DE3008325C2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- DE3008325C2 DE3008325C2 DE19803008325 DE3008325A DE3008325C2 DE 3008325 C2 DE3008325 C2 DE 3008325C2 DE 19803008325 DE19803008325 DE 19803008325 DE 3008325 A DE3008325 A DE 3008325A DE 3008325 C2 DE3008325 C2 DE 3008325C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- mask
- frame
- bands
- frames
- arrangement according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Maskenanordnung nach dem
Oberbegriff des Anspruchs 1.
Bei der Herstellung von Mehrfachschichtsystemen auf Substraten
ist es gelegentlich erforderlich, die einzelnen Schichten unter
Freihaltung definierter Zonen auf dem Substrat zu unterteilen,
beispielsweise nach einem Rastermaß. Für weitere Schichten des
gleichen Systems ist es beispielsweise dann erforderlich, das
Rastermaß beizubehalten, aber die Breite der freizuhaltenden
Zone oder Zonen gezielt zu verändern. Eine solche Maßnahme ist
insbesondere bei elektrisch wirksamen Mehrfachschichtsystemen
erforderlich, um beispielsweise bestimmte Kontaktierungen, An
schlüsse etc. der einzelnen Schichten untereinander zu er
reichen. Ein besonders interessantes Anwendungsgebiet der
artiger Maskenanordnungen ist die Herstellung von Solarzellen
auf großflächigen Substraten. Die einzelnen Solarzellen bilden
dabei ein etwa quadratisches Flächenraster, wobei innerhalb
jeder Solarzelle ein bestimmter Schichtaufbau eingehalten
werden muß. Beispielsweise wird zunächst eine metallische
Dreifachschicht in der Reihenfolge Chrom-Kupfer-Silber aufge
baut, wobei zwischen den Schichten benachbarter Solarzellen
jeweils ein großer unbeschichteter Abstand von 7 mm einzu
halten ist. Eine nachfolgend aufgebrachte Schicht aus Kadmium
sulfid soll dann diese metallische Mehrfachschicht seitlich
übergreifen, wodurch der unbeschichtete Abstand zur benach
barten Solarzelle auf 4 mm schrumpft. Der Schichtaufbau kann
dabei im Querschnitt symmetrisch sein; es ist jedoch auch
möglich, die Kadmiumsulfidschicht in Querrichtung dazu nur auf
einer Seite die Metallschicht übergreifen zu lassen, während
sie auf der anderen Seite einen Teil der metallischen Mehrfach
schicht freiläßt. Die Geometrie solcher Schichtsysteme ist
durch den Verwendungszweck vorgegeben.
Bei den bisher bekannten Maskenanordnungen hat man für die
einzelnen Schichten bzw. Schichtsysteme jeweils unterschiedliche,
in sich starre Masken verwendet, die durch eine Transportein
richtung jeweils in die gewünschte relative Lage zum Substrat
gebracht werden mußten. Die Vorratshaltung derartiger Masken
in einer Vakuumbeschichtungsanlage bedingt jedoch umständ
liche konstruktive Voraussetzungen, die im Hinblick auf das
zur Verfügung stehende Volumen innerhalb von Vakuumanlagen
nur schwer zu erfüllen sind. Bei Vakuumbeschichtungsanlagen
für die Herstellung von Solarzellen auf großflächigen Sub
straten werden die Probleme noch dadurch vergrößert, daß die
einzelnen Masken in diesem Falle verhältnismäßig große
Außenabmessungen haben.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Masken
anordnung der eingangs beschriebenen Gattung anzugeben, bei
der kein komplizierter Maskenwechsel mehr erforderlich ist.
Die Lösung der gestellten Aufgabe erfolgt durch die im Kenn
zeichen des Anspruchs 1 angegebenen Merkmale.
Die erfindungsgemäße Maskenanordnung hat den Vorteil, daß eine
unterschiedliche Maskierungsbreite lediglich durch Relativ
verschiebung der Rahmen bzw. der Maskenbänder zueinander er
reichbar ist. Die geringstmögliche Maskierungsbreite ist dann
gegeben, wenn die einzelnen Maskenbänder übereinander liegen.
Die Maskierungsbreite entspricht in diesem Falle der Breite
des breitesten Maskenbandes, die jedoch vorzugsweise gleich
breit ausgebildet werden. Die maximale Maskierungsbreite ent
spricht dabei nahezu der Summe der Breiten der einzelnen Masken
bänder, wobei jedoch durch Aufrechterhaltung einer bestimmten
Überdeckung für eine zuverlässige Abschirmung des Substrats
Sorge zu tragen ist.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen des Erfindungsgegen
standes gehen aus den Unteransprüchen hervor.
