig.

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In der in Fig· 1 gezeigten Anordnung ist eine zu kopierende Vorlage 1 wie bei einem herkömmlichen Kopiergerät mit der zu kopierenden Seite nach unten auf eine im Oberteil des Kopiergerätes angeordnete (nicht dargestellte) Glasscheibe aufgelegte Unterhalb der Glasscheibe ist ein Reflektor oder Spiegel 2 mit einer Neigung von im wesentlichen 45° an einem unbeweglichen !eil des Kopiergeräte befestigt. Die zu kopierende Torlage ist auf ihrer zu kopierenden Seite mittels einer geeigneten Beleuchtungseinrichtung gleichmäßig ausgeleuchtet. Das Abbild der zu kopierenden Vorlage 1 wird in nachstehend beschriebener Weise mittels eines Beliehtungsobjektive 3 auf ein Belichtungsmaterial projiziert.

Das Belichtungsobjektiv 3 ist zwischen der Vorlage 1

an und der Bewegungsbahn des Belichtungsmaterials/einem unbewegten Seil des Kopiergeräts befestigt. Der Abstand zwischen der Vorlage und der Bewegungsbahn des Belichtungsmaterials entspricht wirkungsmäßig der doppelten Brennweite des Objektive 3.

Ein zwei im Winkel von 90° aufeinanderstoßende und miteinander verbundene reflektierende Flächen oder Spiegel A und B aufweisender Reflektor 4 ist derart angeordnet, daß die Berührungslinie 4AB der beiden Spiegel A und B in einer Ebene P verläuft, welche gegenüber der

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Optischen Achse dee Objektivs 3 um 45° geneigt ist. Der Reflektor 4 ist aufwärts und abwärts quer beweglich angeordnet, wobei die Berührungslinie 4AB in der zwischen dem Objektiv 3 und seiner Brennebene verlaufenden Ebene P geführt ist.

Nimmt man an, daß sich quer über das eine Endstück der Vorlage 1 ein schmaler Streifen a-b-e-d erstreckt, so trifft das vom Punkt a ausgehende Licht nach Reflektion durch den Spiegel 2 und Durchgang durch das Objektiv 3 auf dem Spiegel A auf. Durch diesen wird es an einem Punkt a- auf einen Punkt a« auf dem Spiegel B und von dort zu einem Punkt a» reflektiert. Dementsprechend wird das vom Punkt b ausgehende Licht nach Durchgang durch das Objektiv 3 an einem Punkt b.. durch den Spiegel A zu einem Punkt b_g auf dem Spiegel B und schließlich auf einen Punkt "b-z gelenkt. Das von den Punkten c und d ausgehende Licht wird dementsprechend an Punkten c. bzw. d.. auf dem Spiegel B zum Spiegel A reflektiert, und von Punkten e« bzw. dp auf diesem zu den Punkten c* bzw. d~ in der Brennebene.

Bewegt man den Reflektor 4 aus der in Fig. 1 gezeigten Stellung aufwärts in die gestrichelt gezeichnete Stellung 104 eo wird auf den Streifen zwischen den Punkten

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a~— b^-c,-d-, das Abbild eines anderen Randstreifens 3 3 3 5

w-x-y-z- der Vorlage projiziert. Dabei wird das von den Punkten W und χ ausgehende licht zunächst an Punkten W₁ bzw. X₁ auf dem Spiegel B zum Spiegel A reflektiert und an Punkten Wp bzw. x« auf diesem zu den Punkten a~ bzw. b~ in der Brennebene. Dementsprechend wird das von den Punkten y und z.ausgehende Licht an Punkten y- und z^ auf dem Spiegel A zum Spiegel B und an Punkten yg bzw. ζ« zu den Punkten c, bzw. d, in der Brennebene reflektiert,

Man erkennt, daß durch die Bewegung des Reflektors 4 in einer senkrechten Ebene in die gestrichelt gezeichnete Stellung 104 mit der halben Geschwindigkeit des ebenfalls aufwärts an dem Streifen oder Schlitz a-*-b,-c*-d~ entlang bewegten Belichtungsmaterials 5 eine maßstabsgleiche Kopie der Vorlage 1 auf dem Belichtungsmaterial erzeugt bar ist.

