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Die Priorität einer chinesischen Patentanmeldung mit der Anmeldenummer 202122197858.X und der Erfindungsbezeichnung Filmbildungsvorrichtung zur In-situ-Entspannungsverdampfung einer Perowskit-Solarzelle wurde am 10. September 2021 beim chinesischen Patentamt eingereicht, und ihr gesamter Inhalt wurde durch Bezugnahme in die vorliegende Anmeldung aufgenommen.
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TECHNISCHES GEBIET
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Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf das technische Gebiet der Filmbildung von Perowskit-Solarzellen, insbesondere auf eine Filmbildungsvorrichtung zur In-situ-Entspannungsverdampfung einer Perowskit-Solarzelle.
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STAND DER TECHNIK
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Perowskit-Solarzellen erhalten aufgrund ihrer hohen Umwandlungseffizienz, niedrigen Kosten und Umweltfreundlichkeit immer mehr Aufmerksamkeit. Darüber hinaus hat sich die photoelektrische Umwandlungseffizienz von Perowskit-Solarenergie in nur wenigen Jahren um ein Mehrfaches verbessert, was eine ausgezeichnete photoelektrische Leistung zeigt. Das Verfahren zur Herstellung einer Filmschicht einer Perowskit-Solarzelle ist wie folgt: Ein transparenter leitfähiger Film wird auf dem Substrat für eine Elektrodenschicht auf der Lichtempfangsseite hergestellt; Dann wird eine Trägerübertragungsschicht auf dem transparenten leitfähigen Film hergestellt, und eine Perowskitschicht wird als eine Lichtabsorptionsschicht über der Trägerübertragungsschicht hergestellt; Dann wird eine Trägerübertragungsschicht auf der anderen Seite auf der Lichtabsorptionsschicht hergestellt; Schließlich wird eine Metallschicht als ein transparenter leitfähiger Film auf der anderen Seite hergestellt.
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Im Stand der Technik wird üblicherweise ein Kratzbeschichtungsverfahren verwendet, um eine Filmschicht herzustellen. Nachdem die Kratzbeschichtung abgeschlossen ist, muss die Formfilmschicht in den Vakuumhohlraum übertragen werden, um das Lösungsmittel zu entfernen, was ein Entspannungsverdampfungsprozess ist. Im Stand der Technik sind die Ausrüstung zum Kratzbeschichten der Filmschicht und die Ausrüstung zur Entspannungsverdampfung zwei unabhängige Ausrüstungen. Nachdem die Filmschicht durch Kratzbeschichtung in der Ausrüstung zur Kratzbeschichtung geformt wurde, muss die geformte Filmschicht zur Entspannungsverdampfung zu der Ausrüstung zur Entspannungsverdampfung übertragen werden. Bei der Übertragung der Filmschicht von der Ausrüstung zur Kratzbeschichtung auf die Ausrüstung zur Entspannungsverdampfung verflüchtigt sich jedoch ein Teil des Lösungsmittels in der Filmschicht, und die Verflüchtigung des Lösungsmittels im natürlichen Zustand beeinflusst die Qualität des fertigen Produkts.
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Daher ist es ein Schlüsselproblem, das der Fachmann dringend lösen muss, wie die Umschlagszeit der Filmschicht verkürzt werden kann, wodurch vermieden wird, dass sich das Lösungsmittel im natürlichen Zustand verflüchtigt, um die Qualität des fertigen Produkts sicherzustellen.
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INHALT DER VORLIEGENDEN ERFINDUNG
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Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, die Umschlagszeit der Filmschicht zu verkürzen, wodurch vermieden wird, dass sich das Lösungsmittel im natürlichen Zustand verflüchtigt, um die Qualität des fertigen Produkts sicherzustellen. Um die obige Aufgabe zu lösen, stellt die vorliegende Erfindung die folgenden technischen Lösungen bereit:
- Filmbildungsvorrichtung zur In-situ-Entspannungsverdampfung einer Perowskit-Solarzelle, umfassend die folgenden Komponenten:
- eine Plattform,
- ein Substrat, das auf der Plattform zum Formen einer Filmschicht angeordnet ist,
- eine Hohlraumabdeckung, die auf der Plattform auf- und abbewegbar angeordnet sein kann, dass die Hohlraumabdeckung das Substrat in einem von der Hohlraumabdeckung und der Plattform umschlossenen geschlossenen Hohlraum schnappen kann, dass die Hohlraumabdeckung mit einer Vakuumleitung versehen ist, dass die Vakuumleitung imstande ist, mit dem geschlossenen Hohlraum und der Vakuumpumpe zu verbinden.