Ausführungsbeispiele des Erfindungsgegenstandes sind den
Fig. 1 bis 5 zu entnehmen.
Es zeigen
Fig. 1 und 2 einen Querschnitt bzw. eine Draufsicht auf
eine Maskenanordnung in Deckungsstellung
der einzelnen Maskenbänder, die ein kreuz
förmiges Linienraster bilden,
Fig. 3 und 4 einen Querschnitt und eine Draufsicht auf
die Maskenanordnung nach Fig. 1, jedoch in
einer Stellung nach einer Diagonalverschie
bung der einzelnen Maskenbänder, so daß sich
diese nur teilweise überdecken, und
Fig. 5 einen Querschnitt durch eine Maskenanordnung
analog den Fig. 1 bis 4, die durch einen
Substrathalterahmen ergänzt ist.
Die Maskenanordnung enthält einen inneren Rahmen 1, der sich im
vorliegenden Falle - schematisch dargestellt - über Stützen 2 auf
einer Bezugsfläche abstützt und infolgedessen ortsfest angeordnet
ist. Von den Stützen ist in Fig. 1 nur eine dargestellt. Auf dem
inneren Rahmen 1 ruht, relativ zu diesem beweglich, ein
äußerer Rahmen 3. Beide Rahmen haben L-förmige Querschnitte.
An dem inneren Rahmen 1 sind, jeweils parallel zu den Rahmen
profilen, mehrere Maskenbänder 4 befestigt, die senkrecht
zur Zeichenebene verlaufen (Fig. 1 und 3), sowie gleich
falls mehrere Maskenbänder 5, die parallel zur Zeichen
ebene verlaufen (Fig. 1, 3 und 4).
An dem äußeren Rahmen 3 sind in gleicher Teilung mehrere
Maskenbänder 6 angeordnet, die senkrecht zur Zeichenebene
verlaufen (Fig. 1 und 3) sowie mehrere Maskenbänder 7, die
parallel zur Zeichenebene verlaufen (Fig. 1 bis 4). In
Fig. 2 sind die Maskenbänder 4 und 6 bzw. 5 und 7 zur
Deckung gebracht, so daß jeweils nur die oberen Maskenbänder
sichtbar sind. Aus dieser Position lassen sich die Masken
bänder durch eine Diagonalverschiebung in Richtung des
Pfeils 8 relativ zueinander in Positionen bringen, die in
Fig. 4 dargestellt sind. Dadurch verändern sich die wirk
samen Breiten A 1 und B 1 (Kleinstmaße) der Maskenbänder in die
wirksamen Breiten A 2 und B 2 (Größtmaße), wobei es sich ver
steht, daß weder die Maße A 1 und B 1 bzw. A 2 und B 2 unterein
ander gleich sein müssen, noch, daß die relative Verschiebung
in X- und Y-Richtung gleich sein muß. Der Ausdruck "Diagonal
verschiebung" bezieht sich daher auch nur ungefähr auf eine
Richtung, die durch die Kreuzungspunkte der einzelnen Masken
bänder verläuft. Die "wirksame Breite" der Maskenbänder wird
bestimmt durch ihren Abschirmeffekt gegenüber dem Substrat.
Man kann die jeweilige wirksame Breite auch als Projektion der
kongruenten oder der relativ zueinander verschobenen Masken
bänder ansehen. Aus Fig. 4 ist ersichtlich, daß sich die
Maskenbänder nur teilweise überdecken, und daß nach jeder
Seite jeweils eine Gruppe der Maskenbänder die andere Gruppe der
Maskenbänder überragt.
Die Maskenbänder bilden hierbei ein kreuzförmiges Linien
raster, wobei die einzelnen Maskenbänder Winkel von 90 Grad
miteinander einschließen. Es ist jedoch ohne weiteres mög
lich, diesen Winkel gegebenenfalls auch zu variieren.
Zur Relativverschiebung der beiden Rahmen gegeneinander ist
ein Antrieb 9 vorgesehen, dessen wesentliche Teile eine
Exzenterwelle 10 und ein Exzenter 11 sind. Die Exzenterwelle 10
ist im inneren Rahmen 1 gelagert, während der Exzenter 11 im
äußeren Rahmen 3 gelagert ist. Auf der Exzenterwelle 10 ist
unverdrehbar ein Hebel 12 befestigt, an dem eine Betätigungs
stange 13 angreift. Zweckmäßig sind mehrere derartiger Antriebe 9
vorgesehen und durch eine gemeinsame Betätigungsstange 13 mit
einander gekoppelt, wie dies aus den Fig. 2 und 4 hervor
geht.