Die Tatsache, daß sich der Streifen a* bis d* bei der Bewegung des Reflektors 4 in die Stellung 104 nicht verschiebt, beruht darauf, daß die beiden Spiegel A und B rechtwinklig aufeinanderstoßend miteinander verbunden sind. Die sich aus dieser Anordnung ergebenden Erscheinungen sind anhand von Fig. 6 ersichtlich. Darin verläuft eine Ebene M, in welcher einfallendes Licht Ri auf einen im rechten Winkel mit einem Spiegel D zusammenstoßenden

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Spiegel O auftrifft, parallel zu einer Ebene N, in welcher das Licht Re nach Reflektion am Spiegel D austritt, wobei die Berührungslinien der Ebenen H und N mit den Spiegeln 0 bzw. D parallel zur Berührungslinie der Spiegel verlaufen. Demzufolge tritt in einer den Spiegel C schneidenden Fläche auf dem Spiegel C einfallendes Licht in einer den Spiegel D schneidenden, zu der den Spiegel C schneidenden parallelen Ebene am Spiegel D aus.

Die Art und Weise, wie durch die Punkte a-b-c-d bzw. w-x-y-z begrenzten Streifen durch das Objektiv 3 auf die Spiegel A und B des Reflektors 4 projiziert werden, ist nachstehend anhand Mg. 3 erläutert. In der unteren Endstellung des Reflektors wird ein Abbild a^ bis d₁ des Streifens a bis d derart projiziert, daß es in bezug auf die Berührungslinie 4AB geneigt verläuft, wobei das rechte Bnde des Streifens unterhalb und das linke Ende oberhalb der Berührungslinie 4AB liegt. Ein zweites Abbild a? bi"^{3 d}2 entsteht in der Weise, daß es ebenfalls in bezug auf die Berührungslinie 4AB geneigt verläuft, jedoch mit dem rechten Ende oberhalb und dem linken Ende unterhalb der Berührungslinie 4AB. Diese beiden Bilder überschneiden einander somit.

In der oberen Endstellung des Reflektors 4 wird ein Abbild W₁ bis Z₁ des Streifens w bis ι darart projiziert, daß

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es in bezug auf die Berührungslinie 4AB geneigt verläuft, wobei das rechte Teil oberhalb und das linke Seil unterhalb der Berührungslinie liegt· Ein zweites Abbild w_g bis Z₂ verläuft in bezug auf die Berührungslinie derart geneigt, daß sich sein rechter !Beil unterhalb und sein linker Teil oberhalb der Berührungslinie 4AB befindet.

In der Mitte zwischen der unteren und der oberen Endstellung des Reflektors 4, in der die Berührungslinie 4AB die optische Achse des Objektivs 3 schneidet, entsteht im Bereich der Berührungslinie 4AB eine gegenseitige Überlagerung eines ersten und eines zweiten Abbildes eines zwischen den Streifen a bis d und w bis ζ gelegenen streifenförmigen Ausschnittes der Vorlage 1.

Wie man aus der vorstehenden Beschreibung ersieht, nimmt der zwischen dem ersten und dem zweiten Abbild gebildete Winkel bei Annäherung des Reflektors an die optische Achse des Objektivs laufend ab und wird gleich Null, wenn sich der Reflektor in einer Stellung befindet, in der die Berührungslinie der Spiegel A und B die optische Achse schneidet. Wie bereits vorstehend ausgeführt wird ein durch kurze Striche angedeutetes drittes Abbild a, bis d-z unabhängig von der vorstehend beschriebenen Bewegung des Reflektors 4 an einer Stelle erzeugt.

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In Figo 4 sind die Stellungen der ersten und zweiten Abbilder zueinander auf dem Reflektor dargestellt, wobei der Streifen w bis ζ zum besseren Verständnis stricM¹ örmig angenommen sei. Das erste Abbild ist dabei ausgezogen und das zweite gestrichelt gezeichnet.

Die Form und Abmessungen des durch die Punkte a? bis d^ begrenzten rechteckigen Streifens in Fig. 3 sind in der Praxis durch die in Fig. 5 gezeigten Schlitzabschirmungen 7 und 8 bestimmt. Anderenfalls findet dafür eine Schlitzblendenanordnung Verwendung, bei der in einem Blech ein Schlitz gebildet ist dessen Breite und Länge durch das verwendete Belichtungsmaterial bestimmt ist so daß das durch den Reflektor 4 reflektierte, zur Belichtung dienende Licht lediglich auf das Belichtungsmateria'l fallen kann. Das Ausmaß der Belichtung des Belichtungsmaterials 5 läßt sieh durch Verstellen des Abstandes zwischen den Kanten 7a und 8a der Abschirmungen 7 und 8 oder durch regulieren der Bewegungsgeschwindigkeit des Belichtungsmaterials verändern.