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Vorzugsweise ist vorgesehen, dass die Vakuumleitung mit einem Magnetventil versehen ist, dass das Magnetventil zum Öffnen oder Schließen der Vakuumleitung verwendet wird, dass die Vakuumpumpe in einem konstanten offenen Zustand ist.
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Vorzugsweise ist vorgesehen, dass eine Mehrzahl von Vakuumleitungen vorhanden ist, dass die Mehrzahl von Vakuumleitungen gleichmäßig relativ zu dem Substrat angeordnet ist.
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Vorzugsweise ist vorgesehen, dass eine Mehrzahl von Vakuumleitungen vorhanden ist, dass zwei oder mehr Vakuumleitungen über eine Verbindungsleitung mit der Vakuumpumpe verbunden sind, dass die Verbindungsleitung mit einem Magnetventil versehen ist, dass die Vakuumpumpe in einem konstanten offenen Zustand ist.
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Vorzugsweise ist vorgesehen, dass die Plattform mit einem um das Substrat angeordneten Dichtungsring versehen ist, dass die Hohlraumabdeckung mit einer Dichtungsringnut versehen ist, die imstande ist, mit dem Dichtungsring anzupassen.
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Vorzugsweise ist vorgesehen, dass die Plattform mit Adsorptionslöchern versehen ist, dass die Adsorptionslöcher mit der Unterdruckpumpe verbunden sind, dass die Adsorptionslöcher zum Adsorbieren des Substrats verwendet werden.
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Vorzugsweise ist vorgesehen, dass die Filmbildungsvorrichtung auch einen Beschichtungskopf umfasst, dass zwei Seiten des Beschichtungskopfes jeweils mit einer Antriebsstange verbunden sind, dass die Antriebsstange mit einem Schieber verbunden ist, der in der Gleitschiene anpasst und sich entlang einer Kratzbeschichtungsrichtung des Beschichtungskopfes erstreckt, dass die Antriebsstange von einer Linearantriebsvorrichtung angetrieben wird.
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Vorzugsweise ist vorgesehen, dass die Linearantriebsvorrichtung ein Linearmotor ist, dass jede der Antriebsstangen von einem der Linearmotoren angetrieben wird.
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Vorzugsweise ist vorgesehen, dass die Hohlraumabdeckung von einem Zylinder angetrieben wird.
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Vorzugsweise ist vorgesehen, dass eine Befestigungsplatte über der Hohlraumabdeckung angeordnet ist, dass die Befestigungsplatte mit einem Führungsloch versehen ist, dass die obere Oberfläche der Hohlraumabdeckung mit einer Führungssäule versehen ist, dass die Führungssäule in dem Führungsloch anpasst.
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Aus den obigen technischen Lösungen ist ersichtlich, dass sich die Hohlraumabdeckung im Anfangszustand über der Plattform befindet und das Substrat freigelegt ist, so dass die Filmschicht auf dem Substrat kratzbeschichtet werden kann. Nachdem die Kratzbeschichtung abgeschlossen ist, bewegt sich die Hohlraumabdeckung ab und schnappt die Hohlraumabdeckung das Substrat in dem geschlossenen Hohlraum. Die Vakuumpumpe und die Vakuumleitung werden geöffnet, um den geschlossenen Hohlraum zu evakuieren und die Entspannungsverdampfung durchzuführen, um das Lösungsmittel zu entfernen. Nach dem Formen der Filmschicht kann die Hohlraumabdeckung direkt heruntergelassen werden, um eine In-situ-Entspannungsverdampfung der Formfilmschicht durchzuführen, was die Umschlagszeit der Filmschicht von der Ausrüstung zur Filmbildung zu der Ausrüstung zur Entspannungsverdampfung einspart, wodurch vermieden wird, dass sich das Lösungsmittel im natürlichen Zustand verflüchtigt und die Qualität des fertigen Produkts sichergestellt wird.