Durch eine entsprechende Schwenkbewegung der Hebel 12 und der
Exzenter 11 um die Exzenterwelle 10 läßt sich die relative
Lage der Rahmen 1 und 3 zueinander verändern. In dem gezeigten
Ausführungsbeispiel schließen die einzelnen Maskenbänder
zwischen sich Rechtecke ein, so daß die Diagonalen unter
einem Winkel von 45 Grad zu den Rahmenprofilen verlaufen.
Die gewünschte Diagonalverschiebung läßt sich in diesem Falle
dadurch erreichen, daß die Achsen von Exzenterwelle und
Exzenter in einer Ebene liegen, die parallel zur einen
Gruppe von Maskenbändern verläuft, beispielsweise parallel
zu den Maskenbändern 5 und 7 (Fig. 2). Durch Schwenken
der Exzenterwelle 10 mittels des Hebels 12 gelangt die
Ebene, in der die Achsen von Exzenterwelle und Exzenter
liegen, in eine Lage senkrecht zu den gleichen Masken
bändern, d. h. die Exzenterwelle 10 hat sich um einen
Winkel von 90 Grad gedreht und die in Fig. 4 dargestellte
Position eingenommen. Am Ende des Weges haben sich die beiden
Rahmen 1 und 3 in einer Richtung zueinander verschoben, die
unter 45 Grad zu den Rahmenprofilen verläuft.
Es versteht sich, daß der Antrieb auch durch andere Mittel
als einen Exzenter verwirklicht werden kann, Hebel, Nocken,
Verstellspindeln etc. sind für den genannten Zweck in
gleicher Weise gut brauchbar.
In Fig. 5 sind gleiche Teile wie in Fig. 1 mit gleichen Be
zugszeichen versehen. Die Einzelheiten sind im wesentlichen
maßstabgetreu dargestellt, so daß sich die Maskenbänder 5 bis
7, die aus einer außerordentlich dünnen Metallfolie (Stahl
band) bestehen, nur in Form eines Strichs darstellen lassen.
Die Enden der Maskenbänder sind an Blattfedern 14 und 15 be
festigt, deren jenseitiges Ende mit den Rahmen 1 bzw. 3 ver
schraubt ist. Die Blattfedern verlaufen unter einem spitzen
Winkel zu den Zargen der betreffenden Rahmen 1 bzw. 3, so daß
eine elastische Aufhängung der Maskenbänder gegeben ist. Den
zur Maskenanordnung gehörenden Rahmen 1 und 3 ist noch ein Sub
strathalterahmen 16 zugeordnet, gegenüber welchem sowohl der
innere Rahmen 1 als auch der äußere Rahmen 3 der Masken
anordnung relativ verschiebbar sind, und zwar zweckmäßig
durch einen Doppelexzenter. Der Substrathalterahmen ist
mit einer Substratauflage 17 für ein Substrat 18 versehen.
Zum Zwecke einer Gewichtsersparnis befinden sich in den
einzelnen Rahmen kreisförmige Ausnehmungen, die nicht näher
bezeichnet sind.
Das Ausführungsbeispiel zeigt eine Maskenanordnung mit
zwei Rahmen für die einzelnen Maskenbänder. Es ist jedoch
ohne weiteres möglich, die Zahl der Rahmen zu vergrößern,
um dadurch die Variationsbreite der Vorrichtung zu erhöhen.
Die Maskenanordnung kann bei einer Vielzahl von Be
schichtungsverfahren angewandt werden. Bevorzugt ist jedoch
der Einsatz bei Vakuumbeschichtungsverfahren zur Herstellung
dünner Schichten, wie beispielsweise durch Aufdampfen und/oder
Kathodenzerstäubung.
Claims (5)
1. Maskenanordnung, insbesondere für Vakuumbeschichtungs
vorrichtungen, durch welche bei in mehreren Arbeits
gängen auf ein Substrat aufgebrachten Schichten unter
schiedlich breite streifenförmige Zonen des Substrats
vom Beschichtungsmaterial der betreffenden Schicht
freihaltbar sind, gekennzeichnet durch mindestens
zwei relativ zueinander bewegliche Rahmen (1, 2)
an denen Maskenbänder (5, 5, 6, 7) angeordnet sind,
die in mindestens einer Stellung der Rahmen zueinander
zur Deckung bringbar sind, sowie durch einen An
trieb (9) durch welchen die Rahmen relativ zuein
ander in eine solche Stellung bringbar sind, in der
sich die Maskenbänder beider Rahmen nur teilweise über
decken.
2. Maskenanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Maskenbänder (5, 5, 6, 7) beider Rahmen (1, 3)
in Deckungsstellung kongruente, kreuzförmige Linienraster
bilden und daß die Rahmen in Diagonalrichtung des Linien
rasters zueinander verschiebbar sind.
3. Maskenanordnung nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die Maskenbänder (4, 5, 6, 7) aus
elastisch über die Rahmen (1, 3) gespannten Metallbändern
bestehen.