Für den kontinuierlichen Transport des beispielsweise blattförmigen Belichtungsmaterials 5 nach aufwärts und mit konstanter Geschwindigkeit sind oberhalb und unterhalb des Schlitzes Transportwalzenpaare 9 bzw. 10 vorgesehen. Zur Führung dee Reflektors 4 in der gleichen

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Bewegungsrichtung und mit der halben Bewegungsgsschwindigkeit des Beliehtungsmaterials 5 sind senkrecht angeordnete führungsstäbe 11 und 12 vorgesehen,

Bei der erf indungsgemäßen Belichtungseinrichtung· v/ird dar Reflektor 4 in den jßndbereiehen seiner hin und hergehenden Bewegung bsw, im Bereich seiner oberen und unteren Endstellungen um die Berührungslinie zwischen den Spiegeln einwärts gekippt. Dadurch vergrößert sich die zum Kopieren verfügbare Länge des Belichtungsmaterials, Dieses Merkmal der Erfindung ist nachstehend anhand von Fig. 7 erläutert»

Figo Ta zeigt schematisch den Bewagungsbereich des !Reflektors 4 innerhalb dessen sich seine Berührungslinie entlang einer in bezug auf die optische Achse des Belichtungs-Objektivs TAm 45° geneigten Ebene in Querrichtung bewegt. ohne daß sich sein® Ausrichtung dabei ändert« Der dem Seflektor 4 verfügbare Bewagungsbereich betragt das doppelte des Abstandos d zwischen einer Mittellinie ο das Schlitzes 15 und der Berührungslinie 4AB₀ Bewegt sich der Rsflektor um sinen größeren Betrag als den Abetand d von dar Mittellinie ο weg, so nähert sich dar Einfall©= winkel des Lichtes auf dam Spiegel A dem Wert von 90°_s so daß sieh auch d©r Äustrittsiiinli:®! dta vom Spiegel B

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zum unteren Ende der Mittellinie 15a des Schlitzes 15 reflektierten 11 elites 14 dem Wert von 90° nähert. In diesem Zustand vermag das vom·Spiegel B reflektierte und an der unteren Ecke 15b des Schlitzes auftreffende Licht keine Belichtung zu bewirken, da die Ecke 15b und der Spiegel B sich gegenseitig berühren.

W lig. 7b zeigt die Kippbewegung des Reflektors 4 in Richtung des Pfeiles a um die Berührungslinie der Spiegel, währenddem sich der Reflektor 4 um eine Strecke D bswegt, welche größer ist als der Abstand d. Wird der Reflektor dabei im Endbereich seiner Bewegung in vorstehend beschriebener Weise verdreht bzw. gekippt, so bleibt der Einfallswinkel des Lichts 113 auf dem Spiegel A kleiner wie der der Lichtstrahlung 13 in Fig. 7a, obgleich sich der Reflektor 4 über eine Strecke D bewegt, welche größer 1st als die in ]?ig. 7a zurückgelegte Stracke d.

Das in der unteren Ecke 15b des Schlitzes 15 auftreffende Licht 16 vermag daher eine Belichtung zu bewirken,

Is ist einleuchtend ₉ daß man bo durch Vergrößerung des Bewegungsbereiohs des Reflektora 4 die Itomsssimgen der Kopien vergrößern kann. So ^.äßt sich dia Länge 1 der mit der Anordnung nach Fig. 7a eraialbareii Kopian durch die Kippbewegung des Reflektors 4 in der Anordnung nach

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Figo 7b auf die Länge L steigern.

In Fig. 8 und 9 ist ein Ausführungsbeispiel einer Einrichtung zum Einwärts-Kippen des Reflektors 4 in den Endbereichen seiner Bewegung gezeigt. Eine starr mit dem Reflektor 4 verbundene Halterung 17 hat an ihren beiden Enden hervorstehende Zapfen 17a und 17b, mittels welcher sie schwenkbar in an einem Führungsschlitten 18 hervorstehenden Lagern 18a bzw. 18b gelagert ist. Dabei ist es von wesentlicher Bedeutung, daß die Zapfen 17a und 17b der Halterung 17 mit ihrer Achse genau in Verlängerung der Berührungslinie 4AB des Reflektors 4 verlaufen.

Der Führungsschlitten 18 weist an seinem beiden Enden hervorstehende Führungsaugen 18c und 18d auf, mit denen er lose auf Führungsstaben 19 bzw. 20 geführt und gleitend auf und ab beweglich ist. Zwischen den Führungsaugen 18c und 18d ist am Führungsschlitten 18 eine Halterung 18e befestigt. Daran ist ein Zugseil 21 angeschlossen, welches durch mit den Einrichtungen für den Transport des Belichtungsmaterials gekoppelte Einrichtungen für die Bewegung des Reflektors aufwärts und abwärts gezogen wird, um damit den Reflektor aufwärts und abwärts zu bewegen.

Ein an seinem freien Ende eine Rolle tragender Schwank-

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hebel 23 ist mit seinem Fußteil am Zapfen 17b der Reflektorhalterung 17 befestigt. Die Rolle 22 befindet sich unter Belastung in Anlage an der kante 24a einer in bezug auf den Führungsstab 20 geneigt angeordneten Führung 24. Die Belastung, mit der die Rolle 22 an der Kante 24a in Anlage gehalten ist, ergibt sich aus dem Gewicht des Reflektors 4 und der Halterung 17. Das Gewicht des Reflektors 4 und der Halterung 17 vermag jedoch keine Schwenkung um die Zapfen,17a und 17b zu bewirken, wenn die Schlitzbelichtung in einem System mit waagerecht bewegtem Reflektor erfolgt. In einem solchen Falle müssen dann offensichtlich Einrichtungen, beispielsweise eine am Hebel 23 angreifende Federanordnung, vorhanden sein, welche die Rolle in Anlage an der Kante 24a belasten.

Bewegt sich der Reflektor aus der in Fig. 8 gezeigten Stellung aufwärts, so schwenkt der Hebel 23 mit der Rolle 22 im Uhrzeigersinn um den Zapfen 17b, während die Rolle 22 an der Kante 24a entlangläuft, so daß der Reflektor auswärts gekippt wird. Bewegt sich der Reflektor demgegenüber abwärts, so läuft die Rolle 22 auf der Kante 24a auf, wodurch der Reflektor 4 einwärts kippt.

Die Erfindung ist hinsichtlich der Anordnung für die Auflage der zu kopierenden Vorlage, der Anzahl von festen Spiegeln 2 zum Umlenken des Abbildes der Vorlage, der

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Anordnung des Schlitzes und der Ausbildung der Einrichtungen zum Kippen des beweglichen Reflektors nicht auf das vorstehend erläuterte Beispiel beschränkt. Die erfindungsgemäße Belichtungseinrichtung kann ferner nicht nur in Verbindung mit blattförmigem Belichtungsmaterial, sondern auch in Verbindung mit einer in der Xerografie allgemein bekannten selenbeschichteten i'rommel Anwendung finden.

Somit schafft die Erfindung eine Belichtungseinrichtung für Kopiergeräte, bei der ein Belichtungsmaterial und ein Reflektor während der Belichtung des Belichtungsmaterials mit einem Abbild einer Vorlage in einem Schlitzsystem zur Erzeugung einer Kopie der Vorlage bewegt werden, während ein Belichtungsobjektiv und die Vorlage stationär gehalten sind* Der Reflektor ist dabei zwischen dem Belichtungsobjektiv und dem Beliohtungsmaterial an·= geordnet und bewegt sich mit der halben Geschwindigkeit des Belichtungsmaterials in der gleichen Richtung wie dieseso

Patentansprüche % -18-

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Claims

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Patentansprüche :

Belichtungseinrichtung für Kopiergeräte, dadurch gekennzeichnet, daß ein zwei im Winkel von 90° zueinander angeordnete und mit einander verbundene reflektierende Flächen (A,B) aufweisender Reflektor (4), welcher derart zwischen einem Belichtungsobjektiv (3) und dessen Brenn-. ebene angeordnet ist, daß die Berührungslinie (4AB) seiner Spiegel in einer gegenüber der optischen Achse um im wesentlichen 45° geneigten Ebene verläuft, unter führung der Berührungslinie (4AB) in dieser Ebene in Querrichtung auf und ab beweglich geführt ist, und daß ein Belichtungsmaterial 5 zur Belichtung in einem Schlitzsystem mit der doppelten Bewegungsgeschwindigkeit des Reflektors in der gleichen Bewegungsrichtung wie dieser transportierbar ist.

" 2. Belichtungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Reflektor (4) im Endbereich seiner Bewegung in einer einwärts gerichteten Kippbewegung führbar ist, wobei die Berührungslinie (4AB) seiner reflektierenden Flächen (A,B) die Drehachse bildet.

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L e e γ s e i t e