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Figurenliste
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Um die Lösungen in den Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung klarer zu veranschaulichen, werden die Zeichnungen, die in den Ausführungsbeispielen beschrieben werden müssen, nachstehend kurz beschrieben. Offensichtlich sind die Zeichnungen in der folgenden Beschreibung nur einige Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung. Ohne kreative Arbeit kann der Fachmann auch andere Zeichnungen auf der Grundlage dieser Zeichnungen erhalten.
- 1 ist ein Zustandsdiagramm einer Filmbildungsvorrichtung zur In-situ-Entspannungsverdampfung einer Perowskit-Solarzelle gemäß einem spezifischen Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung, die sich zu einem bestimmten Zeitpunkt in einem Entspannungsbetrieb befindet;
- 2 ist ein Zustandsdiagramm einer Filmbildungsvorrichtung zur In-situ-Entspannungsverdampfung einer Perowskit-Solarzelle gemäß einem spezifischen Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung, die sich zu einem bestimmten Zeitpunkt in einem Kratzbeschichtungsbetrieb befindet;
- 3 ist eine Draufsicht einer Antriebsstange und einer Gleitschiene gemäß einem spezifischen Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung;
- 4 ist eine Hauptansicht einer Hohlraumabdeckung, einer Befestigungsplatte und einer Führungssäule gemäß einem spezifischen Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung.
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Bezugszeichenliste
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- 1
- Plattform,
- 2
- Substrat,
- 3
- Hohlraumabdeckung,
- 4
- Vakuumleitung,
- 5
- Magnetventil,
- 6
- Beschichtungskopf,
- 7
- Zylinder,
- 8
- Dichtungsring,
- 9
- Gleitschiene,
- 10
- Antriebsstange,
- 11
- Befestigungsplatte,
- 12
- Führungssäule.
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AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG
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Die vorliegende Erfindung offenbart eine Filmbildungsvorrichtung zur In-situ-Entspannungsverdampfung einer Perowskit-Solarzelle. Die Vorrichtung kann die Filmschicht sofort entspannungsverdampfen, ohne die Position der Filmschicht zu ändern, wodurch vermieden wird, dass sich das Lösungsmittel im natürlichen Zustand verflüchtigt, um die Qualität des fertigen Produkts sicherzustellen.
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Die technischen Lösungen in den Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung werden nachstehend in Kombination mit den Zeichnungen in den Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung klar und vollständig beschrieben. Offensichtlich sind die beschriebenen Ausführungsbeispiele nur einige Ausführungsbeispiele und nicht alle Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung. Auf der Grundlage von Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung fallen alle anderen Ausführungsbeispiele, die ein gewöhnlicher Fachmann ohne kreative Arbeit erhalten hat, in den Schutzbereich der vorliegenden Erfindung.
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In der Beschreibung der vorliegenden Erfindung basiert die Azimut- oder Positionsbeziehung, die durch die Begriffe oben, unten oder dergleichen angezeigt wird, auf der Azimut- oder Positionsbeziehung, die in der Zeichnung gezeigt ist. Nur um die Beschreibung der vorliegenden Erfindung zu erleichtern, anstatt zu verlangen, dass die vorliegende Erfindung in einer bestimmten Richtung konstruiert und betrieben werden muss, kann sie nicht als Einschränkung der vorliegenden Erfindung verstanden werden.
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Die vorliegende Erfindung offenbart eine Filmbildungsvorrichtung zur In-situ-Entspannungsverdampfung einer Perowskit-Solarzelle, umfassend eine Plattform 1, ein Substrat 2 und eine Hohlraumabdeckung 3, dass das Substrat 2 auf der Plattform 1 zum Formen einer Filmschicht angeordnet ist, dass die Hohlraumabdeckung 3 auf der Plattform 1 auf- und abbewegbar angeordnet sein kann, dass die Hohlraumabdeckung 3 an der Plattform 1 schnappt und von der Plattform 1 umschlossen ist, um einen geschlossenen Hohlraum zu bilden, dass sich das Substrat 2 in dem geschlossenen Hohlraum befindet, dass die Hohlraumabdeckung 3 das Substrat 2 in einem von der Hohlraumabdeckung 3 und der Plattform 1 umschlossenen geschlossenen Hohlraum schnappen kann, wie in 1 gezeigt, dass die Hohlraumabdeckung 3 mit einer Vakuumleitung 4 versehen ist, dass die Vakuumleitung 4 imstande ist, mit dem geschlossenen Hohlraum und der Vakuumpumpe zu verbinden.
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Unter Bezugnahme auf 2 befindet sich die Hohlraumabdeckung 3 im Anfangszustand über der Plattform 1 und das Substrat 2 ist freigelegt, so dass die Filmschicht auf dem Substrat 2 kratzbeschichtet werden kann. Nachdem die Kratzbeschichtung abgeschlossen ist, bewegt sich die Hohlraumabdeckung 3 ab und schnappt die Hohlraumabdeckung das Substrat 2 in dem geschlossenen Hohlraum. Die Vakuumpumpe und die Vakuumleitung 4 werden geöffnet, um den geschlossenen Hohlraum zu evakuieren und die Entspannungsverdampfung durchzuführen, um das Lösungsmittel zu entfernen. Nach dem Formen der Filmschicht kann die Hohlraumabdeckung 3 direkt heruntergelassen werden, um eine In-situ-Entspannungsverdampfung der Formfilmschicht durchzuführen, was die Umschlagszeit der Filmschicht von der Ausrüstung zur Filmbildung zu der Ausrüstung zur Entspannungsverdampfung einspart, wodurch vermieden wird, dass sich das Lösungsmittel im natürlichen Zustand verflüchtigt und die Qualität des fertigen Produkts sichergestellt wird.
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Nachdem die Filmschicht auf dem Substrat 2 gebildet wurde, um zu vermeiden, dass die Vakuumpumpe die Zeit zum Anlaufen braucht, und um somit weiter zu vermeiden, dass die Filmschicht das Lösungsmittel im natürlichen Zustand verflüchtigt, wird in der vorliegenden Erfindung die folgende Konstruktion vorgenommen, dass die Vakuumleitung 4 mit einem Magnetventil 5 versehen ist, dass das Magnetventil 5 zum Öffnen oder Schließen der Vakuumleitung 4 verwendet wird, dass die Vakuumpumpe in einem konstanten offenen Zustand ist. Sobald die Filmschicht auf dem Substrat 2 gebildet ist, wird sofort die Hohlraumabdeckung 3 abgesenkt und danach das Magnetventil 5 geöffnet. Da die Vakuumpumpe in einem konstanten offenen Zustand ist, kann der geschlossene Hohlraum sofort nach dem Öffnen des Magnetventils 5 evakuiert werden.
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Um eine gleichmäßige Pumpgeschwindigkeit auf der Oberfläche des Substrats 2 sicherzustellen, ist in der vorliegenden Erfindung eine Mehrzahl von Vakuumleitungen 4 vorgesehen, dass die Mehrzahl von Vakuumleitungen 4 gleichmäßig relativ zu dem Substrat 2 verteilt ist.
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Die Vakuumleitung 4 und die Vakuumpumpe können auch wie folgt verbunden werden: Zwei oder mehr Vakuumleitungen 4 sind über eine Verbindungsleitung mit der Vakuumpumpe verbunden, oder alle Vakuumleitungen 4 können über eine Verbindungsleitung mit der Vakuumpumpe verbunden werden. Die Verbindungsleitung ist mit einem Magnetventil 5 versehen, so dass die Vakuumpumpe in einem konstanten offenen Zustand ist. Wenn eine Evakuierung erforderlich ist, kann der geschlossene Hohlraum sofort durch Öffnen des Magnetventils 5 evakuiert werden. Die Menge an Magnetventil 5 kann durch das Verbindungsverfahren in dem vorliegenden Ausführungsbeispiel reduziert werden.
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Um die Dichtheit des von der Hohlraumabdeckung 3 und der Plattform 1 umschlossenen geschlossenen Hohlraums sicherzustellen, wird in der vorliegenden Erfindung die folgende Konstruktion vorgenommen, dass die Plattform 1 mit einem um das Substrat 2 angeordneten Dichtungsring 8 versehen ist, dass die Hohlraumabdeckung 3 mit einer Dichtungsringnut versehen ist, die imstande ist, mit dem Dichtungsring 8 anzupassen, wodurch der Dichtungsring 8 auf der Plattform 1 genau in die Dichtungsringnut gedrückt wird, nachdem die Hohlraumabdeckung 3 auf der Plattform 1 gelandet ist.
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Um die Stabilität und die Genauigkeit der Auf- und Abbewegung der Hohlraumabdeckung 3 sicherzustellen, sind in der vorliegenden Erfindung auch eine Führungssäule 12 und eine Befestigungsplatte 11 vorgesehen, wie in 4 gezeigt. Die Befestigungsplatte 11 ist über der Hohlraumabdeckung 3 angeordnet. Insbesondere kann die Befestigungsplatte 11 an dem umgebenden Rahmen befestigt werden. Zusätzlich kann die Befestigungsplatte 11 auch an dem Stützrahmen befestigt werden, der auf dem Boden angeordnet ist. Die Befestigungsplatte 11 ist mit einem Führungsloch versehen. Die obere Oberfläche der Hohlraumabdeckung 3 ist mit einer Führungssäule 12 versehen ist. Die Führungssäule 12 ist fest mit der Hohlraumabdeckung 3 verbunden. Die Führungssäule 12 ist durch das Führungsloch geführt. Während der Bewegung der Hohlraumabdeckung 3 kann sich die Hohlraumabdeckung 3 stabil auf und ab bewegen und kann aufgrund des Anpassens der Führungssäule 12 und des Führungslochs genau auf der Plattform 1 schnappen. Der Dichtungsring 8 kann genau in die Dichtungsringnut eindringen. Der umschlossene geschlossene Hohlraum ist auch ein voreingestellter geschlossener Hohlraum, wodurch das Substrat 2 genau geschnappt werden kann.
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Basierend auf der Berücksichtigung einer gleichmäßigen Führung stellt die vorliegende Erfindung die Führungssäule 12 auf zwei ein, dass die zwei Führungssäulen 12 an beiden Enden der Hohlraumabdeckung 3 verteilt sind.
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Es ist anzumerken, dass ein Beschichtungskopf 6 zum Kratzbeschichten der Filmschicht unter der Hohlraumabdeckung 3 angeordnet ist. Daher sind die Führungssäule 12 und die Befestigungsplatte 11 über der Hohlraumabdeckung 3 angeordnet, wodurch eine Interferenz mit dem Beschichtungskopf 6 vermieden wird.
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Es ist auch anzumerken, dass die Auf- und Abbewegung der Hohlraumabdeckung 3 durch den Zylinder 7 angetrieben werden kann. Der Zylinder 7 ist einfach zu steuern und hat eine hohe Arbeitsgenauigkeit.
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Aus der obigen Beschreibung ist ersichtlich, dass das Substrat 2 auf der Plattform 1 angeordnet ist, so dass sichergestellt werden muss, dass das Substrat 2 während des Kratzbeschichtens der Filmschicht befestigt ist. Zu diesem Zweck ist ein Adsorptionsloch auf der Plattform 1 in der vorliegenden Erfindung angeordnet. Es gibt eine Mehrzahl von Adsorptionslöchern, dass die Mehrzahl von Adsorptionslöchern gleichmäßig relativ zu dem Substrat 2 verteilt ist. Alle Adsorptionslöcher sind mit der Unterdruckpumpe verbunden. Während des Kratzbeschichtens der Filmschicht wird die Unterdruckpumpe gestartet, um einen Unterdruck in dem Adsorptionsloch zu erzeugen, wodurch das Substrat 2 fest adsorbiert wird.
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Auf diesem Gebiet wird üblicherweise der Beschichtungskopf 6 verwendet, um die Filmschicht auf dem Substrat 2 zu kratzbeschichten. Der Beschichtungskopf 6 muss von einer Seite des Substrats 2 zur anderen bewegt werden. In der vorliegenden Erfindung ist der Antriebsmodus des Beschichtungskopfes 6 wie folgt, siehe 3: Zwei Seiten des Beschichtungskopfes 6 sind jeweils mit einer Antriebsstange 10 verbunden. Die Antriebsstange 10 ist mit einem Schieber verbunden, der in der Gleitschiene 9 anpasst. Aufgrund der beiden Antriebsstangen 10 gibt es dann entsprechend zwei Schieber und zwei Gleitschienen 9. Die Gleitschiene 9 erstreckt sich entlang der Bewegungsrichtung des Beschichtungskopfes 6. Die Antriebsstange 10 ist in einer Richtung senkrecht zu der Gleitschiene 9 angeordnet. Die Antriebsstange 10 wird von einer Linearantriebsvorrichtung angetrieben. Die Linearantriebsvorrichtung dient zum Ausgeben einer geraden Linie, wodurch die Antriebsstange 10 entlang der Gleitschiene 9 bewegt wird. In der vorliegenden Erfindung ist die Linearantriebsvorrichtung vorzugsweise ein Linearmotor. Darüber hinaus gibt es zwei Linearmotoren, von denen jeder eine Antriebsstange 10 antreibt.
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Aus der obigen Beschreibung ist ersichtlich, dass der Beschichtungskopf 6 vor dem Kratzbeschichten auf einer Seite der Plattform 1 ist. Mit dem Kratzbeschichten bewegt sich der Beschichtungskopf 6 auf die andere Seite der Plattform 1. Während der Bewegung des Beschichtungskopfes 6 ist die Hohlraumabdeckung 3 über dem Substrat 2. Die Antriebsstange 10 und der Beschichtungskopf 6 passieren gerade den Spalt zwischen der Hohlraumabdeckung 3 und dem Substrat 2. Nachdem die Kratzbeschichtung abgeschlossen ist, stoppt der Beschichtungskopf 6 außerhalb des Projektionsbereichs der Hohlraumabdeckung 3. Somit interferiert die Hohlraumabdeckung 3 während der Landung nicht mit dem Beschichtungskopf 6 oder der Antriebsstange 10.
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Die Einstellung der Antriebsstange 10 in der vorliegenden Erfindung ermöglicht nicht nur, dass der Beschichtungskopf 6 eine lineare Kratzbeschichtung realisiert, sondern stellt auch sicher, dass die Antriebsstange 10 nicht mit der Hohlraumabdeckung 3 interferiert. Um sicherzustellen, dass der Kratzbeschichtungsvorgang und der Evakuierungsvorgang nicht miteinander interferieren, werden somit der Kratzbeschichtungsvorgang und der Evakuierungsvorgang nacheinander abgeschlossen, ohne dass sich die Position des Substrats 2 ändert.
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Schließlich muss angemerkt werden, dass die Begriffe umfassen, enthalten oder eine andere Variante davon nicht ausschließliche Inklusionen abdecken sollen. Dadurch umfassen Prozesse, Methoden, Gegenstände oder Geräte, die eine Reihe von Elementen enthalten, nicht nur diese Elemente, sondern auch andere Elemente, die nicht explizit aufgeführt sind, oder auch Elemente, die solchen Prozessen, Methoden, Gegenständen oder Geräten inhärent sind. Ohne weitere Einschränkung schließen Elemente, die durch die Anweisung umfassend ein... definiert sind, das Vorhandensein anderer identischer Elemente in Prozessen, Methoden, Gegenständen oder Geräten, die Elemente enthalten, nicht aus.
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Verschiedene Ausführungsbeispiele in dieser Beschreibung werden auf progressive Weise beschrieben. Jedes Ausführungsbeispiel konzentriert sich auf den Unterschied zu anderen Ausführungsbeispielen. Die gleichen ähnlichen Teile zwischen den verschiedenen Ausführungsbeispielen können sich aufeinander beziehen.
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Die obige Beschreibung der offenbarten Ausführungsbeispiele ermöglicht es dem Fachmann, die vorliegende Erfindung zu implementieren oder zu verwenden. Mehrere Änderungen an diesen Ausführungsbeispielen werden für den Fachmann offensichtlich sein. Die hierin definierten allgemeinen Prinzipien können in anderen Ausführungsbeispielen implementiert werden, ohne vom Geist oder Umfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Daher beschränkt sich die vorliegende Erfindung nicht auf diese hierin gezeigten Ausführungsbeispiele, sondern entspricht dem breitesten Bereich, der mit den hierin offenbarten Prinzipien und neuartigen Merkmalen übereinstimmt.