4. Maskenanordnung nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch
gekennzeichnet, daß zwischen den Rahmen mindestens
ein Exzenterantrieb (10, 11) angeordnet ist, durch
welchen die Diagonalverschiebung nach einer Teilum
drehung des Exzenters (11) erreichbar ist.
5. Maskenanordnung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet,
daß auf mindestens einer der Rahmenseiten mehrere
Antriebe (9) angeordnet sind, die durch eine Betätigungs
stange (13) miteinander verbunden sind.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19803008325 DE3008325A1 (de) | 1980-03-05 | 1980-03-05 | Maskenanordnung, insbesondere fuer vakuumbeschichtungsvorrichtungen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19803008325 DE3008325A1 (de) | 1980-03-05 | 1980-03-05 | Maskenanordnung, insbesondere fuer vakuumbeschichtungsvorrichtungen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3008325A1 DE3008325A1 (de) | 1981-09-17 |
DE3008325C2 true DE3008325C2 (de) | 1987-05-27 |
Family
ID=6096264
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19803008325 Granted DE3008325A1 (de) | 1980-03-05 | 1980-03-05 | Maskenanordnung, insbesondere fuer vakuumbeschichtungsvorrichtungen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3008325A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104233187A (zh) * | 2013-06-14 | 2014-12-24 | 三星显示有限公司 | 沉积掩模 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4988424A (en) * | 1989-06-07 | 1991-01-29 | Ppg Industries, Inc. | Mask and method for making gradient sputtered coatings |
TWI412621B (zh) * | 2004-07-16 | 2013-10-21 | Applied Materials Inc | 具有遮蔽板的陰影框 |
US20110065282A1 (en) * | 2009-09-11 | 2011-03-17 | General Electric Company | Apparatus and methods to form a patterned coating on an oled substrate |
-
1980
- 1980-03-05 DE DE19803008325 patent/DE3008325A1/de active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104233187A (zh) * | 2013-06-14 | 2014-12-24 | 三星显示有限公司 | 沉积掩模 |
CN104233187B (zh) * | 2013-06-14 | 2018-10-23 | 三星显示有限公司 | 沉积掩模 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3008325A1 (de) | 1981-09-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2655498C2 (de) | Abstandshalterung für Gasentladungsbildschirme | |
EP0254145A1 (de) | Transporteinrichtung mit Rollensystemen für Vakuum-Beschichtungsanlagen | |
EP1840242A1 (de) | Vakuumtransportvorrichtung mit beweglicher Führungsschiene | |
EP0054827A1 (de) | Brennstabbündel für einen Siedewasserreaktor | |
DE2146985A1 (de) | Anordnung zur Herstellung von elektronischen Bauelementen | |
EP0476219A2 (de) | Vorrichtung für den Transport von Substraten | |
EP0311699A1 (de) | Transporteinrichtung zur Umlenkung von Stückgütern in einer Ebene | |
EP1561837A1 (de) | Bandbeschichtungsanlage mit einer Vakuumkammer und einer Beschichtungswalze | |
DE3644743A1 (de) | Waelzlager-geradefuehrung | |
DE3602369A1 (de) | Verschlusstor fuer eine vakuum-behandlungsvorrichtung | |
DE3008325C2 (de) | ||
DE2922473A1 (de) | Elektrochrome anzeigevorrichtung | |
DE102015000003A1 (de) | Baubehälter für Produktionsanlagen zur Herstellung von Bauteilen in Schichtbauverfahren | |
DE3024985A1 (de) | Schieberverschluss fuer giesspfannen o.ae. | |
EP0042920B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von auf einem Träger aufgebrachten Leiterbahnen | |
DE2113198A1 (de) | Anzeigevorrichtung oder -tafel | |
DE4418500A1 (de) | Brennelement für einen Siedewasserreaktor | |
DE102019135208B4 (de) | Druckeinheit, Druckvorrichtung und Verfahren zum Parallelextrudieren von Druckmedium auf ein Substrat | |
DE1203075B (de) | Getriebegehaeuse | |
WO1998048083A2 (de) | Vorrichtung zum durchführen kontinuierlicher elektrolytischer abscheidungsprozesse | |
DE10355682B4 (de) | Trägeranordnung | |
EP0180205A1 (de) | Ablenksystem für Farbbildröhren | |
DE3021509C2 (de) | ||
DE3321734A1 (de) | Vorrichtung zum veraendern der lichtdurchlaessigkeit insbesondere eines gewaechshausdaches | |
DE19607370A1 (de) | Schutzabdeckung für Maschinen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OM8 | Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law | ||
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: LEYBOLD AG, 6450 HANAU, DE |
|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |